一种波浪分切薄膜电容的制作方法

本技术涉及一种电容，特别涉及一种波浪分切薄膜电容。

背景技术：

1、金属化电极薄膜电容器是主要采用介质薄膜表面的金属镀层作为电极，具有优异的电气特性、高稳定性和长寿命，可以满足各种不同的应用。但由于金属镀层很薄，所以与金属箔式电容相比，金属化薄膜电容器的耐电流能力(dv/dt值)相对较低，这限制了其在高频、高压、脉冲大电流工作场合的应用。

2、采用波浪分切金属化薄膜制作的电容能够提高电容器的耐峰值电流冲击能力，有效改善电容电气特性。目前采用波浪分切技术的金属化薄膜电容很多，基本采用单面金属化薄膜方案，并通过错边、留边的方式提升喷金层与电极的有效接触面积，留边越多有效接触面积越大，但在热定型中留边处容易出现倒边现象，两者难以兼顾。

技术实现思路

1、本实用新型要解决的技术问题是提供一种能够在不降低电极、喷金层有效接触面积的前提下避免倒边现象的波浪分切薄膜电容。

2、为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案为：一种波浪分切薄膜电容，包括电容芯，其创新点在于：所述电容芯由依次堆叠设置的双面金属化膜、光膜和单面金属化膜卷绕而成，

3、限定双面金属化膜、光膜和单面金属化膜的卷绕方向为长度方向，另一方向为宽度方向；

4、所述双面金属化膜包括第一绝缘介质层，以及分别设置在第一绝缘介质层上、下表面的第一金属层和第二金属层，且所述双面金属化膜在宽度方向上的两侧边缘均为波浪形；

5、所述光膜为第二绝缘介质层，且光膜在宽度方向上的两侧边缘均为波浪形；

6、所述单面金属化膜包括第三绝缘介质层，以及设置在第三绝缘介质层下表面的第三金属层；

7、所述双面金属化膜、光膜、单面金属化膜自上而下依次堆叠，其中：

8、所述光膜两侧边缘的最大宽度与单面金属化膜的第三绝缘介质层宽度相同，第三绝缘介质层的宽度大于第三金属层的宽度，且第三绝缘介质层在第三金属层宽度方向上的两侧均留边；

9、所述光膜两侧边缘的最大宽度小于双面金属化膜两侧边缘的最小宽度，双面金属化膜在光膜的两侧均留边。

10、优选的，所述第二绝缘介质层为聚丙烯膜。

11、优选的，所述光膜两侧边缘的最大宽度比双面金属化膜两侧边缘的最小宽度小0.5-0.6mm。

12、本实用新型的优点在于：采用双面金属化膜、光膜、单面金属化膜的设置，相较单面金属化膜具有更高的耐电流能力，而光膜、单面金属化膜的宽度小于双面金属化膜两侧边缘的宽度，能够使电极与喷金层的有效接触面积更大，光膜边缘的波浪形设计既能够确保有效接触面积，又能够在热定型时避免双面金属化膜倒边现象。

技术特征：

1.一种波浪分切薄膜电容，包括电容芯，其特征在于：所述电容芯由依次堆叠设置的双面金属化膜、光膜和单面金属化膜卷绕而成，

2.根据权利要求1所述的波浪分切薄膜电容，其特征在于：所述第二绝缘介质层为聚丙烯膜。

3.根据权利要求1所述的波浪分切薄膜电容，其特征在于：所述光膜两侧边缘的最大宽度比双面金属化膜两侧边缘的最小宽度小0.5-0.6mm。

技术总结
本技术涉及一种波浪分切薄膜电容，包括电容芯，其特征在于：所述电容芯由依次堆叠设置的双面金属化膜、光膜和单面金属化膜卷绕而成，所述双面金属化膜的两侧边缘为波浪形；所述光膜的两侧边缘均为波浪形；所述光膜两侧边缘的最大宽度与单面金属化膜的的最大宽度相同，单面金属化膜的绝缘介质层宽度大于金属层的宽度；所述光膜两侧边缘的最大宽度小于双面金属化膜两侧边缘的最小宽度，双面金属化膜在光膜的两侧均留边。优点是：相较单面金属化膜具有更高的耐电流能力，能够使电极与喷金层的有效接触面积更大，光膜边缘的波浪形设计既能够确保有效接触面积，又能够在热定型时避免双面金属化膜倒边现象。

技术研发人员：姜燚,陆建红,姜佳佳,马梦娟,姜珊
受保护的技术使用者：南通日精电子有限公司
技术研发日：20221226
技术公布日：2024/1/13