一种带有清洁功能的真空手臂的制作方法

1.本实用新型属于半导体制造技术领域，具体涉及一种带有清洁功能的真空手臂。


背景技术：

2.现有的半导体行业，晶圆片大多需要真空手臂取放片，目前行业内取放片都以直接接触真空吸附片源为主，为确保晶圆形态平整，真空手臂的吸盘孔与吸盘面需保持齐平，从而与晶圆形成良好的贴合吸附效果。
3.然而，随着作业工况的粉尘弥漫，真空手臂的吸盘面表面易粘附灰尘污染，如不能及时清理则会对吸附晶圆表面的平整形态造成破坏，影响产品品质；同时，随着晶圆拾取作业的多次实施，真空手臂的吸盘孔内部容易吸入尘埃颗粒形成堵塞，引起吸附力下降，导致取片过程因吸附力不足而令晶圆摔碎，造成生产损失并阻碍晶圆生产工艺的正常实施。而每次针对上述部位的清洁操作较为繁琐，因此，需要一种新的技术方案加以解决。


技术实现要素：

4.针对上述现有技术中的不足，本实用新型提供了一种带有清洁功能的真空手臂，以此对真空手臂吸盘孔及吸盘面的堵塞、污染实施简易高效的清洁操作，避免生产损失并保障晶圆生产工艺的正常实施。
5.本实用新型通过以下技术方案实施：一种带有清洁功能的真空手臂，包括手臂板，其中，所述手臂板为一端直臂、另一端带有两个延伸臂的y形平板，所述延伸臂下端面贴附设有聚四氟乙烯材质的吸附层，每个所述延伸臂上都贯穿设有操作孔，每个所述操作孔都穿入设有吸嘴，所述吸嘴与所述吸附层的下端面齐平；所述直臂上端面设有正压电磁阀、负压电磁阀，所述正压电磁阀、所述负压电磁阀的输入端分别通过气管连接于压缩泵、真空泵，所述正压电磁阀、所述负压电磁阀的输出端分别通过气管连接于四通管的两个输入端，所述四通管的两个输出端分别通过气管连接于两个所述吸嘴。
6.进一步的，所述负压电磁阀与所述真空泵之间的连接管路设有真空计。
7.进一步的，二个所述吸嘴下方吸附设有晶圆，二个所述吸嘴的连接线与所述晶圆中心线重合。
8.进一步的，所述吸附层呈u形。
9.本实用新型的有益效果是：本装置通过手臂板上分别设置正压电磁阀、负压电磁阀形成的二种回路，将吸嘴作为吸附孔，将吸附层作为贴合吸附面，在针对手臂板延伸臂实施晶圆的多次吸附作业后，可通过更换电磁阀气路对吸嘴内的尘埃堵塞进行一次性吹气清除，同时下端面吸附层的聚四氟乙烯材质提供防粘性及润滑性，以避免灰尘粘附并为晶圆提供光滑平整的贴合面，以此对真空手臂吸盘孔及吸盘面的堵塞、污染实施简易高效的清洁操作，避免生产损失并保障晶圆生产工艺的正常实施。
附图说明
10.图1是本实用新型一实施例的结构俯视图；
11.图2是本实用新型一实施例的结构仰视图；
12.图3是本实用新型一实施例的结构管路连接图；
13.图4是本实用新型一实施例的结构侧视图；
14.图5是本实用新型一实施例的作业状态图。
15.图中：10-手臂板、11-操作孔、12-吸附层、21-正压电磁阀、22-负压电磁阀、30-四通管、40-气管、41-压缩泵、42-真空泵、43-真空计、50-吸嘴、60-晶圆。
具体实施方式
16.下面结合说明书附图及实施例对本实用新型作进一步的详细描述。
17.如图1-图4所示，一种带有清洁功能的真空手臂，包括手臂板10，其中，手臂板10为一端直臂、另一端带有两个延伸臂的y形平板，延伸臂下端面贴附设有聚四氟乙烯材质的吸附层12，每个延伸臂上都贯穿设有操作孔11，每个操作孔11都穿入设有吸嘴50，吸嘴50与吸附层12的下端面齐平；直臂上端面设有正压电磁阀21、负压电磁阀22，正压电磁阀21、负压电磁阀22的输入端分别通过气管40连接于压缩泵41、真空泵42，正压电磁阀21、负压电磁阀22的输出端分别通过气管40连接于四通管30的两个输入端，四通管30的两个输出端分别通过气管40连接于两个吸嘴50，负压电磁阀22与真空泵42之间的连接管路设有真空计43。
18.本实用新型的工作原理如下：
19.开启真空泵42与负压电磁阀22，真空泵42负压吸力经过气管40、负压电磁阀22作用于二个延伸臂上的吸嘴50，而后对晶圆60进行拾取工作(如图5所示)，随着拾取操作的多次实施，吸嘴50口的负压会将空气中的灰尘颗粒吸入并造成堵塞，此时真空计43检测到吸附力明显下降，则关闭真空泵42、负压电磁阀22，并开启压缩泵41、正压电磁阀21，令压缩泵41的正压空气经气管40、正压电磁阀21输入至二个吸嘴50，并将流经管路中的堵塞颗粒吹送排出至外界，以此完成一次性清洁工作，之后重新切换成真空泵42负压工作模式，以适应晶圆制造工艺的高效拾取操作，此外，下端面吸附层12的聚四氟乙烯材质可提供防粘性及润滑性，以避免灰尘粘附并为晶圆60提供光滑平整的贴合面，使用者只需间隔较长周期擦拭一次即可，通过上述功能，实现对真空手臂吸盘孔及吸盘面的堵塞、污染实施简易高效的清洁操作，避免生产损失并保障晶圆生产工艺的正常实施。
20.在本实施例中，二个吸嘴50下方吸附设有晶圆60，二个吸嘴50的连接线与晶圆60中心线重合，从而确保晶圆60所受到吸嘴50的吸力作用面尽可能接近中线，防止受力面过于偏向一侧而引发变形，保障晶圆60形态良好。
21.在本实施例中，吸附层12呈u形。在吸附层12与晶圆60贴附时，利用吸附层12的u形轮廓及手臂板10的y形轮廓减小对晶圆60的覆盖面积，晶圆60的热量得以在吸附层12u形轮廓的中部区域顺利散发，有利于高温晶圆60被拾取时的正常冷却，尽可能保障冷却后的晶圆60形态良好。
22.以上所述实施例仅为本实用新型的优选实施方案，并非对本实用新型作出形式上的限制，应当理解，在权利要求书所限定的特征范围内，实施例还可作出其他形式的修改、变动及等同替换，这些都应属于本实用新型的保护范围内。


技术特征：
1.一种带有清洁功能的真空手臂，包括手臂板，其特征在于：所述手臂板一端设有直臂，另一端设有两个延伸臂，所述延伸臂下端面贴附设有吸附层，所述延伸臂上贯穿设有多个操作孔，每个所述操作孔上设有吸嘴，所述直臂上端面设有正压电磁阀、负压电磁阀，所述正压电磁阀、所述负压电磁阀的输入端分别通过气管连接于压缩泵、真空泵，所述正压电磁阀、所述负压电磁阀的输出端分别通过气管连接于四通管的两个输入端，所述四通管的两个输出端分别通过气管连接于两个所述吸嘴。2.如权利要求1所述的带有清洁功能的真空手臂，其特征在于：所述手臂板为y形平板。3.如权利要求1所述的带有清洁功能的真空手臂，其特征在于：所述吸附层采用聚四氟乙烯材质制成。4.如权利要求1所述的带有清洁功能的真空手臂，其特征在于：所述吸嘴与所述吸附层的下端面齐平。5.如权利要求1所述的带有清洁功能的真空手臂，其特征在于：所述负压电磁阀与所述真空泵之间的连接管路设有真空计。6.如权利要求1所述的带有清洁功能的真空手臂，其特征在于：二个所述吸嘴下方吸附设有晶圆，二个所述吸嘴的连接线与所述晶圆中心线重合。7.如权利要求1所述的带有清洁功能的真空手臂，其特征在于：所述吸附层呈u形。

技术总结
本实用新型提供一种带有清洁功能的真空手臂，其中手臂板为一端直臂、另一端带有两个延伸臂的平板，延伸臂下端设有吸附层，延伸臂上贯穿设有操作孔，操作孔穿入设有吸嘴，直臂上端设有正压电磁阀、负压电磁阀，两者分别连于四通管的两个输入端，四通管的两个输出端分别连于两个吸嘴。将吸嘴作为吸附孔，将吸附层作为吸附面，在针对手臂板延伸臂实施晶圆的多次吸附作业后，通过更换电磁阀气路对吸嘴内的尘埃堵塞进行一次性吹气清除，下端面吸附层的聚四氟乙烯材质提供防粘性及润滑性，以避免灰尘粘附并为晶圆提供光滑平整的贴合面，以此对真空手臂吸盘孔及吸盘面的堵塞、污染实施简易高效的清洁操作，避免生产损失并保障晶圆生产工艺的正常实施。工艺的正常实施。工艺的正常实施。


技术研发人员：王瑞华 章程 朱帅 董国庆 文国昇 金从龙
受保护的技术使用者：江西兆驰半导体有限公司
技术研发日：2022.06.28
技术公布日：2022/10/13