本发明涉及的是半导体激光器结设计领域,尤其是一种锥形半导体激光器。
背景技术:
近年来,高功率半导体激光芯片(ld)发展迅速,作为泵浦光源广泛应用于民用和军事领域,特别是作为光纤激光器泵浦源近年来发展势头迅猛。随着光纤激光器对半导体激光泵浦源输出亮度需求的不断提升,而传统的尾纤泵浦源耦合半导体激光芯片的数量接近物理极限,继续提高输出亮度只能提升芯片的亮度。另一方面,通过优质高效率共孔径合束,实现高亮度半导体激光直接输出,也是近年来研究新一代小型化、轻量化高功率激光光源的重要途径之一。
近衍射极限激光是最理想的光纤激光器泵浦源,但由于多种原因半导体激光芯片在慢轴方向光束质量较差。目前100μm宽的9xxnm波段的高功率条形激光器单个芯片连续输出功率达到了15w-30w,电-光转换效率达到了65%以上,然而慢轴光束质量只能达到10-20倍衍射极限(m2=10-20),对应的慢轴亮度只能达到10mw/cm2·sr的水平。除了光束质量的提升,亮度的提升还包括提高单芯片的输出功率。受腔面损伤、非线性效应等的影响,目前100μm的宽条芯片最高输出功率被限制在30w左右的水平,继续提高输出功率迫切需要在芯片设计上开展创新性研究。如果单芯片慢轴光束质量达到近衍射极限,同时输出功率提高到百瓦级,那么半导体激光单芯片的亮度可以提升两个量级。
技术实现要素:
本发明的目的,就是针对现有技术所存在的不足,而提供一种锥形半导体激光器的技术方案,该方案可实现激光的单向放大,前腔面无反馈结构使得光束质量在放大过程中不易恶化,可大大增加锥形区的长度,达到既可以输出较高的功率,又可以保持近衍射极限的光束质量,可实现超高亮度的激光输出。
本方案是通过如下技术措施来实现的:
一种锥形半导体激光器,包括有脊形区和锥形区;脊形区产生近衍射极限的种子激光,种子激光进入锥形区放大输出;锥形区的前腔面,即与脊形区连接的一端的腔面无反馈激光,锥形区单向放大种子激光。
作为本方案的优选:锥形区的前腔面设置有倾斜腔面结构;倾斜腔面上镀有抗反射膜。
作为本方案的优选:锥形区与脊形区的连接端位于脊形区的一侧设置有片上dbr光栅结构。
作为本方案的优选:激光器后腔面蒸镀高反射介质膜,前腔面蒸镀抗反射介质膜。
作为本方案的优选:脊形区为脊形波导结构。
作为本方案的优选:锥形区为锥形增益波导结构。
作为本方案的优选:锥形区和脊形区的长度之比大于2。
本方案的有益效果可根据对上述方案的叙述得知,由于在该方案中采用脊形区发射近衍射极限的种子激光,锥形区的前腔面,即与脊形区连接的一端的腔面无反馈激光,使锥形区单向放大种子激光,能够保证在放大过程中光束质量不易恶化,可大大增加锥形区的长度,达到既可以输出较高的功率,又可以保持近衍射极限的光束质量,可实现超高亮度的激光输出。
由此可见,本发明与现有技术相比,具有实质性特点和进步,其实施的有益效果也是显而易见的。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
图中,101为激光器后腔面,102为脊形波导,103为dbr,104为锥形波导,105为激光器前腔面,106为锥形区前腔面。
具体实施方式
本说明书中公开的所有特征,或公开的所有方法或过程中的步骤,除了互相排斥的特征和/或步骤以外,均可以以任何方式组合。
本说明书(包括任何附加权利要求、摘要和附图)中公开的任一特征,除非特别叙述,均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即,除非特别叙述,每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。
如图所示,本方案包括有脊形区和锥形区;脊形区产生近衍射极限的种子激光,种子激光进入锥形区放大输出;锥形区的前腔面,即与脊形区连接的一端的腔面无反馈激光,锥形区单向放大种子激光。锥形区的前腔面设置有倾斜腔面结构;倾斜腔面上镀有抗反射膜。锥形区与脊形区的连接端位于脊形区的一侧设置有片上dbr光栅结构。激光器后腔面蒸镀高反射介质膜,前腔面蒸镀抗反射介质膜。脊形区为脊形波导结构。锥形区为锥形增益波导结构。
实施例:
应用在gaas基980nm激光器:
外延结构:
衬底层350μm,下限制层700nm,波导层2400nm,上限制层700nm,接触层200nm。
芯片结构:
1)脊形区长度:1mm;
2)脊形区宽度:5μm;
3)脊形刻蚀深度:1.0𝛍m;
4)布拉格反射镜:刻蚀深度1.3𝛍m,周期300nm,对数1000对;
5)锥形区角度:4度;
6)锥形区长度:4mm;
7)锥形区刻蚀深度:200nm;
8)前腔面腐蚀:乙二醇:30%磷酸:双氧水=20:5:1,腐蚀深度3.5μm;
9)腔面镀膜:后腔面镀高反射膜反射率为98%,前腔面镀抗反射膜反射率为0.1%。
本发明并不局限于前述的具体实施方式。本发明扩展到任何在本说明书中披露的新特征或任何新的组合,以及披露的任一新的方法或过程的步骤或任何新的组合。