晶圆支撑结构、晶圆支撑装置及干燥机的制作方法

1.本发明涉及半导体技术领域，具体而言，涉及一种晶圆支撑结构、晶圆支撑装置及干燥机。


背景技术：

2.干燥机是化学机械研磨中最后一道至关重要且保障晶圆(wafer)干燥的重要单元，干燥机利用异丙醇(ipa)气体和氮气(n2)吹干晶圆表面的水份。保证晶圆干燥是很重要的一个步骤，若是晶圆干燥不良可能导致晶圆带水进入晶圆传送盒(foup)，引发一系列的良率问题，甚至造成晶圆报废。
3.干燥机具有两个输入箱，能够同时处理两个晶圆，在正常运行过程中，输入箱含有超纯水会持续不间断进液，保持活水。晶圆的支撑结构(该支撑结构呈新月形)在垂直位置(垂直90度)，晶圆通过输出束垂直进入输入箱并被放置在支撑结构上，输出台臂旋转到偏移位置准备晶圆干燥；支撑结构由气动缸驱动倾斜，支撑结构带动晶圆倾斜约9度从垂直位置到偏移位置；推杆从停放位置移动到传动位置，以带动晶圆移动至待干燥位置；异丙醇气体和氮气的混合物从喷杆喷出至晶圆的正面和背面；输出台臂上的捕捉器抓住晶圆，晶圆被推出输入箱，晶圆被干燥，支撑结构恢复至垂直位置。
4.然而，针对目前的干燥机，支撑结构接触晶圆容易造成工艺不良，包括：
5.晶圆在转移放置过程中会因支撑结构的运动而接触沟槽，进而导致晶圆边缘大面积刮伤，造成晶圆工艺不良；
6.输出束的夹具在水平方向、竖直方向均可移动地设置，以将晶圆放入输入箱内的支撑结构上；并且，晶圆会受到水阻扰流，晶圆受到移动夹具的影响和水阻扰流的影响均会与支撑结构的接触有些微偏移，进而导致晶圆边缘大面积刮伤，造成晶圆工艺不良。


技术实现要素：

7.本发明的主要目的在于提供一种晶圆支撑结构、晶圆支撑装置及干燥机，以解决现有技术中的晶圆支撑结构容易导致晶圆边缘大面积刮伤，造成晶圆工艺不良的问题。
8.为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种晶圆支撑结构，包括：支撑件；多个支撑凸起，多个支撑凸起间隔设置在支撑件上，各个支撑凸起上均设置有用于容置晶圆的卡槽。
9.一种实施方式中，多个支撑凸起沿支撑件的延伸方向依次设置，多个支撑凸起之间等间距设置。
10.一种实施方式中，支撑件沿其延伸方向具有依次设置的第一端和第二端，多个支撑凸起沿支撑件的两侧对称设置，多个支撑凸起中的两个分别位于支撑件的第一端和第二端。
11.一种实施方式中，支撑凸起的底部与支撑件连接；沿从支撑凸起的顶部至支撑凸起的底部的方向，支撑凸起沿支撑件的延伸方向上的宽度逐渐增大。
12.一种实施方式中，支撑凸起的高度大于或等于2.8cm且小于或等于3.2cm。
13.一种实施方式中，沿支撑件的延伸方向，支撑凸起的顶部的宽度大于或等于0.8cm且小于或等于1.2cm。
14.一种实施方式中，沿支撑件的延伸方向，支撑凸起的底部的宽度大于或等于1.8cm且小于或等于2.2cm。
15.一种实施方式中，支撑凸起的厚度大于或等于2.8cm且小于或等于3.2cm。
16.一种实施方式中，支撑凸起垂直于其厚度方向的截面为梯形。
17.一种实施方式中，多个支撑凸起沿支撑件的延伸方向依次设置，沿多个支撑凸起的设置方向，支撑凸起具有相对设置的第一侧壁和第二侧壁；卡槽由支撑凸起的顶部朝向支撑凸起的底部延伸，卡槽沿多个支撑凸起的设置方向延伸至第一侧壁和第二侧壁，沿与多个支撑凸起的设置方向相垂直的方向，卡槽的截面呈倒三角形。
18.一种实施方式中，卡槽的深度大于或等于0.9cm且小于或等于1.1cm。
19.一种实施方式中，卡槽具有相对设置的第一槽壁和第二槽壁，第一槽壁和第二槽壁之间成预设夹角设置，预设夹角大于或等于110度且小于或等于130度。
20.一种实施方式中，支撑件为弧形结构，弧形结构为劣弧。
21.一种实施方式中，在背离支撑凸起的支撑件的表面上设置有安装部，安装部沿支撑件的两侧对称设置，安装部的至少部分套设在干燥机的输入箱内的支撑杆上，安装部相对于输入箱可摆动地设置。
22.一种实施方式中，支撑件上设置有排液口，排液口位于支撑件的中部，排液口贯穿支撑件设置，以使支撑件上的液体通过排液口排出。
23.根据本发明的另一方面，提供了一种晶圆支撑装置，包括晶圆支撑结构，晶圆支撑结构为上述的晶圆支撑结构。
24.一种实施方式中，晶圆支撑结构具有偏移位置和垂直位置，晶圆支撑结构在偏移位置和垂直位置之间可摆动地设置；晶圆支撑装置还包括限位件，限位件的延伸方向与支撑件的延伸方向垂直，当晶圆支撑结构处于垂直位置时，限位件抵设在晶圆支撑结构上；限位件上设置有第一吸附件，支撑件的与限位件对应的抵设位置上设置有第二吸附件；当晶圆支撑结构处于垂直位置时，第一吸附件和第二吸附件吸附连接；或者支撑件的与限位件对应的抵设位置上设置有第三吸附件，第三吸附件为磁铁，限位件的至少部分由磁性材料制成，当晶圆支撑结构处于垂直位置时，第三吸附件和限位件吸附连接。
25.一种实施方式中，支撑件的端部设置有第四吸附件；支撑装置还包括驱动件，驱动件包括驱动件主体和伸缩杆，伸缩杆相对驱动件主体可伸缩地设置，伸缩杆上设置有第五吸附件，以使伸缩杆在伸缩过程中通过第四吸附件和第五吸附件之间的吸附作用带动晶圆支撑结构在偏移位置和垂直位置之间切换。
26.一种实施方式中，沿支撑件的延伸方向，以设置有第四吸附件的端部为起始点计，与限位件对应的抵设位置位于支撑件的长度的1/5-1/4处。
27.根据本发明的又一方面，提供了一种干燥机，包括晶圆支撑装置和输入箱，至少部分晶圆支撑装置设置在输入箱内，晶圆支撑装置为上述的晶圆支撑装置。
28.本发明的晶圆支撑结构包括支撑件和多个支撑凸起，多个支撑凸起间隔设置在支撑件上，各个支撑凸起上均设置有用于容置晶圆的卡槽，当晶圆放置在支撑件上时，多个支
撑凸起用于支撑晶圆，晶圆与支撑凸起的卡槽的内壁接触，既保证了对晶圆的有效支撑，还减少了晶圆与晶圆支撑结构的接触面积，从而解决了现有技术中的支撑结构容易导致晶圆边缘大面积刮伤，造成晶圆工艺不良的问题。
附图说明
29.构成本技术的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
30.图1示出了根据本发明的晶圆支撑结构的实施例的示意图；
31.图2示出了根据本发明的晶圆支撑结构的支撑凸起的结构示意图；
32.图3示出了根据本发明的晶圆支撑结构的卡槽的结构示意图；
33.图4示出了根据本发明的晶圆支撑装置的实施例的俯视图；
34.图5示出了根据本发明的晶圆支撑装置的部分结构的示意图。
35.其中，上述附图包括以下附图标记：
36.1、支撑结构；10、支撑件；11、安装部；12、排液口；13、第四吸附件；20、支撑凸起；21、卡槽；22、第一侧壁；23、第二侧壁；24、第一槽壁；25、第二槽壁；
37.30、限位件；40、第二吸附件；50、第一吸附件；70、驱动件；71、驱动件主体；72、伸缩杆；73、第五吸附件；
38.60、输入箱；
39.2、晶圆。
具体实施方式
40.需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
41.应该指出，以下详细说明都是例示性的，旨在对本技术提供进一步的说明。除非另有指明，本文使用的所有技术和科学术语具有与本技术所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。
42.需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本技术的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。
43.本发明提供了一种晶圆支撑结构，请参考图1至图3，包括：支撑件10；多个支撑凸起20，多个支撑凸起20间隔设置在支撑件10上，各个支撑凸起20上均设置有用于容置晶圆2的卡槽21。
44.本发明的晶圆支撑结构包括支撑件10和多个支撑凸起20，多个支撑凸起20间隔设置在支撑件10上，各个支撑凸起20上均设置有用于容置晶圆2的卡槽21，当晶圆2放置在支撑件10上时，多个支撑凸起20用于支撑晶圆2，晶圆2与支撑凸起20的卡槽21的内壁接触，既保证了对晶圆2的有效支撑，还减少了晶圆2与晶圆支撑结构的接触面积，从而解决了现有技术中的支撑结构容易导致晶圆边缘大面积刮伤，造成晶圆工艺不良的问题。
45.具体地，支撑件10的材质可以为聚醚醚酮。具体实施时，这种材质的耐酸性较强，
使用聚醚醚酮材质的支撑件10具有更长的使用寿命。
46.在本实施例中，多个支撑凸起20沿支撑件10的延伸方向依次设置，多个支撑凸起20之间等间距设置。需要说明的是，多个支撑凸起20包括两个及两个以上支撑凸起20的情况。
47.具体实施时，多个支撑凸起20沿支撑件10的延伸方向依次设置，在晶圆2支撑于多个支撑凸起20上时，晶圆2受到多个支撑凸起20的各个方向的支撑力，使晶圆2能够更加稳定的放置在支撑件10上；多个支撑凸起20之间等间距的设置，使晶圆2在支撑件10的范围内，各个方向受力均匀，从而避免了晶圆2的局部受力而造成晶圆2受到刮伤。
48.具体地，支撑件10的延伸方向为图1中支撑件10的沿圆弧面延伸的方向。
49.在本实施例中，支撑件10沿其延伸方向具有依次设置的第一端和第二端，多个支撑凸起20沿支撑件10的两侧对称设置，多个支撑凸起20中的两个分别位于支撑件10的第一端和第二端。需要说明的是，多个支撑凸起20包括两个及两个以上支撑凸起20的情况。
50.具体实施时，多个支撑凸起20沿支撑件10的两侧对称设置，保证了晶圆2放置在多个支撑凸起20上时能保持在支撑件10的延伸方向上受力平衡，提升了晶圆2支撑的稳定性；多个支撑凸起20中的两个支撑凸起20分别位于支撑件10的第一端和第二端，这样的设置使晶圆2在支撑件10的范围内，受到支撑凸起20所支撑的范围最大，保证支撑晶圆2时更为稳定可靠。
51.优选地，支撑结构包括四个支撑凸起20，四个支撑凸起20沿支撑件10的延伸方向间隔布置在支撑件10上。
52.具体实施时，支撑凸起20少于四个时，无法稳定支撑晶圆2，并且在晶圆2进行倾斜过程中，晶圆2受到输入箱内的水的阻力，晶圆2会由于与支撑凸起20的接触点太少而被水从支撑件10上冲掉，从而导致破片或掉片的情况；支撑凸起20多于四个时，支撑凸起20与晶圆2的接触面积过大，从而导致晶圆2的边缘大面积刮伤，造成晶圆2出现工艺不良的问题。
53.在本实施例中，支撑凸起20的底部与支撑件10连接；沿从支撑凸起20的顶部至支撑凸起20的底部的方向，支撑凸起20沿支撑件10的延伸方向上的宽度逐渐增大。
54.具体实施时，沿从支撑凸起20的顶部至支撑凸起20的底部的方向，支撑凸起20沿支撑件10的延伸方向上的宽度逐渐增大设置保证了支撑凸起20的底部宽度大于支撑凸起20的顶部宽度，从而避免了因支撑凸起20的顶部宽度过大，而造成支撑凸起20在支撑晶圆2时产生的晶圆2不稳定和晶圆2边缘大面积刮伤的情况。
55.在本实施例中，支撑凸起20的高度大于或等于2.8cm且小于或等于3.2cm。
56.具体实施时，支撑凸起20高度的设置保证了晶圆2在被支撑凸起20支撑时的稳定性，支撑凸起20过高的设置会导致晶圆2的支撑不稳定，支撑凸起20过低的设置会导致晶圆2与支撑件10相接触，进而导致晶圆2的边缘大面积刮伤，造成晶圆2出现工艺不良的问题。
57.具体地，支撑凸起20的高度等于3.0cm。
58.在本实施例中，沿支撑件10的延伸方向，支撑凸起20的顶部的宽度大于或等于0.8cm且小于或等于1.2cm；和/或沿支撑件10的延伸方向，支撑凸起20的底部的宽度大于或等于1.8cm且小于或等于2.2cm。
59.具体实施时，支撑凸起20的顶部宽度大于或等于0.8cm且小于或等于1.2cm的设置，既避免了支撑凸起20的顶部宽度过大，晶圆2与支撑凸起20的顶部大面积接触，对晶圆2
的边缘造成刮伤，从而造成晶圆2出现工艺不良的问题，还避免了支撑凸起20的顶部宽度过窄，与晶圆2的接触面的面积变小，导致晶圆2无法支撑站立，从而造成对晶圆2的支撑不稳定；支撑凸起20的底部的宽度大于或等于1.8cm且小于或等于2.2cm的设置，使支撑凸起20的底部宽度大于支撑凸起20的顶部宽度，从而使支撑凸起20对晶圆2的支撑效果更加稳定。
60.具体地，沿支撑件10的延伸方向，支撑凸起20的顶部的宽度等于1.0cm；沿支撑件10的延伸方向，支撑凸起20的底部的宽度等于2.0cm。
61.在本实施例中，支撑凸起20的厚度大于或等于2.8cm且小于或等于3.2cm。
62.具体实施时，支撑凸起20的厚度小于或等于3.2cm的设置，避免了支撑凸起20的厚度过厚而造成的支撑凸起20在对晶圆2进行支撑时，与晶圆2的接触面积过大，导致刮伤晶圆2的表面，从而造成晶圆2出现工艺不良的问题；支撑凸起20的厚度大于或等于2.8cm的设置，避免了支撑凸起20的厚度过小，从而造成对晶圆2的支撑不稳定，支撑凸起20这样的厚度设置使其支撑效果更为可靠。
63.具体地，支撑凸起20的厚度等于3.0mm。
64.在本实施例中，支撑凸起20垂直于其厚度方向的截面为梯形。
65.具体实施时，支撑凸起20垂直于其厚度方向的截面为梯形的设置使支撑凸起20底部宽度与顶部宽度不同，由于支撑凸起20底部宽度大于其顶部宽度，晶圆2所受到的支撑更加稳定。
66.具体地，支撑凸起20的厚度方向为图3中的左右方向。
67.在本实施例中，多个支撑凸起20沿支撑件10的延伸方向依次设置，沿多个支撑凸起20的设置方向，支撑凸起20具有相对设置的第一侧壁22和第二侧壁23；卡槽21由支撑凸起20的顶部朝向支撑凸起20的底部延伸，卡槽21沿多个支撑凸起20的设置方向延伸至第一侧壁22和第二侧壁23，沿与多个支撑凸起20的设置方向相垂直的方向，卡槽21的截面呈倒三角形。
68.具体实施时，卡槽21由支撑凸起20的顶部朝向支撑凸起20的底部延伸，保证了晶圆2在支撑凸起20上支撑时，可以由支撑凸起20的顶部进入卡槽21，以使晶圆2可以与卡槽21相卡设；卡槽21沿多个支撑凸起20的设置方向延伸至第一侧壁22和第二侧壁23，使体积较大的晶圆2的需要支撑的部分可以进入支撑凸起20的卡槽21，与卡槽21相卡设；卡槽21沿与多个支撑凸起20的设置方向相垂直的方向，卡槽21的截面呈倒三角形，这样对于卡槽21的设置使晶圆2在进入卡槽21后，接触到卡槽21的底部，由于卡槽21的底部为倒三角形的底部，容纳晶圆2的宽度小于顶部容纳晶圆2的宽度，因此形成了对晶圆2的紧密卡设作用，防止晶圆2从卡槽中滑落。
69.一种实施方式中，多个支撑凸起20沿支撑件10的延伸方向安装时需要保证晶圆2可以卡设进入卡槽21的最底部，以防止晶圆2出现翘片和滑片的现象。
70.在本实施例中，卡槽21的深度大于或等于0.9cm且小于或等于1.1cm。
71.具体实施时，对于卡槽21深度这样的设置保证了卡槽21不会过深或过浅，卡槽21的深度大于1.1cm存在深度过深、有可能导致晶圆2与卡槽21的接触面积过大的问题，使晶圆2具有刮伤的风险，从而导致晶圆2的边缘无法被利用；卡槽21的深度小于0.9cm则存在深度过浅、有可能会导致晶圆2在与卡槽21接触时接触面积过小，出现站立不稳定的情况。
72.优选地，卡槽21的深度等于1cm。
73.在本实施例中，卡槽21具有相对设置的第一槽壁24和第二槽壁25，第一槽壁24和第二槽壁25之间成预设夹角设置，预设夹角大于或等于110度且小于或等于130度。
74.具体实施时，对于卡槽21的第一槽壁24和第二槽壁25之间的预设夹角的设置保证了晶圆2在进入卡槽21的过程中，若是发生偏移的现象，由于第一槽壁24和第二槽壁25之间具有较大的预设夹角，晶圆2会沿第一槽壁24或第二槽壁25滑进卡槽21，避免了晶圆2在偏移状态下无法进入卡槽21；预设夹角大于或等于110度的设置，使预设夹角不会太小，从而使卡槽21不会刮伤晶圆2。
75.在本实施例中，如图1所示，支撑件10为弧形结构，弧形结构为劣弧。
76.一种实施例中，在背离支撑凸起20的支撑件10的表面上设置有安装部11，安装部11沿支撑件10的两侧对称设置，安装部11的至少部分套设在干燥机的输入箱60内的支撑杆上，安装部11相对于输入箱60可摆动地设置。
77.一种实施例中，支撑件10上设置有排液口12，排液口12位于支撑件10的中部，排液口12贯穿支撑件10设置，以使支撑件10上的液体通过排液口12排出。
78.支撑件10为劣弧结构的设置与晶圆2的形状相适配，使晶圆2可以稳定设置在支撑件10内；安装部11可摆动地套设在支撑杆上，使得晶圆2可以在偏移位置和垂直位置之间切换；排液口12的设置避免了液体在支撑件10内堆积污染晶圆2。
79.本发明还提供了一种晶圆支撑装置，请参考图4，包括晶圆支撑结构1，晶圆支撑结构1为上述实施例中的晶圆支撑结构。晶圆支撑结构1主要起到了支撑和转移晶圆2的作用。
80.在本实施例中，晶圆支撑结构1具有偏移位置和垂直位置，晶圆支撑结构1在偏移位置和垂直位置之间可摆动地设置；晶圆支撑装置还包括限位件30，限位件30的延伸方向与支撑件10的延伸方向垂直，当晶圆支撑结构1处于垂直位置时，限位件30抵设在晶圆支撑结构1上。
81.一种实施方式中，限位件30上设置有第一吸附件50，支撑件10的与限位件30对应的抵设位置上设置有第二吸附件40；当晶圆支撑结构1处于垂直位置时，第一吸附件50和第二吸附件40吸附连接。
82.另一种实施方式中，或者支撑件10的与限位件30对应的抵设位置上设置有第三吸附件，第三吸附件为磁铁，限位件30的至少部分由磁性材料制成，当晶圆支撑结构1处于垂直位置时，第三吸附件和限位件30吸附连接。
83.其中，第一吸附件50和第二吸附件40可以均为磁铁。
84.具体实施时，晶圆支撑结构1在由偏移位置移动至垂直位置后，有可能存在无法完全到位的情况，在支撑件10上设置第二吸附件40，在限位件30上设置第一吸附件50，并将第一吸附件50和第二吸附件40相对应设置，使晶圆支撑结构1向垂直位置的移动过程中，由于第一吸附件50和第二吸附件40之间具有吸引力，使晶圆支撑结构1最终与限位件30相抵设连接，并最终准确到达垂直位置。
85.具体地，偏移位置为：相对于垂直位置，位于偏移位置的晶圆支撑结构1及其支撑的晶圆2产生了9度的偏移，晶圆支撑结构1与晶圆2仍卡设连接。
86.在本实施例中，支撑件10的端部设置有第四吸附件13；支撑装置还包括驱动件70，驱动件70包括驱动件主体71和伸缩杆72，伸缩杆72相对驱动件主体71可伸缩地设置，伸缩杆72上设置有第五吸附件73，以使伸缩杆72在伸缩过程中通过第四吸附件13和第五吸附件
73之间的吸附作用带动晶圆支撑结构1在偏移位置和垂直位置之间切换。其中，驱动件70可以设置于输入箱60的腔体外侧，第四吸附件13和第五吸附件73可以均为磁铁。
87.具体实施时，驱动件70通过驱动件主体71带动伸缩杆72伸缩，以使设置在伸缩杆72上的第五吸附件73往复运动，由于驱动件70设置在输入箱60的腔体外侧，第五吸附件73通过其和第四吸附件13之间的吸引力带动第四吸附件13做往复运动，进而使晶圆支撑结构1在偏移位置和垂直位置之间切换。因为晶圆支撑结构1是通过第五吸附件73和第四吸附件13被动的被带动，所以有可能会传送不稳定，发生偏移；其一，有可能因为第五吸附件73运动过快导致第四吸附件13在运动过程中脱离了第五吸附件的吸附作用，无法将晶圆支撑结构1恢复至原位；其二，磁铁的磁性是分子有序排列的结果，但是随着时间推移，无序度必然增加，磁性也会变弱，有可能因为第五吸附件73和第四吸附件13之间的磁吸衰退无法将晶圆支撑结构1恢复至原位，故设置第二吸附件40、以及第一吸附件50/第三吸附件降低了单边带动晶圆支撑结构1所导致的晶圆支撑结构1无法恢复至原位(即垂直位置)的机率；还减少了因为传送不稳定造成的晶圆2刮伤。
88.具体地，驱动件70为马达，通过算法校准，驱动件70可以带动晶圆支撑结构1在垂直位置和偏移位置之间切换。
89.在本实施例中，沿支撑件10的延伸方向，以设置有第四吸附件13的端部为起始点计，与限位件30对应的抵设位置位于支撑件10的长度的1/5-1/4处。
90.具体实施时，对抵设位置这样的设置保证了晶圆支撑结构1受到吸附力的位置适合，能够准确到达垂直位置，并且避免了限位件30对支撑件10的排液口12位置的影响，保证液体顺利排出。
91.优选地，沿支撑件10的延伸方向，以设置有第四吸附件13的端部为起始点计，与限位件30对应的抵设位置位于支撑件10的长度的1/4处。
92.本发明还提供了一种干燥机，包括晶圆支撑装置和输入箱60，至少部分晶圆支撑装置设置在输入箱60内，晶圆支撑装置为上述实施例中的晶圆支撑装置。
93.具体实施时，清洁器设置在工厂接口和抛光机之间。清洁器的湿机器人侧允许传入的晶圆从fi机器人传递到抛光机进行处理。清洁器的运行梁侧布置成使得晶圆在返回到fi机器人之前依次清洗并干燥。
94.具体实施时，运行梁组件的输入端具有可移动地x轴和z轴。运行梁组件的输出端具有一对晶圆夹具，晶圆夹具在x轴和z轴的带动下在x方向和z方向移动，以带动晶圆2在刷盒和干燥机的输入箱60之间移动。
95.具体实施时，干燥机中晶圆2转移过程为：1、晶圆2通过输出束(即运行梁组件)垂直切换进入输入箱60，此时，晶圆支撑结构1在垂直位置(垂直90度)；2、输出台臂旋转到传送位置准备晶圆2干燥；3、晶圆支撑结构1与晶圆2倾斜约9度从垂直位置转移到偏移位置；4、推杆从停放位置移动到晶圆2位于干燥器下方的传送位置；5、推杆缓慢向上推动晶圆2，喷杆向晶圆2的正面和背面喷ipa和n2的混合物，输出台臂上的晶圆捕捉器抓住并保持晶圆2的出现；6、一旦晶圆2被推出输入箱60，晶圆2被干燥，晶圆支撑结构1复原至原垂直90度的垂直位置；7、输出台臂将晶圆2卸除切换至fi机器人。
96.具体地，ipa和n2在气体箱内进行充分混合，通过长金属管连接到输入箱，再经过两个长喷雾棒和微小的镭射钻孔(喷雾棒即喷杆)喷射到晶圆2上。
97.具体实施时，喷杆跨越两个输入箱60的宽度；晶圆2位于前、后喷杆之间以确保喷杆喷出的ipa和n2充分混合，以利用出现的马拉高尼效应(marangoni effect)完成晶圆的干燥。需要说明的是，马拉高尼效应是指当一种液体的液膜当受外界扰动(如温度、浓度)而使液膜局部变薄时，它会在表面张力梯度的作用下形成马拉高尼流，使液体沿最佳路线流回薄液面，进行“修复”。
98.具体实施时，输入箱60内还设置有光束传感器组件，光束传感器组件用于实时监测晶圆2的位置，以验证晶圆2通过蒸汽干燥器模块的运动。其中，蒸汽干燥器模块用于对经过清洗的晶圆2进行干燥，蒸汽干燥器模块包括上述的喷杆。
99.具体实施时，干燥机还包括倾斜组件，倾斜组件与输出台臂连接以带动输出台臂在承接位置和水平位置之间转动，当输出台臂处于承接位置时，输出台臂承接经过蒸汽干燥器模块干燥后的晶圆2,；在处于承接位置的输出台臂接收到晶圆2后，输出台臂切换到水平位置，以便于fi机器人抓取。其中，输出台臂上设置有晶圆传感器，以在晶圆传感器检测到晶圆2到位后使倾斜组件控制输出台臂切换至水平位置。
100.具体实施时，每个输入箱60内都含有一对超喷雾喷器，淹没在一个填充槽内，输入箱60边槽不间断溢出超纯水以保证水的表面保持无颗粒环境，输入箱60允许溢出水排出并且具有封闭的排气管道，以保持输入箱60内的蒸汽干燥器模块内的清洁环境。
101.具体实施时，输入箱60具有晶圆进口和晶圆出口，晶圆进口和晶圆出口间隔设置，晶圆进口朝上开口，晶圆出口朝向侧部开口，晶圆2从晶圆进口输送进输入箱60内，在通过推杆向上传送并推到某一固定高度后通过输出台臂将晶圆2水平放倒，然后，通过晶圆出口移出输入箱60。
102.从以上的描述中，可以看出，本发明上述的实施例实现了如下技术效果：
103.本发明的晶圆支撑结构包括支撑件10和多个支撑凸起20，多个支撑凸起20间隔设置在支撑件10上，各个支撑凸起20上均设置有用于容置晶圆2的卡槽21，当晶圆2放置在支撑件10上时，多个支撑凸起20用于支撑晶圆2，晶圆2与支撑凸起20的卡槽21的内壁接触，既保证了对晶圆2的有效支撑，还减少了晶圆2与晶圆支撑结构的接触面积，从而解决了现有技术中的支撑结构容易导致晶圆边缘大面积刮伤，造成晶圆工艺不良的问题。
104.需要说明的是，本技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本技术的实施方式例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
105.为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在
……
之上”、“在
……
上方”、“在
……
上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在
……
上方”可以包括“在
……
上方”和“在
……
下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。
106.以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。