双电极连续式电浆制程系统的制作方法

本发明关于一种电浆制程相关技术，尤指一种双电极连续式电浆制程系统。

背景技术：

1、常见的电浆制程机台大都是以单一的射频电源提供腔体内上电极以及下电极射频能量，以进行晶元(die)、待镀膜物或待蚀刻物等待加工物的电浆制程。

2、由于单一射频电源是仅对上电极或下电极两者其中之一提供能量，另一电极接地，其仅能适用对于能量需求较小的制程处理，例如利用电浆进行表面清洁的实施方式，然而上述做法无法适用于需要进行金属表面高度蚀刻或溅镀的制程需求。除此之外，在进行上电极与下电极之间电浆匹配的过程中，电浆会有一段持续的不稳定时间，若未使上电极与下电极之间的电浆快速达到稳定并完成匹配就接续后续制程，将会对待加工物造成严重损坏。此外，若电浆不稳定期间持续太长，也会对量产进度造成影响。

技术实现思路

1、本发明主要目的在于，解决电浆制程机台电浆不稳定的问题，以降低待加工物受损的机率。

2、本发明的另一目的在于，提供连续式电浆制程系统稳定的待镀物固定方式，避免待镀物翘曲、脱离、电浆制程处理中位移的问题。

3、为达上述目的，本发明提供一种双电极连续式电浆制程系统，其包括：一载盘、一上载腔体、一制程腔体以及一下载腔体，载盘具有一框形承载部，框形承载部用以承载一待加工物；上载腔体用以输入待加工物；制程腔体连通于该上载腔体，制程腔体接收待加工物并对待加工物进行电浆处理，制程腔体具有一控制器、一夹持装置、一位移装置，以及耦接控制器的一第一电极、一第二电极、一第一射频电源以及一第二射频电源，第一电极与第二电极相对设置于制程腔体内的两端并形成一加工空间，夹持装置固定设于加工空间内，位移装置连接第二电极，当载盘移动到加工空间内时，位移装置控制第二电极穿过框形承载部而带动待加工物往第一电极方向移动，并使第二电极与夹持装置夹持并固定待加工物，第一射频电源耦接第一电极，并提供第一电极一第一射频能量以控制电浆的密度，第二射频电源耦接第二电极，并提供第二电极一第二射频能量以控制电浆的离子能量；下载腔体连通于制程腔体，下载腔体接收并输出已加工的待加工物。

4、进一步的，该制程腔体具有一定位装置，该定位装置能够检测该载盘是否位于该加工空间内的一加工位置。

5、进一步的，该夹持装置为一矩形框体。

6、进一步的，该控制器具有一锁定单元，当该第一射频电源提供的该第一射频能量到达一初始功率后，该锁定单元解开第二射频电源的锁定，而可供应该第二射频能量予该第二电极。

7、进一步的，该控制器具有一电极稳定单元，当该第一射频能量与该第二射频能量到达该初始功率后，该电极稳定单元使该第一射频电源提升该第一射频能量至一第一制程功率。

8、进一步的，该初始功率为0.5kw。

9、进一步的，当该第一射频能量升至该第一制程功率后，该电极稳定单元使该第二射频电源提升该第二射频能量至一第二制程功率。

10、进一步的，该第一制程功率以及该第二制程功率的功率范围为1kw至5kw。

11、进一步的，该控制器还包括一相位同步单元，该相位同步单元能够使该第一射频电源以及该第二射频电源达到相位匹配。借此，本发明双电极连续式电浆制程系统，通过提供第一电极能量的第一射频电源，以及提供第二电极能量的第二射频电源，能够分别对第一电极与第二电极进行功率控制，而使第一电极与第二电极之间的电浆快速稳定并完成电浆匹配，进而降低待加工物受损的机率。

技术特征：

1.一种双电极连续式电浆制程系统，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的双电极连续式电浆制程系统，其特征在于，该制程腔体具有一定位装置，该定位装置能够检测该载盘是否位于该加工空间内的一加工位置。

3.如权利要求1所述的双电极连续式电浆制程系统，其特征在于，该夹持装置为一矩形框体。

4.如权利要求1所述的双电极连续式电浆制程系统，其特征在于，该控制器具有一锁定单元，当该第一射频电源提供的该第一射频能量到达一初始功率后，该锁定单元解开第二射频电源的锁定，而可供应该第二射频能量予该第二电极。

5.如权利要求4所述的双电极连续式电浆制程系统，其特征在于，该控制器具有一电极稳定单元，当该第一射频能量与该第二射频能量到达该初始功率后，该电极稳定单元使该第一射频电源提升该第一射频能量至一第一制程功率。

6.如权利要求5所述的双电极连续式电浆制程系统，其特征在于，该初始功率为0.5kw。

7.如权利要求5所述的双电极连续式电浆制程系统，其特征在于，当该第一射频能量升至该第一制程功率后，该电极稳定单元使该第二射频电源提升该第二射频能量至一第二制程功率。

8.如权利要求7所述的双电极连续式电浆制程系统，其特征在于，该第一制程功率以及该第二制程功率的功率范围为1kw至5kw。

9.如权利要求1所述的双电极连续式电浆制程系统，其特征在于，该控制器还包括一相位同步单元，该相位同步单元能够使该第一射频电源以及该第二射频电源达到相位匹配。

技术总结
本发明提供一种双电极连续式电浆制程系统，其包括一制程腔体，制程腔体具有一夹持装置、一位移装置、一第一电极、一第二电极、一第一射频电源以及一第二射频电源，当载盘承载待加工物移动到制程腔体的一加工空间内时，位移装置控制第二电极穿过载盘而带动待加工物往第一电极方向移动，并使第二电极与夹持装置夹持并固定待加工物，第一射频电源提供第一电极一第一射频能量以控制电浆的密度，第二射频电源提供第二电极一第二射频能量以控制电浆的离子能量；借此，使电浆快速达到稳定，而降低待加工物受损的机率。

技术研发人员：李原吉,刘品均,杨峻杰,蔡明展,卢志铭
受保护的技术使用者：友威科技股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/2/1