一种用于薄膜生长设备的偏置射频和直流电源的输送装置的制作方法

1.本发明涉及偏置射频和直流电源的输送技术领域，更具体为一种用于薄膜生长设备的偏置射频和直流电源的输送装置。


背景技术：

2.高密度等离子体化学气相淀积常常使用静电吸盘来给予硅片吸附与冷却，同时在薄膜生长反应过程中，偏差匹配器会通过电容耦合的方式给与静电吸盘一个偏置电压，使其对等离子体有一个垂直向下的驱动力。
3.连接在静电吸盘下方的偏置射频/直流电源的输送装置，在与偏置匹配器连接时，因为长时间电流输送接头处容易产生电化学腐蚀现象严重的话会腐蚀到铜条部分，造成静电吸盘无法工作，通常情况下是周期性的检查与更换。
4.无论是吸附硅片所使用的直流电还是匹配射频，都是偏置匹配器通过此装置传送到静电吸盘上，由于装置是通过螺丝拧紧连接接头然后插进偏置匹配器接头处的，长期运行发热无法控制连接处的贴合度，容易发生电腐蚀现象，严重会将铜条一起腐蚀掉，更换起来麻烦，需要将腔体运行完清洁程序后，打开腔体，将静电吸盘完全拆解后才可以取出更换，此过程大概需要两三个小时，非常浪费时间。因此，需要提供一种新的技术方案给予解决。


技术实现要素：

5.本发明的目的在于提供一种用于薄膜生长设备的偏置射频和直流电源的输送装置，解决了无论是吸附硅片所使用的直流电还是匹配射频，都是偏置匹配器通过此装置传送到静电吸盘上，由于装置是通过螺丝拧紧连接接头然后插进偏置匹配器接头处的，长期运行发热无法控制连接处的贴合度，容易发生电腐蚀现象，严重会将铜条一起腐蚀掉，更换起来麻烦，需要将腔体运行完清洁程序后，打开腔体，将静电吸盘完全拆解后才可以取出更换，此过程大概需要两三个小时，非常浪费时间的问题。
6.为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种用于薄膜生长设备的偏置射频和直流电源的输送装置，包括：静电吸盘，所述静电吸盘的上部设置有连接头与静电吸盘之间固定连接，所述连接头的内部设置有内螺纹孔，所述连接头的上部设置有铜棍且铜棍的顶部设置有插接头，所述插接头与偏置匹配器之间相连接，所述铜棍的底部设置有螺纹柱且螺纹柱与内螺纹孔之间相互匹配。
7.作为本发明的一种优选实施方式，所述铜棍呈圆柱形结构设置且插接头与铜棍之间呈一个整体。
8.作为本发明的一种优选实施方式，所述螺纹柱的直径小于铜棍且与铜棍之间一体成型。
9.作为本发明的一种优选实施方式，所述更换方法包括如下步骤：
10.步骤1：将接头与铜棍之间整体合并，减少腐蚀部分；
11.步骤2：整体部分从铜条更换成铜棍，横截面积变大，可以满足更大的负荷电流，同时散热性能更好，减少发生腐蚀的几率；
12.步骤3：静电吸盘端与铜棍分隔出一个连接头，采用螺纹设计，既不影响贴合度，也方便拆卸，将静电吸盘端分离，使连接头依旧可以固定在静电吸盘背面，铜棍通过螺纹柱可以拧进去，这样如果铜棍另一头发生腐蚀，可以直接拧下来更换，不需要打开腔体，分解静电吸盘。
13.与现有技术相比，本发明的有益效果如下：
14.本发明将铜条部分更换成铜棍，其横截为圆形，面积更大，可以满足更大的负荷电流，同时散热性能更好，减少发生电腐蚀的几率；偏置匹配器端将接头和铜棍合体，这样减少了一个腐蚀部位；将静电吸盘端做成分离结构，使得连接头依旧可以固定在静电吸盘背面，另一端可以通过螺纹拧进去，这样如果铜棍另一头发生腐蚀，可以直接拧下来更换，不需要打开腔体，分解静电吸盘，该装置减少腐蚀，便于更换，节省时间，方便操作，提高作业效率。
附图说明
15.图1为本发明现有技术结构示意图；
16.图2为本发明改进后结构示意图。
17.图中：1、静电吸盘；2、连接头；3、内螺纹孔；4、铜棍；5、插接头；6、螺纹柱。
具体实施方式
18.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
19.请参阅图2，本发明提供一种技术方案：一种用于薄膜生长设备的偏置射频和直流电源的输送装置，包括：静电吸盘1，所述静电吸盘1的上部设置有连接头2与静电吸盘1之间固定连接，所述连接头2的内部设置有内螺纹孔3，所述连接头2的上部设置有铜棍4且铜棍4的顶部设置有插接头5，所述插接头5与偏置匹配器之间相连接，所述铜棍4的底部设置有螺纹柱6且螺纹柱6与内螺纹孔3之间相互匹配，将铜条部分更换成铜棍3，其横截为圆形，面积更大，可以满足更大的负荷电流，同时散热性能更好，减少发生电腐蚀的几率；偏置匹配器端将接头和铜棍3合体，这样减少了一个腐蚀部位；将静电吸盘1端做成分离结构，使得连接头依旧可以固定在静电吸盘1背面，另一端可以通过螺纹拧进去，这样如果铜棍3另一头发生腐蚀，可以直接拧下来更换，不需要打开腔体，分解静电吸盘1，该装置减少腐蚀，便于更换，节省时间，方便操作，提高作业效率。
20.进一步改进的，如图2所示：所述铜棍4呈圆柱形结构设置且插接头5与铜棍4之间呈一个整体，此种设置减少了一个腐蚀部件，避免了更换。
21.进一步改进的，如图2所示：所述螺纹柱6的直径小于铜棍4且与铜棍4之间一体成型，螺纹的连接方式既保证了贴合度，同时保证了安装的稳定性。
22.进一步改进的，如图2所示：所述更换方法包括如下步骤：
23.步骤1：将接头与铜棍3之间整体合并，减少腐蚀部分；
24.步骤2：整体部分从铜条更换成铜棍3，横截面积变大，可以满足更大的负荷电流，同时散热性能更好，减少发生腐蚀的几率；
25.步骤3：静电吸盘1端与铜棍3分隔出一个接口，采用双螺纹设计，既不影响贴合度，也方便拆卸，将静电吸盘1端分离，使螺纹连接柱2依旧可以固定在静电吸盘1背面，铜棍3通过外套管4可以拧进去，这样如果铜棍3另一头发生腐蚀，可以直接拧下来更换，不需要打开腔体，分解静电吸盘1。
26.本发明将铜条部分更换成铜棍3，其横截为圆形，面积更大，可以满足更大的负荷电流，同时散热性能更好，减少发生电腐蚀的几率；偏置匹配器端将接头和铜棍3合体，这样减少了一个腐蚀部位；将静电吸盘1端做成分离结构，使得连接头依旧可以固定在静电吸盘1背面，另一端可以通过螺纹拧进去，这样如果铜棍3另一头发生腐蚀，可以直接拧下来更换，不需要打开腔体，分解静电吸盘1，该装置减少腐蚀，便于更换，节省时间，方便操作，提高作业效率。
27.最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。


技术特征：
1.一种用于薄膜生长设备的偏置射频和直流电源的输送装置，其特征在于：包括：静电吸盘(1)，所述静电吸盘(1)的上部设置有连接头(2)与静电吸盘(1)之间固定连接，所述连接头(2)的内部设置有内螺纹孔(3)，所述连接头(2)的上部设置有铜棍(4)且铜棍(4)的顶部设置有插接头(5)，所述插接头(5)与偏置匹配器之间相连接，所述铜棍(4)的底部设置有螺纹柱(6)且螺纹柱(6)与内螺纹孔(3)之间相互匹配。2.根据权利要求1所述的一种用于薄膜生长设备的偏置射频和直流电源的输送装置，其特征在于：所述铜棍(4)呈圆柱形结构设置且插接头(5)与铜棍(4)之间呈一个整体。3.根据权利要求1所述的一种用于薄膜生长设备的偏置射频和直流电源的输送装置，其特征在于：所述螺纹柱(6)的直径小于铜棍(4)且与铜棍(4)之间一体成型。4.根据权利要求1所述的一种用于薄膜生长设备的偏置射频和直流电源的输送装置的更换方法，其特征在于：所述更换方法包括如下步骤：步骤1：将接头与铜棍之间整体合并，减少腐蚀部分；步骤2：整体部分从铜条更换成铜棍，横截面积变大，可以满足更大的负荷电流，同时散热性能更好，减少发生腐蚀的几率；步骤3：静电吸盘端与铜棍分隔出一个连接头，采用螺纹设计，既不影响贴合度，也方便拆卸，将静电吸盘端分离，使连接头依旧可以固定在静电吸盘背面，铜棍通过螺纹柱可以拧进去，这样如果铜棍另一头发生腐蚀，可以直接拧下来更换，不需要打开腔体，分解静电吸盘。

技术总结
本发明公开了一种用于薄膜生长设备的偏置射频和直流电源的输送装置，包括：静电吸盘，所述静电吸盘的上部设置有连接头与静电吸盘之间固定连接，所述连接头的内部设置有内螺纹孔，所述连接头的上部设置有铜棍且铜棍的顶部设置有插接头，所述插接头与偏置匹配器之间相连接。本发明将铜条部分更换成铜棍，其横截为圆形，面积更大，可以满足更大的负荷电流，同时散热性能更好，减少发生电腐蚀的几率；偏置匹配器端将接头和铜棍合体，这样减少了一个腐蚀部位；将静电吸盘端做成分离结构，使得连接头依旧可以固定在静电吸盘背面，另一端可以通过螺纹拧进去，这样如果铜棍另一头发生腐蚀，可以直接拧下来更换，不需要打开腔体，分解静电吸盘。吸盘。吸盘。


技术研发人员：蔡宇航 金補哲 叶新浩 厉冰峰
受保护的技术使用者：盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司
技术研发日：2021.11.28
技术公布日：2022/2/24