一种改善栅氧VGS耐压与VTH稳定性的装置的制作方法

一种改善栅氧vgs耐压与vth稳定性的装置
技术领域
1.本实用新型属于vdmos、igbt器件制造工艺技术领域，尤其涉及一种改善栅氧vgs耐压与vth稳定性的装置。


背景技术：

2.目前vdmos、igbt制造最后一步回流工艺气体大部分厂家是采用单纯的纯n2处理，虽然采用纯n2 做回流有利于片与片，批次与批次之间vth相对稳定，但这种工艺带来的负作用也是很明显，最明显的表现是，当vgs加到一定程度接近极限耐压后，再复测vth,发现vth会明显变小，严重情况下bvdss也会变小，idss漏电变大，对产品的可靠性造成不可逆的作用，存在安全隐患。因此，需要一种优化的回流工艺利用混合气体进行回流处理，改进vth持续稳定性与可靠性的一种改善栅氧vgs耐压与vth稳定性的装置去解决这一缺陷。


技术实现要素：

3.针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本实用新型提供一种改善栅氧vgs耐压与vth稳定性的装置，具有优化的回流工艺气体处理条件，改进vth持续稳定性与可靠性有益效果。
4.本实用新型采用的技术方案如下：一种改善栅氧vgs耐压与vth稳定性的装置，包括装置本体、o2管线、供电模组、o2阀组、o2流量计、h2管线、h2流量计和h2阀组，所述供电模组设于装置本体一侧，所述o2管线设于装置本体另一侧，所述o2阀组设于o2管线上，所述o2流量计设于o2管线上，所述o2流量计设于o2阀组与装置本体之间，所述h2管线设于o2管线上，所述h2管线设于o2流量计与装置本体之间，所述h2阀组设于h2管线上，所述h2流量计设于h2管线上，所述h2流量计设于h2阀组设于o2管线之间。
5.进一步地，所述供电模组包括连接线组和调节器，所述连接线组设于装置本体上，所述连接线组上设有电压表。
6.进一步地，所述o2流量计与o2阀组建立电性连接，所述h2流量计与h2阀组建立电性连接，所述o2阀组与h2阀组建立电性连接。
7.进一步地，所述装置本体连接设有晶体管图示仪。
8.采用上述结构后，本实用新型有益效果如下：本实用新型一种改善栅氧vgs耐压与vth稳定性的装置，h2管线与o2管线混合形成优化了o2/h2两种气体组成的混合气体进行回流处理，保证产品性能最佳实现，o2阀组与h2阀组建立电性连接保证了h2流量为o2流量的三分之一到二分之一之间的合理流量，避免 h2流量太小效果不明显或h2流量太大要考虑到安全性影响。
附图说明
9.附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。
10.图1为本实用新型一种改善栅氧vgs耐压与vth稳定性的装置的整体结构示意图；
11.图2为本实用新型一种改善栅氧vgs耐压与vth稳定性的装置的电性连接示意图。
12.在附图中：1、装置本体，2、o2管线，3、供电模组，4、o2阀组，5、o2流量计，6、h2管线，7、h2流量计，8、h2阀组，10、连接线组，12、调节器。
具体实施方式
13.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例；基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
14.需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
15.如图1-2所示，一种改善栅氧vgs耐压与vth稳定性的装置，包括装置本体1、o2管线2、供电模组 3、o2阀组4、o2流量计5、h2管线6、h2流量计7和h2阀组8，所述供电模组3设于装置本体1一侧，所述o2管线2设于装置本体1另一侧，所述o2阀组4设于o2管线2上，所述o2流量计5设于o2管线2 上，所述o2流量计5设于o2阀组4与装置本体1之间，所述h2管线6设于o2管线2上，所述h2管线6 设于o2流量计5与装置本体1之间，所述h2阀组8设于h2管线6上，所述h2流量计7设于h2管线6 上，所述h2流量计7设于h2阀组8设于o2管线2之间。
16.其中，所述供电模组3包括连接线组10和调节器12，所述连接线组10设于装置本体1上，所述连接线组10上设有电压表。
17.进一步地，所述o2流量计5与o2阀组4建立电性连接，所述h2流量计7与h2阀组8建立电性连接，所述o2阀组4与h2阀组8建立电性连接。
18.进一步地，所述装置本体1连接设有晶体管图示仪。
19.具体使用时，调节器12进行系统调节，o2阀组4与h2阀组8调节h2流量为o2流量的三分之一到二分之一之间，h2流量计7与o2流量计5显示气体流量，混合工艺气体输入装置本体1，晶体管图示仪进行数据提取，在不断加压模拟过程中，在加压到65v前，vth也是轻度增加，加压到65v后，与最大值 vth相比，虽然也出现下降趋势，但最终的vth与最初加压的vth相比，并没有减少，说明整体vth表现最为稳定，即使加压到最大极限70v后，vth仍表现稳定分布，说明采用本工艺气体加工回流条件下， vth全程可靠。
20.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。总而言之如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本实用新型创造宗旨的情况下，不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本实用新型的保护范围。


技术特征：
1.一种改善栅氧vgs耐压与vth稳定性的装置，其特征在于：包括装置本体、o2管线、供电模组、o2阀组、o2流量计、h2管线、h2流量计和h2阀组，所述供电模组设于装置本体一侧，所述o2管线设于装置本体另一侧，所述o2阀组设于o2管线上，所述o2流量计设于o2管线上，所述o2流量计设于o2阀组与装置本体之间，所述h2管线设于o2管线上，所述h2管线设于o2流量计与装置本体之间，所述h2阀组设于h2管线上，所述h2流量计设于h2管线上，所述h2流量计设于h2阀组设于o2管线之间。2.根据权利要求1所述的一种改善栅氧vgs耐压与vth稳定性的装置，其特征在于：所述供电模组包括连接线组和调节器，所述连接线组设于装置本体上，所述连接线组上设有电压表。3.根据权利要求2所述的一种改善栅氧vgs耐压与vth稳定性的装置，其特征在于：所述o2流量计与o2阀组建立电性连接，所述h2流量计与h2阀组建立电性连接，所述o2阀组与h2阀组建立电性连接。4.根据权利要求1所述的一种改善栅氧vgs耐压与vth稳定性的装置，其特征在于：所述装置本体连接设有晶体管图示仪。

技术总结
本实用新型公开的一种改善栅氧VGS耐压与VTH稳定性的装置，包括装置本体、O2管线、供电模组、O2阀组、O2流量计、H2管线、H2流量计和H2阀组，所述供电模组设于装置本体一侧，所述O2管线设于装置本体另一侧，所述O2阀组设于O2管线上，所述O2流量计设于O2管线上，所述O2流量计设于O2阀组与装置本体之间。本实用新型属于VDMOS、IGBT器件制造工艺技术领域，具体是一种H2管线与O2管线混合形成优化了O2/H2两种气体组成的混合气体进行回流处理，保证产品性能最佳实现，O2阀组与H2阀组建立电性连接保证了H2流量为O2流量的三分之一到二分之一之间的合理流量，避免H2流量太小效果不明显或H2流量太大要考虑到安全性影响的一种改善栅氧VGS耐压与VTH稳定性的装置。与VTH稳定性的装置。与VTH稳定性的装置。


技术研发人员：鄢细根 黄种德
受保护的技术使用者：厦门中能微电子有限公司
技术研发日：2021.08.06
技术公布日：2022/8/16