一种晶圆抛光用金属污染物去除装置的制作方法

1.本实用新型涉及一种晶圆抛光用金属污染物去除装置，属于晶圆加固技术领域。


背景技术：

2.在现有的技术中，晶圆在抛光后清洗表面的金属污染物时，晶圆在清洗时，限位性较差，容易出现移位的现象，且当清洗完成后，晶圆是通过上当的吸盘吸附，并远离转盘架，且因清洗剂的原因，晶圆的底部容易吸附在清洗架上，从而导致吸盘无法方便的将晶圆吸附住，因此本实用新型提出一种晶圆抛光用金属污染物去除装置。


技术实现要素：

3.本实用新型提供一种晶圆抛光用金属污染物去除装置，用于解决上述问题。
4.为了解决上述技术问题，本实用新型提供了如下的技术方案：
5.本实用新型一种晶圆抛光用金属污染物去除装置，包括压料机构，所述压料机构下方设置有顶料机构，所述顶料机构的顶部放置有晶圆本体；
6.所述压料机构包括圈架，所述圈架四角均插设有螺栓，所述圈架的底部两端分别固定有一号压料杆和二号压料杆；
7.所述顶料机构包括转盘架，所述转盘架内开凿有两个l型顶槽，两个所述l型顶槽的内部底端均插设有顶料块，两个所述l型顶槽的顶端均插设有l型顶杆，两个所述顶料块和l型顶杆相靠近的一端分别位于l型顶槽内部与活动轴的一端转动连接，两个所述顶料块远离活动轴的一端均位于l型顶槽内部通过转动轴与转盘架活动连接，所述转盘架顶部两侧的挂耳处均通过扭簧与l型压块底部一端扭力连接，两个所述l型压块相互靠近的一侧均固定有防滑橡胶。
8.优选的，两个所述一号压料杆的位置分别与两个l型压块远离防滑橡胶的一端位置相垂直。
9.优选的，两个所述二号压料杆的位置分别与两个顶料块相互远离一端的顶部位置相垂直。
10.优选的，两个所述二号压料杆的底部分别至位置相匹配的顶料块顶部之间的距离等于两个一号压料杆底部至l型压块远离防滑橡胶一侧顶部之间的距离。
11.优选的，两个所述防滑橡胶相靠近侧壁之间的距离等于晶圆本体两端之间的距离。
12.优选的，两个所述顶料块和l型顶杆的外径尺寸均小于l型顶槽在其相应位置的内径尺寸。
13.本实用新型所达到的有益效果是：两个防滑橡胶因扭簧的扭力夹持住晶圆本体的两侧，避免转盘架在转动的过程中出现移位的情况，当一号压料杆下降顶住l型压块远离防滑橡胶的一端，两个防滑橡胶远离晶圆本体，晶圆本体失去了限位性，同时两个二号压料杆的底部顶住顶料块的顶部，两个顶料块通过转动轴、活动轴的活动在l型顶槽内部将l型顶
杆轻微顶出，使晶圆本体和转盘架之间被顶住缝隙，方便吸盘的吸附取料工作。
附图说明
14.附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：
15.图1是本实用新型的结构示意图；
16.图2是本实用新型未取料时的侧视结构示意图；
17.图3是本实用新型取料时的侧视结构示意图。
18.图中：1、压料机构；11、圈架；12、螺栓；13、一号压料杆；14、二号压料杆；2、顶料机构；21、转盘架；22、扭簧；23、l型压块；24、防滑橡胶；25、l型顶槽；26、转动轴；27、活动轴；28、l型顶杆；29、顶料块；3、晶圆本体。
具体实施方式
19.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
20.实施例：如图1-3所示，一种晶圆抛光用金属污染物去除装置，包括压料机构1，压料机构1下方设置有顶料机构2，顶料机构2的顶部放置有晶圆本体3；
21.压料机构1包括圈架11，圈架11四角均插设有螺栓12，圈架11的底部两端分别固定有一号压料杆13和二号压料杆14；
22.顶料机构2包括转盘架21，转盘架21内开凿有两个l型顶槽25，两个l型顶槽25的内部底端均插设有顶料块29，两个l型顶槽25的顶端均插设有l型顶杆28，两个顶料块29和l型顶杆28相靠近的一端分别位于l型顶槽25内部与活动轴27的一端转动连接，两个顶料块29远离活动轴27的一端均位于l型顶槽25内部通过转动轴26与转盘架21活动连接，转盘架21顶部两侧的挂耳处均通过扭簧22与l型压块23底部一端扭力连接，两个l型压块23相互靠近的一侧均固定有防滑橡胶24。
23.两个一号压料杆13的位置分别与两个l型压块23远离防滑橡胶24的一端位置相垂直；两个二号压料杆14的位置分别与两个顶料块29相互远离一端的顶部位置相垂直；两个二号压料杆14的底部分别至位置相匹配的顶料块29顶部之间的距离等于两个一号压料杆13底部至l型压块23远离防滑橡胶24一侧顶部之间的距离；两个顶料块29和l型顶杆28的外径尺寸均小于l型顶槽25在其相应位置的内径尺寸；通过两个一号压料杆13的下降，方便抵住l型压块23远离防滑橡胶24的一端，使晶圆本体3失去限位性，再通过两个二号压料杆14抵住顶料块29顶部，方便使l型顶杆28轻微上升，并将晶圆本体3轻微顶起，方便吸盘吸附。
24.两个防滑橡胶24相靠近侧壁之间的距离等于晶圆本体3两端之间的距离，方便很好的将晶圆本体3限位在转盘架21的顶部，避免在清洗转动的过程中，出现移位的情况。
25.具体的，本装置的压料机构1通过四个螺栓12连接在吸盘框架上，当圈架11下降时，带动两个一号压料杆13一并下降，两个防滑橡胶24因扭簧22的扭力夹持住晶圆本体3的两侧，避免转盘架21在转动的过程中出现移位的情况，当一号压料杆13下降顶住l型压块23
远离防滑橡胶24的一端，两个防滑橡胶24远离晶圆本体3，晶圆本体3失去了限位性，同时两个二号压料杆14的底部顶住顶料块29的顶部，两个顶料块29通过转动轴26、活动轴27的活动在l型顶槽25内部将l型顶杆28轻微顶出，使晶圆本体3和转盘架21之间被顶住缝隙，方便吸盘的吸附取料工作。
26.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。


技术特征：
1.一种晶圆抛光用金属污染物去除装置，其特征在于，包括压料机构(1)，所述压料机构(1)下方设置有顶料机构(2)，所述顶料机构(2)的顶部放置有晶圆本体(3)；所述压料机构(1)包括圈架(11)，所述圈架(11)四角均插设有螺栓(12)，所述圈架(11)的底部两端分别固定有一号压料杆(13)和二号压料杆(14)；所述顶料机构(2)包括转盘架(21)，所述转盘架(21)内开凿有两个l型顶槽(25)，两个所述l型顶槽(25)的内部底端均插设有顶料块(29)，两个所述l型顶槽(25)的顶端均插设有l型顶杆(28)，两个所述顶料块(29)和l型顶杆(28)相靠近的一端分别位于l型顶槽(25)内部与活动轴(27)的一端转动连接，两个所述顶料块(29)远离活动轴(27)的一端均位于l型顶槽(25)内部通过转动轴(26)与转盘架(21)活动连接，所述转盘架(21)顶部两侧的挂耳处均通过扭簧(22)与l型压块(23)底部一端扭力连接，两个所述l型压块(23)相互靠近的一侧均固定有防滑橡胶(24)。2.根据权利要求1所述的一种晶圆抛光用金属污染物去除装置，其特征在于，两个所述一号压料杆(13)的位置分别与两个l型压块(23)远离防滑橡胶(24)的一端位置相垂直。3.根据权利要求1所述的一种晶圆抛光用金属污染物去除装置，其特征在于，两个所述二号压料杆(14)的位置分别与两个顶料块(29)相互远离一端的顶部位置相垂直。4.根据权利要求1所述的一种晶圆抛光用金属污染物去除装置，其特征在于，两个所述二号压料杆(14)的底部分别至位置相匹配的顶料块(29)顶部之间的距离等于两个一号压料杆(13)底部至l型压块(23)远离防滑橡胶(24)一侧顶部之间的距离。5.根据权利要求1所述的一种晶圆抛光用金属污染物去除装置，其特征在于，两个所述防滑橡胶(24)相靠近侧壁之间的距离等于晶圆本体(3)两端之间的距离。6.根据权利要求1所述的一种晶圆抛光用金属污染物去除装置，其特征在于，两个所述顶料块(29)和l型顶杆(28)的外径尺寸均小于l型顶槽(25)在其相应位置的内径尺寸。

技术总结
本实用新型公开一种晶圆抛光用金属污染物去除装置，包括压料机构，所述压料机构下方设置有顶料机构，所述顶料机构的顶部放置有晶圆本体，本实用新型所达到的有益效果是：两个防滑橡胶因扭簧的扭力夹持住晶圆本体的两侧，避免转盘架在转动的过程中出现移位的情况，当一号压料杆下降顶住L型压块远离防滑橡胶的一端，两个防滑橡胶远离晶圆本体，晶圆本体失去了限位性，同时两个二号压料杆的底部顶住顶料块的顶部，两个顶料块通过转动轴、活动轴的活动在L型顶槽内部将L型顶杆轻微顶出，使晶圆本体和转盘架之间被顶住缝隙，方便吸盘的吸附取料工作。料工作。料工作。


技术研发人员：贺贤汉 杉原一男 佐藤泰幸 原英樹
受保护的技术使用者：上海申和热磁电子有限公司
技术研发日：2021.07.28
技术公布日：2022/1/11