1.一种晶圆支撑台，其在具有晶圆载置面的圆板状的陶瓷基体的内部埋设有rf电极和加热电极，
上述晶圆支撑台的特征在于，
上述rf电极由设于将上述晶圆载置面分割成多个而得到的每个区的多个rf区电极构成，
上述多个rf区电极分成相距晶圆载置面的距离不同的至少两层而设置，
上述加热电极由设于将上述晶圆载置面以与上述rf区电极相同的方式或不同的方式分割成多个而得到的每个区的多个加热区电极构成，
上述多个rf区电极通过设于上述陶瓷基体的背面的电极端子而与多个rf区电极用导体分别独立连接，
上述多个加热区电极通过设于上述陶瓷基体的上述背面的电极端子而与多个加热区电极用导体分别独立连接。
2.根据权利要求1所述的晶圆支撑台，其特征在于，
就上述rf电极而言，作为上述多个rf区电极，包括与上述陶瓷基体为同心圆的圆形电极或将上述圆形电极分割成多个而得到的电极，还包括在上述圆形电极或将上述圆形电极分割成多个而得到的电极的外侧与上述陶瓷基体为同心圆的一个以上的圆环电极或将上述圆环电极的至少一个分割成多个而得到的电极。
3.根据权利要求1或2所述的晶圆支撑台，其特征在于，
从上述晶圆载置面观察上述陶瓷基体时，在上述rf区电极彼此之间的间隙配置有至少一个上述加热区电极。
4.根据权利要求3所述的晶圆支撑台，其特征在于，
配置于上述间隙的上述加热区电极为与上述间隙的形状相同的形状的间隙加热区电极。
5.根据权利要求1或2所述的晶圆支撑台，其特征在于，
配置为在从上述晶圆载置面观察上述陶瓷基体时，上述多个rf区电极的形状和上述多个加热区电极的形状一致。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的晶圆支撑台，其特征在于，
上述多个rf区电极包括与上述陶瓷基体为同心圆的圆形电极和在上述圆形电极的外侧与上述陶瓷基体为同心圆的一个以上的圆环电极，
构成上述加热电极的上述多个加热区电极设于同一平面上，
就上述多个rf区电极相距上述加热电极的高度而言，越靠近上述陶瓷基体的中心的rf区电极越高。
7.根据权利要求1～5中任一项所述的晶圆支撑台，其特征在于，
上述多个rf区电极包括与上述陶瓷基体为同心圆的圆形电极和在上述圆形电极的外侧与上述陶瓷基体为同心圆的一个以上的圆环电极，
构成上述加热电极的上述多个加热区电极设于同一平面上，
就上述多个rf区电极相距上述加热电极的高度而言，越靠近上述陶瓷基体的中心的rf区电极越低。
8.根据权利要求6或7所示的晶圆支撑台，其特征在于，
各rf区电极上的上述陶瓷基体的厚度相同。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的晶圆支撑台，其特征在于，
具备接合于上述陶瓷基体的与上述晶圆载置面相反的一侧的面的中央区域的中空的陶瓷轴，
上述多个rf区电极用导体及上述加热电极用导体配置于上述陶瓷轴的内部。