一种埋栅式光伏电池片的制作方法

本实用新型属于光伏电池片技术领域，特别是涉及一种埋栅式光伏电池片。

背景技术：

目前技术上主要希望通过降低银浆的覆盖区域来改善这一状况，但接触面积减小后会影响电流的收集效果以及接触的电阻的阻值，因此需要提升前电极的高宽比，这样可以在减小遮挡面积的前提下保证电极和半导体之间的接触电阻。

但就目前而言，丝网印刷工序受行业技术所约束，太阳能电池印刷网版线宽已经几乎接近极限，所以必须通过对工艺流程进行改造，在保证电极在良好的导电性能前提下尽可能减少遮挡面积。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种埋栅式光伏电池片，通过设置第一激光刻槽和第二激光刻槽，并在第一激光刻槽和第二激光刻槽内设置电镀金属制成的栅线，能够在不增加表面遮光面积的前提下降低栅线与硅片的接触电阻，不仅能增加栅线高宽比，解决了现有的光伏电池片发电效率不足的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型是通过以下技术方案实现的：

本实用新型为一种埋栅式光伏电池片，包括p型硅板，所述p型硅板上表面设有n++层，所述n++层上表面设有n+层，所述n+层上表面设有氧化层；

所述n++层上、n+层上和氧化层上均开设有第一激光刻槽，所述p型硅板上表面设有第二激光刻槽，所述第一激光刻槽和第二激光刻槽位置相对且连通；

所述第一激光刻槽和第二激光刻槽内设有栅线，所述栅线为电镀镍或电镀铜或电镀银或电镀锡。

进一步地，所述第一激光刻槽为贯通槽结构，所述第二激光刻槽为盲槽结构，所述栅线顶面与氧化层上表面平齐。

进一步地，所述p型硅板下表面设有p+层，所述p+层下表面设有金属极板。

进一步地，所述p型硅板上下表面均设有若干凸起，所述凸起为多边锥形结构，所述氧化层、n+层和n++层均与p型硅板上表面的凸起依次适配，所述p+层和金属极板均与p型硅板下表面的凸起依次适配。

进一步地，所述第一激光刻槽和第二激光刻槽的宽度均在20-25um的范围，所述第二激光刻槽的深度在10-15um的范围。

本实用新型具有以下有益效果：

1、本实用新型通过设置第一激光刻槽和第二激光刻槽，并在第一激光刻槽和第二激光刻槽内设置电镀镍或电镀铜或电镀银或电镀锡，能够在不增加表面遮光面积的前提下降低栅线与硅片的接触电阻，不仅能增加栅线高宽比，同时使栅线更好的收集电流，提高了电池的发电效率。

2、本实用新型通过激光刻槽机刻出第一激光刻槽和第二激光刻槽，便于控制刻槽的深度和宽度，从而保证光伏电池片的使用效果，同时在本实用新型的光伏电池板安装完毕后再进行统一刻槽，方便生产。

当然，实施本实用新型的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的一种埋栅式光伏电池片的结构示意图；

图2为图1中a处的局部放大图；

附图中，各标号所代表的部件列表如下：

1-p型硅板，2-n++层，3-n+层，4-氧化层，5-第一激光刻槽，6-第二激光刻槽，7-栅线，8-p+层，9-金属极板，10-凸起。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-2所示，本实用新型为一种埋栅式光伏电池片，包括p型硅板1，p型硅板1上表面设有n++层2，n++层2上表面设有n+层3，n+层3上表面设有氧化层4；

n++层2上、n+层3上和氧化层4上均开设有第一激光刻槽5，p型硅板1上表面设有第二激光刻槽6，第一激光刻槽5和第二激光刻槽6位置相对且连通；

第一激光刻槽5和第二激光刻槽6内设有栅线7，栅线7为电镀镍或电镀铜或电镀银或电镀锡。

其中如图1-2所示，第一激光刻槽5为贯通槽结构，第二激光刻槽6为盲槽结构，栅线7顶面与氧化层4上表面平齐。

其中如图1所示，p型硅板1下表面设有p+层8，p+层8下表面设有金属极板9。

其中如图1-2所示，p型硅板1上下表面均设有若干凸起10，凸起10为多边锥形结构，氧化层4、n+层3和n++层2均与p型硅板1上表面的凸起10依次适配，p+层8和金属极板9均与p型硅板1下表面的凸起10依次适配。

其中，第一激光刻槽5和第二激光刻槽6的宽度均在20-25um的范围，第二激光刻槽6的深度在10-15um的范围。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上公开的本实用新型优选实施例只是用于帮助阐述本实用新型。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该实用新型仅为所述的具体实施方式。显然，根据本说明书的内容，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本实用新型的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本实用新型。本实用新型仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

技术特征：

1.一种埋栅式光伏电池片，包括p型硅板（1），所述p型硅板（1）上表面设有n++层（2），所述n++层（2）上表面设有n+层（3），所述n+层（3）上表面设有氧化层（4），其特征在于：

所述n++层（2）上、n+层（3）上和氧化层（4）上均开设有第一激光刻槽（5），所述p型硅板（1）上表面设有第二激光刻槽（6），所述第一激光刻槽（5）和第二激光刻槽（6）位置相对且连通；

所述第一激光刻槽（5）和第二激光刻槽（6）内设有栅线（7），所述栅线（7）为电镀镍或电镀铜或电镀银或电镀锡。

2.根据权利要求1所述的一种埋栅式光伏电池片，其特征在于，所述第一激光刻槽（5）为贯通槽结构，所述第二激光刻槽（6）为盲槽结构，所述栅线（7）顶面与氧化层（4）上表面平齐。

3.根据权利要求1所述的一种埋栅式光伏电池片，其特征在于，所述p型硅板（1）下表面设有p+层（8），所述p+层（8）下表面设有金属极板（9）。

4.根据权利要求3所述的一种埋栅式光伏电池片，其特征在于，所述p型硅板（1）上下表面均设有若干凸起（10），所述凸起（10）为多边锥形结构，所述氧化层（4）、n+层（3）和n++层（2）均与p型硅板（1）上表面的凸起（10）依次适配，所述p+层（8）和金属极板（9）均与p型硅板（1）下表面的凸起（10）依次适配。

5.根据权利要求1所述的一种埋栅式光伏电池片，其特征在于，所述第一激光刻槽（5）和第二激光刻槽（6）的宽度均在20-25um的范围，所述第二激光刻槽（6）的深度在10-15um的范围。

技术总结
本实用新型公开了一种埋栅式光伏电池片，涉及光伏电池片技术领域。本实用新型包括P型硅板，P型硅板上表面设有N++层，N++层上表面设有N+层，N+层上表面设有氧化层，N++层上、N+层上和氧化层上均开设有第一激光刻槽，P型硅板上表面设有第二激光刻槽，第一激光刻槽和第二激光刻槽位置相对且连通，第一激光刻槽和第二激光刻槽内设有栅线，栅线为电镀镍或电镀铜或电镀银或电镀锡。本实用新型通过设置第一激光刻槽和第二激光刻槽，并在第一激光刻槽和第二激光刻槽内设置电镀金属制成的栅线，能够在不增加表面遮光面积的前提下降低栅线与硅片的接触电阻，不仅能增加栅线高宽比，解决了现有的光伏电池片发电效率不足的问题。

技术研发人员：赵卫东;杨冬琴;张敏健;李永仓;费萌;汪梦彪
受保护的技术使用者：江苏东鋆光伏科技有限公司
技术研发日：2020.04.27
技术公布日：2020.12.01