工件表面处理设备的制作方法

本技术涉及表面处理领域，尤其是工件表面处理设备。

背景技术：

1、镀膜前通过等离子体清洗对工件进行表面清洗对于提高膜层的质量，尤其是提高涂层的结合力有着关键作用。

2、利用等离子弧光放电的刻蚀工艺是一种常用的清洗刻蚀方法，但是利用等离子弧光放电原理的刻蚀工艺，主要采用传统的电弧离子源结合高偏压（800v或以上）做金属离子清洗，由于采用高能金属离子直接打在工件表面，工件温度升高很快，刻蚀清洗的同时伴随有沉积作用，即清洗的时候同时进行镀膜，工件表面会存在镀膜产生的污染，影响清洗质量。

技术实现思路

1、本实用新型的目的就是为了解决现有技术中存在的上述问题，提供一种工件表面处理设备。

2、本实用新型的目的通过以下技术方案来实现：

3、工件表面处理设备，包括外壳及设置在所述外壳内的工件架，所述外壳上设置有电弧离子源，所述电弧离子源连接刻蚀电源，所述外壳内设置与所述电弧离子源位置相对的挡板，所述外壳内还设置有一组分布在所述工件架外周的辅助阳极，所述辅助阳极及电弧离子源分布在所述挡板的两侧，所述辅助阳极连接所述外壳外部的辅助阳极电源。

4、优选的，所述工件表面处理设备中，每个所述辅助阳极连接一独立的辅助阳极电源。

5、优选的，所述工件表面处理设备中，所述挡板与所述辅助阳极分布在所述工件架的相对的两侧。

6、优选的，所述工件表面处理设备中，所述工件架包括围合成内腔的支撑盘、转动盘及侧板，所述转动盘可转动地设置在所述支撑盘上，所述转动盘上可自转地设置有一圈与其垂直连接轴，所述连接轴的上端设置有工件放置架，每个所述连接轴上共轴设置有一位于所述内腔中的活动齿轮，所述支撑盘上固定设置有与所述转动盘共轴的中心齿轮，所述中心齿轮与围绕在其周围的所述活动齿轮啮合。

7、优选的，所述工件表面处理设备中，所述侧板为多个弧形板件拼装而成，且所述侧板固定在所述转动盘上。

8、优选的，所述工件表面处理设备中，所述连接轴的上端形成有插槽，所述插槽的横截面形状为多边形。

9、优选的，所述工件表面处理设备中，所述连接轴可自转地设置在一密封座中，所述密封座固定在所述转动盘上。

10、优选的，所述工件表面处理设备中，所述密封座包括密封套及连接在密封套上端的密封板，所述连接轴通过所述密封套中的推力轴承可自转地设置在所述密封座中。

11、优选的，所述工件表面处理设备中，所述连接轴包括依次衔接的第一圆柱、第二圆柱及第三圆柱，所述第二圆柱的直径大于所述第一圆柱和第三圆柱的直径，所述第一圆柱穿过所述密封板的中心孔，且所述第二圆柱遮盖在所述密封板的下方。

12、优选的，所述工件表面处理设备中，所述密封板具有嵌入到所述第二圆柱和密封套内壁之间的下凸台，所述下凸台和推力轴承之间设置有一圈球体，所述球体位于所述第二圆柱和密封套的内壁之间。

13、本实用新型技术方案的优点主要体现在：

14、本实用新型在现有的电弧离子清洗结构的基础上，设置挡板来将弧光放电时的金属离子，原子及原子团进行遮挡，从而避免以上离子沉积在工件表面，对工件造成污染；同时通过设置辅助阳极来吸引电子，从而在电子流穿过工件时使得大量氩气电离，电离的氩气轰击工件表面达到清洗刻蚀工件，这样的结构不仅提高了清洗质量，同时离子清洗刻蚀速率大幅提升，最多达到1μm/h。

技术特征：

1.工件表面处理设备，包括外壳及设置在所述外壳内的工件架，所述外壳上设置有电弧离子源，所述电弧离子源连接刻蚀电源，其特征在于：所述外壳内设置与所述电弧离子源位置相对的挡板，所述外壳内还设置有一组分布在所述工件架外周的辅助阳极，所述辅助阳极及电弧离子源分布在所述挡板的两侧，所述辅助阳极连接所述外壳外部的辅助阳极电源。

2.根据权利要求1所述的工件表面处理设备，其特征在于：每个所述辅助阳极连接一独立的辅助阳极电源。

3.根据权利要求1所述的工件表面处理设备，其特征在于：所述挡板与所述辅助阳极分布在所述工件架的相对的两侧。

4.根据权利要求1-3任一所述的工件表面处理设备，其特征在于：所述工件架包括围合成内腔的支撑盘、转动盘及侧板，所述转动盘可转动地设置在所述支撑盘上，所述转动盘上可自转地设置有一圈与其垂直连接轴，所述连接轴的上端设置有工件放置架，每个所述连接轴上共轴设置有一位于所述内腔中的活动齿轮，所述支撑盘上固定设置有与所述转动盘共轴的中心齿轮，所述中心齿轮与围绕在其周围的所述活动齿轮啮合。

5.根据权利要求4所述的工件表面处理设备，其特征在于：所述侧板为多个弧形板件拼装而成，且所述侧板固定在所述转动盘上。

6.根据权利要求4所述的工件表面处理设备，其特征在于：所述连接轴的上端形成有插槽，所述插槽的横截面形状为多边形。

7.根据权利要求4所述的工件表面处理设备，其特征在于：所述连接轴可自转地设置在一密封座中，所述密封座固定在所述转动盘上。

8.根据权利要求7所述的工件表面处理设备，其特征在于：所述密封座包括密封套及连接在密封套上端的密封板，所述连接轴通过所述密封套中的推力轴承可自转地设置在所述密封座中。

9.根据权利要求8所述的工件表面处理设备，其特征在于：所述连接轴包括依次衔接的第一圆柱、第二圆柱及第三圆柱，所述第二圆柱的直径大于所述第一圆柱和第三圆柱的直径，所述第一圆柱穿过所述密封板的中心孔，且所述第二圆柱遮盖在所述密封板的下方。

10.根据权利要求9所述的工件表面处理设备，其特征在于：所述密封板具有嵌入到所述第二圆柱和密封套内壁之间的下凸台，所述下凸台和推力轴承之间设置有一圈球体，所述球体位于所述第二圆柱和密封套的内壁之间。

技术总结
本技术揭示了工件表面处理设备，包括外壳及设置在所述外壳内的工件架，外壳上设置有电弧离子源，电弧离子源连接刻蚀电源，外壳内设置与所述电弧离子源位置相对的挡板，外壳内还设置有一组分布在工件架外周的辅助阳极，辅助阳极及电弧离子源分布在所述挡板的两侧，辅助阳极连接所述外壳外部的辅助阳极电源。本技术在现有的电弧离子清洗结构的基础上，设置挡板来将弧光放电时的金属离子，原子及原子团进行遮挡，从而避免以上离子沉积在工件表面，对工件造成污染；同时通过设置辅助阳极来吸引电子，从而在电子流穿过工件时使得大量氩气电离，电离的氩气轰击工件表面达到清洗刻蚀工件，清洗大幅提升，最多达到1μm/h。

技术研发人员：钱涛,钱政羽,王冬冬
受保护的技术使用者：星弧涂层新材料科技(苏州)股份有限公司
技术研发日：20221220
技术公布日：2024/1/12