1.一种用于等离子体室的等离子体约束环，其包含：
用于所述等离子体室的所述等离子体约束环的环形元件，所述环形元件环绕所述等离子体室中的衬底支撑组件，并沿着被放置在所述等离子体室中的所述衬底支撑组件上的衬底所在的平面配置，所述环形元件包含多个孔洞；以及
用于所述等离子体室中的所述等离子体约束环的圆柱形元件，所述圆柱形元件从所述环形元件的外缘沿与被放置在所述等离子体室中的所述衬底支撑组件上的所述衬底所在的所述平面垂直的方向延伸，
其中所述等离子体约束环为单件式的。
2.根据权利要求1所述的等离子体约束环，其还包含位于所述圆柱形元件的远端的多个螺纹洞，以接收用于将所述圆柱形元件附接至所述等离子体室的部件的螺钉。
3.根据权利要求2所述的等离子体约束环，其中所述部件包含所述等离子体室的电极。
4.根据权利要求1所述的等离子体约束环，其中所述环形元件、所述衬底支撑组件以及耦合至所述圆柱形元件的远端的电极限定所述等离子体室中的容积，在所述衬底于所述等离子体室中进行处理期间，等离子体被约束在所述容积中。
5.根据权利要求4所述的等离子体约束环，其中所述圆柱形元件和所述电极的外径相等。
6.根据权利要求1所述的等离子体约束环，其中所述圆柱形元件是厚度3-30mm、高度10-100mm的圆柱形壁。
7.一种系统，其包含：
根据权利要求1所述的等离子体约束环；
第一电极，其被置于所述衬底支撑组件中，所述第一电极被配置成平行于被放置在所述衬底支撑组件上的所述衬底所在的所述平面，其中所述环形元件环绕所述第一电极；以及
第二电极，其被配置成与所述第一电极相距一定高度并且与所述第一电极平行，沿着所述平面朝向所述圆柱形元件径向向外延伸，并且能连接至所述圆柱形元件的远端。
8.根据权利要求7所述的系统，其中所述圆柱形元件和所述第二电极的外径相等。
9.根据权利要求1所述的等离子体约束环，其中所述孔洞是径向延伸的缝隙。
10.根据权利要求1所述的等离子体约束环，其中所述孔洞是利用研磨水刀切割处理制成的。