基板提升机构的制作方法

本发明涉及半导体制造设备领域，特别是涉及一种基板提升机构。

背景技术：

1、槽式清洗装置能够同时处理多片基板，具有清洗单元和干燥单元。清洗单元包括多个清洗槽，用于盛放不同类型的清洗液，通过不同类型的清洗液对基板进行清洗，以去除基板表面上不同类型的污染物。干燥单元包括盛放diw(去离子水)的储液槽以及位于储液槽上方的干燥腔。清洗槽和储液槽均配置有基板提升机构，用于保持和升降基板。

2、干燥单元可采用超低压干燥工艺对基板进行干燥。在干燥过程中，高温n2(氮气)和高温ipa(异丙醇)蒸汽将被供应至干燥腔，随后，基板提升机构携带基板从储液槽内的纯水中缓慢升起，利用ipa置换基板表面水分，之后，降低干燥腔内压力，即在真空条件下使ipa蒸发，以此实现基板的干燥。

3、日本专利jb 3714763b公开了一种基板提升机构，包括主体支架以及齿板，齿板具有若干个插槽，用以等间隔保持多片基板，齿板通过多个螺丝水平固定在主体支架上，这种装配方式由于齿板与主体支架之间无定位结构，安装可靠性难以保证，无法确保齿板所有插槽均能与基板保持相切，进而影响基板保持的稳定性。因此，有必要设计一种能够稳定保持基板的基板提升机构。

技术实现思路

1、鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种基板提升机构，用于解决现有技术中基板保持不稳定的问题。

2、为实现上述目的及其它相关目的，本发明提供了一种基板提升机构，其特征在于，包括：

3、主体支架，所述主体支架包括多个水平支杆，所述多个水平支杆相互平行且间隔布置，每个所述水平支杆包括两个侧壁；

4、齿板，所述齿板的顶部设置有等间隔排布的多个插槽，所述多个插槽用以保持多个基板；

5、其中，

6、每个所述水平支杆的至少一个所述侧壁安装有所述齿板，所述水平支杆与所述齿板之间设置有定位组件。

7、作为一种可选方案，所述定位组件包括：

8、定位轴，设置在所述齿板的侧壁上；

9、定位孔，设置在所述水平支杆的侧壁上；

10、通过所述定位轴和所述定位孔使所述齿板和所述水平支杆卡合固定。

11、作为一种可选方案，还包括紧固件，所述定位轴开设有轴孔，所述紧固件穿过所述轴孔和所述定位孔将所述齿板与所述水平支杆固定。

12、作为一种可选方案，每个所述水平支杆的顶部具有导流面。

13、作为一种可选方案，所述导流面为倾斜平面、倾斜弧面、人字形斜面、拱形面中的任一种。

14、作为一种可选方案，所述齿板与所述水平支杆之间具有预定间隔。

15、作为一种可选方案，所述插槽为y型插槽。

16、作为一种可选方案，所述插槽的底部设置有导流槽。

17、作为一种可选方案，所述主体支架还包括垂直支架，所述垂直支架的一端与所述水平支杆相连，所述垂直支架具有朝向所述水平支杆的正面和背离所述水平支杆的背面，所述背面设置有减重槽。

18、作为一种可选方案，所述减重槽具有槽底和槽壁，其中，所述槽壁包括沿垂直方向位于下方的下侧壁，所述下侧壁为向下倾斜的斜面。

19、作为一种可选方案，所述垂直支架为非镂空板。

20、作为一种可选方案，所述主体支架为金属支架，所述金属支架外侧具有耐腐蚀涂层。

21、如上所述，本发明提供一种基板提升机构，具有以下有益效果：

22、1)齿板与水平支杆卡合固定，能够提高两者之间的定位精度，降低调试难度，提高安装的可靠性和基板保持的稳定性，避免基板因保持稳定性差倾斜，导致相邻基板部分重叠或接触，影响清洗效果，产生颗粒污染等缺陷；

23、2)水平支杆顶面设置导流面、齿板与水平支杆之间具有预定间隔以及采用y型插槽，可有效减少基板与基板提升机构接触区域的液体残留，降低基板产生颗粒污染的风险；

24、3)主体支架采用金属支架，相较传统的石英支架，具有强度高、易加工、质量轻、成本低等优点，主体支架因采用金属支架，方便加工减重槽，减轻驱动机构驱动主体支架升降的负荷，提高基板提升机构运行的稳定性；

25、4)减重槽下侧壁倾斜向下设计，有利于残留在减重槽内的液体向下及时排出，避免干燥过程中，ipa蒸汽或n2将残留液体四处吹散，滴落在基板表面，造成颗粒污染。

技术特征：

1.一种基板提升机构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的基板提升机构，其特征在于，所述定位组件包括：

3.根据权利要求2所述的基板提升机构，其特征在于，还包括紧固件，所述定位轴开设有轴孔，所述紧固件穿过所述轴孔和所述定位孔将所述齿板与所述水平支杆固定。

4.根据权利要求1所述的基板提升机构，其特征在于，每个所述水平支杆的顶部具有导流面。

5.根据权利要求4所述的基板提升机构，其特征在于，所述导流面为倾斜平面、倾斜弧面、人字形斜面、拱形面中的任一种。

6.根据权利要求1所述的基板提升机构，其特征在于，所述齿板与所述水平支杆之间具有预定间隔。

7.根据权利要求1所述的基板提升机构，其特征在于，所述插槽为y型插槽。

8.根据权利要求7所述的基板提升机构，其特征在于，所述插槽的底部设置有导流槽。

9.根据权利要求1所述的基板提升机构，其特征在于，所述主体支架还包括垂直支架，所述垂直支架的一端与所述水平支杆相连，所述垂直支架具有朝向所述水平支杆的正面和背离所述水平支杆的背面，所述背面设置有减重槽。

10.根据权利要求9所述的基板提升机构，其特征在于，所述减重槽具有槽底和槽壁，其中，所述槽壁包括沿垂直方向位于下方的下侧壁，所述下侧壁为向下倾斜的斜面。

11.根据权利要求9所述的基板提升机构，其特征在于，所述垂直支架为非镂空板。

12.根据权利要求1所述的基板提升机构，其特征在于，所述主体支架为金属支架，所述金属支架外侧具有耐腐蚀涂层。

技术总结
本发明提出的基板提升机构，包括主体支架，所述主体支架包括多个水平支杆，多个水平支杆相互平行且间隔布置，每个水平支杆包括两个侧壁；齿板，所述齿板的顶部设置有等间隔排布的多个插槽，用以保持多个基板；其中，每个水平支杆的至少一个侧壁安装有所述齿板，水平支杆与齿板之间设置有定位组件。齿板与水平支杆通过定位组件卡合固定，能够提高两者之间的定位精度，降低调试难度，提高安装的可靠性和基板保持的稳定性，避免基板因保持稳定性差倾斜，导致相邻基板部分重叠或接触，影响清洗效果，产生颗粒污染等缺陷。

技术研发人员：李亚洲,陶泽魏,王鹤,王俊,陶晓峰,贾社娜,胡海波,刘阳,张晓燕,王晖
受保护的技术使用者：盛美半导体设备(上海)股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/2/19