半导体激光器及包含其的光芯片的制作方法

文档序号:36106808发布日期:2023-11-22 12:28阅读:58来源:国知局
半导体激光器及包含其的光芯片的制作方法

本申请属于半导体激光器领域,具体涉及一种半导体激光器及包含其的光芯片。


背景技术:

1、大模场、高功率的单模窄线宽半导体激光器在泵浦、光通信、医疗等领域有着越来越广泛的应用,从而有着较大的应用需求。

2、当增大波导尺寸以增大基模模场时,一个难以避免的问题是模式数目也会变多。虽然高阶横模(简称高阶模)的模式损耗略高于基模,但它们与光栅的作用更强烈,耦合系数更大,从而经过一定长度的光栅时其功率反射率可能比基模更高,使得激光器会多模激射或者基于某个高阶模激射,而不能实现通常期望的基于基模的激射。


技术实现思路

1、本申请是为了保证在增大波导尺寸进而波导为多模波导的情况下,使基模优先于高阶模激射,从而提供一种半导体激光器及包含其的光芯片。

2、本申请提供了一种半导体激光器,具有这样的特征,包括:

3、一或多个脊波导,脊波导包括脊形区与平板区,脊形区的宽度小于或等于平板区的厚度,

4、脊形区与平板区为折射率相同的波导,脊形区的至少一部分为p型掺杂的波导,平板区是n型掺杂的波导。

5、上述的半导体激光器,具有这样的特征:

6、脊波导的材料是ingaasp或ingaas。

7、上述的半导体激光器,具有这样的特征:

8、其还包括位于脊形区上表面的上包层。

9、上述的半导体激光器,具有这样的特征:

10、多个脊波导包括第一脊波导、第二脊波导及第三脊波导,第一脊波导位于第二脊波导、第三脊波导之间;

11、第二脊波导、第三脊波导的脊形区的高度与第一脊波导的脊形区的高度不相等,

12、其中,第一脊波导、第二脊波导及第三脊波导中的至少一者是前述的脊波导。

13、上述的半导体激光器,具有这样的特征:

14、第一脊波导的脊形区的高度大于第二脊波导、第三脊波导的脊形区的高度时,第一脊波导的脊形区是p型掺杂的波导,第二脊波导、第三脊波导的脊形区是p型掺杂的波导和/或n型掺杂的波导;或

15、第一脊波导的脊形区的高度小于第二脊波导、第三脊波导的脊形区的高度时,第二脊波导、第三脊波导的脊形区是p型掺杂的波导,第一脊波导的脊形区是p型掺杂的波导和/或n型掺杂的波导。

16、上述的半导体激光器,具有这样的特征:

17、半导体激光器是分布式反馈dfb激光器、分布式布拉格反射dbr激光器和f-p腔激光器中的任意一者。

18、上述的半导体激光器,具有这样的特征:

19、其还包括发光单元与下包层,脊波导位于下包层之上,发光单元设置在脊波导脊形区的底部与下包层之间。

20、上述的半导体激光器,具有这样的特征:

21、其还包括用于提供光反馈的光栅。

22、上述的半导体激光器,具有这样的特征:

23、当半导体激光器是分布式反馈dfb激光器时,分布式反馈dfb激光器的两端镀膜,

24、分布式反馈dfb激光器的一端镀高反膜,另一端镀高透模;或

25、分布式反馈dfb激光器的两端均镀高透模。

26、本申请还提供一种光芯片,具有这样的特征,光芯片包括前述任一项的半导体激光器。

27、本申请实施例提供的半导体激光器包括一或多个脊波导,脊波导包括脊形区与平板区,脊形区的宽度小于或等于平板区的厚度,脊形区与平板区为折射率相同的波导,脊形区的至少一部分为p型掺杂的波导,平板区是n型掺杂的波导。因为脊波导脊形区的宽度小于或等于平板区的厚度,因此可以使得基模的模场分布与高阶模模场分布明显不同,同时脊形区的至少一部分为p型掺杂的波导,从而可以明显增大高阶模的损耗,进而实现基模激射。



技术特征:

1.一种半导体激光器,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的半导体激光器,其特征在于:

3.根据权利要求1所述的半导体激光器,其特征在于:

4.根据权利要求1所述的半导体激光器,其特征在于:

5.根据权利要求4所述的半导体激光器,其特征在于:

6.根据权利要求1所述的半导体激光器,其特征在于:

7.根据权利要求1所述的半导体激光器,其特征在于:

8.根据权利要求1所述的半导体激光器,其特征在于:

9.根据权利要求6所述的半导体激光器,其特征在于:

10.一种光芯片,其特征在于,所述光芯片包括权利要求1-9中任一项所述的半导体激光器。


技术总结
本申请实施例提供了一种半导体激光器及包含其的光芯片,属于半导体激光器领域。本申请实施例提供的半导体激光器包括一或多个脊波导,脊波导包括脊形区与平板区,脊形区的宽度小于或等于平板区的厚度,脊形区与平板区为折射率相同的波导,脊形区的至少一部分为P型掺杂的波导,平板区是n型掺杂的波导。因为脊波导脊形区的宽度小于或等于平板区的厚度,因此可以使得基模的模场分布与高阶模模场分布明显不同,同时脊形区的至少一部分为P型掺杂的波导,从而可以明显增大高阶模的损耗,进而实现基模激射。

技术研发人员:陈林,付陈忠,彭传艳
受保护的技术使用者:上海图灵智算量子科技有限公司
技术研发日:20221214
技术公布日:2024/1/15
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