支撑机构和离子源的制作方法

本申请涉及电磁装置，具体涉及一种支撑机构和离子源。

背景技术：

1、离子源是一种常用的提供离子束流的装置，其通常包括气化机构和等离子体生成机构，以及对等离子体生成机构进行支撑的支撑机构。然而，随着离子源的不断改进，现有的支撑机构难以满足一些新型的离子源的功能需求。

技术实现思路

1、为解决现有技术中的所述以及其他方面的至少一种技术问题，本申请提供一种支撑机构和离子源。

2、根据本申请实施例的第一个方面，提供一种用于对离子源的等离子体生成机构进行支撑，以保持其与气化机构、分配机构之间的相对位置，支撑机构包括：板体，用于与等离子体生成机构连接以支撑等离子体生成机构，等离子体生成机构和分配机构设置在板体一侧，气化机构设置在板体另一侧；通孔，设置在板体上，通孔允许气化机构至少部分地穿过板体以与分配机构连接；导向槽，设置在板体朝向等离子体生成机构的一侧；连接件，连接件的一端可滑动地设置在导向槽中，另一端与等离子体生成机构连接。

3、根据本申请实施例的第二个方面，提供一种离子源，用于提供离子束流，包括：气化机构，用于将固态原料气化形成饱和蒸汽；分配机构，设置有至少一个气体入口和多个气体出口，气体入口与气化机构连接；多个等离子体生成机构，分别与气体出口连接，以接收来自气化机构的饱和蒸汽，等离子体生成机构形成有放电腔，饱和蒸汽能够在放电腔中电离形成等离子体；电子发射机构，设置在等离子体生成机构的一侧，电子发射机构能够向放电腔中发射电子，以使放电腔中的饱和蒸汽发生电离；引出机构，引出机构能够对放电腔中形成的等离子体施加电场，以将等离子体引出放电腔并形成离子束流；以及如本申请实施例的第一个方面所描述的支撑机构，支撑机构用于对等离子体生成机构进行支撑以保持气化机构、分配机构和等离子体生成机构之间的相对位置。

4、本申请实施例提供的支撑机构和离子源能够使得等离子生成机构在受到支撑的同时可以进行位置的调整。

技术特征：

1.一种支撑机构，用于对离子源的等离子体生成机构进行支撑，以保持其与气化机构、分配机构之间的相对位置，所述支撑机构包括：

2.根据权利要求1所述的支撑机构，其中，所述连接件向着背离所述板体的方向延伸，使所述等离子体生成机构和所述板体之间形成间隙，所述分配机构设置在所述间隙中。

3.根据权利要求1所述的支撑机构，其中，所述连接件与所述等离子体生成机构滑动连接，使所述等离子体生成机构能够朝向或背离所述板体运动。

4.根据权利要求1所述的支撑机构，其中，所述支撑机构还包括：

5.根据权利要求1所述的支撑机构，其中，所述导向槽的投影面形状为以下任意一种：矩型、椭圆型、长圆型。

6.根据权利要求1所述的支撑机构，其中，所述支撑机构包括多个导向槽组，每个所述导向槽组包括至少两个位于所述通孔的不同方向上所述导向槽，并且，每个所述导向槽组对应的所述连接件用于与一个所述等离子体生成机构进行连接。

7.根据权利要求6所述的支撑机构，其中，多个所述导向槽组以所述通孔为中心对称分布。

8.一种离子源，用于提供离子束流，包括：

9.根据权利要求8所述的离子源，其中，多个所述等离子体生成机构被配置成彼此之间的相对位置可调节。

10.根据权利要求8所述的离子源，其中，所述电子发射机构包括：

技术总结
本申请提供一种支撑机构，用于对离子源的等离子体生成机构进行支撑，以保持其与气化机构、分配机构之间的相对位置，支撑机构包括：板体，用于与等离子体生成机构连接以支撑等离子体生成机构，等离子体生成机构和分配机构设置在板体一侧，气化机构设置在板体另一侧；通孔，设置在板体上，通孔允许气化机构至少部分地穿过板体以与分配机构连接；导向槽，设置在板体朝向等离子体生成机构的一侧；连接件，连接件的一端可滑动地设置在导向槽中，另一端与等离子体生成机构连接。本申请的实施例还提供一种离子源。

技术研发人员：徐昆,冯喆,任秀艳,曾麟淇
受保护的技术使用者：中国原子能科学研究院
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13