本发明涉及控制装置、调节方法、光刻装置和物品制造方法。
背景技术:
1、在用于制造诸如半导体器件、平板显示器(fpd)等之类的设备的光刻处理中,使用曝光装置将掩模的图案转印到基板上。例如,在对掩模和基板进行定位时,曝光装置需要对其上保持有掩模的掩模载置台和其上保持有基板的基板载置台执行高精度的位置控制和同步控制。
2、随着对高精度设备的要求越来越苛刻,对诸如上述载置台之类的载置台的位置控制和同步控制的精度要求正变得越来越苛刻,并且仅传统的反馈控制可能不足以实现所要求的精度。鉴于以上,正在努力提供与传统控制设备并行的神经网络控制设备(ptl 1)。另外,已开发用于根据控制目标的状态切换神经网络控制设备并且执行适于控制目标的补偿的方法(ptl 2)。
3、引用列表
4、专利文献
5、ptl 1:pct日文翻译专利公开no.7-503563
6、ptl 2:日本专利公开no.7-277286
技术实现思路
1、技术问题
2、提供多个神经网络控制设备可以改善精度,但结果是控制计算时间的增加。神经网络控制设备的参数是通过机器学习来调节的,但学习多个神经网络的参数花费的时间长。此外,当控制目标的状态变化或者干扰环境变化时,神经网络的预定参数可能不再是最佳的,并且可能有必要执行长时间的参数重新调节。
3、鉴于以上,本发明的目的是提供有利于在短时间内适当地调节控制特性的使用神经网络的控制装置。
4、为了实现以上目的,本发明的一方面提供了一种被配置成生成用于对控制目标进行控制的控制信号的控制装置,该装置包括:第一补偿单元,被配置成基于控制目标的控制偏差来生成第一信号;校正设备,被配置成使用多个调节单元中的一个调节单元来校正控制偏差,每个调节单元被配置成通过根据如下的计算公式校正控制偏差来生成校正信号,所述计算公式的一个或更多个系数能够被调节;第二补偿单元,被配置成基于校正信号、通过使用神经网络来生成第二信号;以及计算单元,被配置成基于第一信号和第二信号来生成控制信号。
5、鉴于以上,本发明的目的是提供有利于在短时间内适当地调节控制特性的使用神经网络的控制装置。
1.一种被配置成生成用于对控制目标进行控制的控制信号的控制装置,包括:
2.根据权利要求1所述的控制装置,其中,在校正设备中,基于控制目标的控制状态,从所述多个调节单元中选择用于校正控制偏差的调节单元。
3.根据权利要求1或2所述的控制装置,其中,基于是否要对控制目标和另一个不同的控制目标同步地进行控制,从所述多个调节单元中选择用于校正控制偏差的调节单元。
4.根据权利要求1或2所述的控制装置,其中,基于是否发生了控制目标的增益的切换,从所述多个调节单元中选择用于校正控制偏差的调节单元。
5.根据权利要求1或2所述的控制装置,其中,基于第一补偿单元的状态,从所述多个调节单元中选择用于校正控制偏差的调节单元。
6.根据权利要求1或2所述的控制装置,其中,基于是否发生了控制目标的操作模式的变化,从所述多个调节单元中选择用于校正控制偏差的调节单元。
7.根据权利要求1至6中的一项所述的控制装置,其中,计算公式包括与控制偏差成比例的项。
8.根据权利要求1至7中的一项所述的控制装置,其中,计算公式包括对控制偏差执行积分的项。
9.根据权利要求1至8中的一项所述的控制装置,其中,计算公式包括对控制偏差执行微分的项。
10.根据权利要求1至6中的一项所述的控制装置,其中,计算公式包括与控制偏差成比例的项、对控制偏差执行积分的项以及对控制偏差执行微分的项中的至少一个。
11.根据权利要求1至10中的一项所述的控制装置,还包括:被配置成对校正设备进行调节的设定单元,其中,设定单元从所述多个调节单元中选择用于校正控制偏差的调节单元。
12.根据权利要求11所述的控制装置,其中,设定单元设定计算公式。
13.根据权利要求11或12所述的控制装置,其中,当控制偏差满足预定条件时,设定单元重新设定计算公式的所述一个或更多个系数。
14.根据权利要求13所述的控制装置,其中,预定条件包括控制偏差超过指定的值。
15.根据权利要求1至14中的一项所述的控制装置,还包括:被配置成通过机器学习来确定神经网络的参数值的学习单元。
16.根据权利要求1至15中的一项所述的控制装置,其中,
17.一种被配置成生成用于对控制目标进行控制的控制信号的控制装置,包括:
18.根据权利要求17所述的控制装置,其中,在校正设备中,基于控制目标的控制状态,从所述多个调节单元中选择用于校正控制偏差的调节单元。
19.根据权利要求17或18所述的控制装置,其中,计算公式包括与控制偏差成比例的项、对控制偏差执行积分的项以及对控制偏差执行微分的项中的至少一个。
20.一种被配置成控制保持物体的载置台以控制物体的位置的载置台控制装置,该载置台控制装置包括根据权利要求1至19中的一项所述的控制装置。
21.一种被配置成将原稿板的图案转印到基板上的光刻装置,包括:根据权利要求1至19中的一项所述的被配置成控制基板或原稿板的位置的控制装置。
22.一种制造物品的方法,包括:
23.一种调节控制装置的方法,该控制装置包括第一补偿单元、校正设备、第二补偿单元和计算单元,该第一补偿单元被配置成基于控制目标的控制偏差来生成第一信号,该校正设备被配置成使用多个调节单元中的一个调节单元来校正控制偏差,每个调节单元被配置成通过校正控制偏差来生成校正信号,该第二补偿单元被配置成基于校正信号、通过使用神经网络来生成第二信号,该计算单元被配置成基于第一信号和第二信号来生成控制信号,该方法包括: