一种化学气相沉积电极板装置的制作方法

本技术涉及半导体工艺，具体为一种化学气相沉积电极板装置。

背景技术：

1、随着的不断发展，科学的不断进步，化学气相沉积设备的使用越来越广泛，化学气相沉积设备是利用气态或蒸汽态的物质，在设备上的工艺腔体内发生化学反应，从而在晶圆表面形成一层沉淀薄膜，此层薄膜在集成电路制备中有着重要的作用，因此在对电极板加工时就需要一种化学气相沉积的电极板装置

2、现有的化学气相沉积电极板装置，在设备进行工作时，会有部分工作设备裸露在外，对于裸露在外部的设备起到的保护性较低，在外界不可预测的因素下，随时可能对设备裸露部分造成损伤，使设备无法正产使用，严重时可能会对操作人员造成伤害，为方便设备的全方位使用，大多在设备底部安装有万向轮，但万向轮无法固定，可能使设备在工作时不稳定，工作中的设备若不稳定，随意晃动，可能会造成整个设备损伤。

3、于是，有鉴于此，针对现有的结构不足予以研究改良，提出一种化学气相沉积电极板装置。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种化学气相沉积电极板装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种化学气相沉积电极板装置，包括化学气相沉积电极板设备和保护罩，所述化学气相沉积电极板设备的一侧安装有设备箱，所述设备箱的一侧安装有反应设备，所述保护罩安装于反应设备的一侧，所述保护罩的内表面一侧设置有气孔，所述保护罩的外表面一侧安装有滑动条，所述滑动条的一侧设置有滑槽，所述设备箱的另一侧安装有侧箱，所述侧箱的内表面安装有液压推杆，所述液压推杆的一端安装于橡胶垫。

3、进一步的，所述化学气相沉积电极板设备的外表面下方安装有万向轮，且万向轮沿化学气相沉积电极板设备的底部中心对称设有六个。

4、进一步的，所述侧箱的上方设置有通风口，且通风口的内表面安装有风扇。

5、进一步的，所述风扇的一侧安装有固定板，且固定板的外表面设置有吸附条网。

6、进一步的，所述吸附条网与固定板固定连接，且固定板固定安装于通风口的表面。

7、进一步的，所述滑槽的形状为矩形，且滑槽沿化学气相沉积电极板设备的中心对成设有两个。

8、进一步的，所述侧箱的形状为矩形，且侧箱沿化学气相沉积电极板设备的中心对称设有四个。

9、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

10、1.本实用新型通过保护罩、气孔、滑动条和滑槽的设置，使用该设备时，保护罩通过滑动条与滑槽滑动连接固定，将裸露在外部的一部分反应设备保护，防止在设备工作时，外界对反应设备造成损伤，保护罩上方贯穿设置的气孔，保证保护罩内部的气体流通，防止反应设备工作时产生的热气在内部堆积，对设备工作造成影响；

11、2.本实用新型通过侧箱、液压推杆、橡胶垫和万向轮的设置，整个设备可通过万向轮进行移动，方便设备移动到需要的地方，当设备到达工作地点后，启动侧箱内部的液压推杆将橡胶垫向下推动，使橡胶垫紧贴地面，防止整个设备晃动，使设备在工作时更加稳定；

12、3.本实用新型通过通风口、风扇、固定板和吸附条网的设置，通过风扇将设备工作时产生的热气吹动，通过通风口将热气排出，防止设备内部过热，造成设备损坏，同时固定板上装有的吸附条网，在风扇对设备内部进行散热时，气流带动的灰尘进入设备箱的内部，防止灰尘对反应设备造成损伤，使反应设备使用寿命降低。

技术特征：

1.一种化学气相沉积电极板装置，包括化学气相沉积电极板设备（1）和保护罩（4），其特征在于，所述化学气相沉积电极板设备（1）的一侧安装有设备箱（2），所述设备箱（2）的一侧安装有反应设备（3），所述保护罩（4）安装于反应设备（3）的一侧，所述保护罩（4）的内表面一侧设置有气孔（5），所述保护罩（4）的外表面一侧安装有滑动条（6），所述滑动条（6）的一侧设置有滑槽（7），所述设备箱（2）的另一侧安装有侧箱（8），所述侧箱（8）的内表面安装有液压推杆（9），所述液压推杆（9）的一端安装于橡胶垫（10）。

2.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积电极板装置，其特征在于，所述化学气相沉积电极板设备（1）的外表面下方安装有万向轮（11），且万向轮（11）沿化学气相沉积电极板设备（1）的底部中心对称设有六个。

3.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积电极板装置，其特征在于，所述侧箱（8）的上方设置有通风口（12），且通风口（12）的内表面安装有风扇（13）。

4.根据权利要求3所述的一种化学气相沉积电极板装置，其特征在于，所述风扇（13）的一侧安装有固定板（14），且固定板（14）的外表面设置有吸附条网（15）。

5.根据权利要求4所述的一种化学气相沉积电极板装置，其特征在于，所述吸附条网（15）与固定板（14）固定连接，且固定板（14）固定安装于通风口（12）的表面。

6.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积电极板装置，其特征在于，所述滑槽（7）的形状为矩形，且滑槽（7）沿化学气相沉积电极板设备（1）的中心对称设有两个。

7.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积电极板装置，其特征在于，所述侧箱（8）的形状为矩形，且侧箱（8）沿化学气相沉积电极板设备（1）的中心对称设有四个。

技术总结
本技术公开了一种化学气相沉积电极板装置，包括化学气相沉积电极板设备和保护罩，所述化学气相沉积电极板设备的一侧安装有设备箱，所述设备箱的一侧安装有反应设备，所述保护罩安装于反应设备的一侧，所述保护罩的内表面一侧设置有气孔，所述保护罩的外表面一侧安装有滑动条，所述滑动条的一侧设置有滑槽。该化学气相沉积电极板装置，与现有的普通化学气相沉积电极板装置相比，使用该设备时，保护罩通过滑动条与滑槽滑动连接固定，将裸露在外部的一部分反应设备保护，防止在设备工作时，外界对反应设备造成损伤，保护罩上方贯穿设置的气孔，保证保护罩内部的气体流通，防止反应设备工作时产生的热气在内部堆积，对设备工作造成影响。

技术研发人员：顾泉
受保护的技术使用者：江苏旭宇腾半导体科技有限公司
技术研发日：20221101
技术公布日：2024/1/11