耗材、等离子体处理装置和耗材的制造方法与流程

本发明涉及耗材(消耗部件)、等离子体处理装置和耗材的制造方法。

背景技术：

1、在干蚀刻装置等等离子体处理装置中，使用因暴露在等离子体中而消耗的耗材。作为耗材，能够采用使用了石英的部件(例如，专利文献1)。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2019-220500号公报

技术实现思路

1、发明要解决的技术问题

2、本发明提供一种廉价地制造等离子体处理装置用的耗材的技术。

3、用于解决技术问题的技术方案

4、本发明是一种耗材，其由石英和陶瓷中的任一种材料形成，用于等离子体处理装置，上述耗材具有：由第一纯度的上述材料形成的芯部；和保护部，其设置于上述芯部的周围的、会因上述等离子体处理装置中的等离子体而发生损耗的部分，由比上述第一纯度高的第二纯度的上述材料形成。

5、发明效果

6、根据本发明，能够廉价地制造等离子体处理装置用的耗材。

技术特征：

1.一种耗材，其由石英和陶瓷中的任一材料形成，用于等离子体处理装置，所述耗材的特征在于，具有：

2.如权利要求1所述的耗材，其特征在于：

3.如权利要求1所述的耗材，其特征在于：

4.如权利要求2所述的耗材，其特征在于：

5.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

6.一种耗材的制造方法，所述耗材由石英和陶瓷中的任一材料形成，用于等离子体处理装置，所述耗材的制造方法的特征在于，包括：

7.一种耗材的制造方法，所述耗材由石英和陶瓷中的任一材料形成，用于等离子体处理装置，所述耗材的制造方法的特征在于，包括：

8.如权利要求6或7所述的耗材的制造方法，其特征在于：

技术总结
一种耗材，其由石英和陶瓷中的任一材料形成，用于等离子体处理装置，上述耗材具有：由第一纯度的上述材料形成的芯部；和保护部，其设置在上述芯部的周围的、会因上述等离子体处理装置中的等离子体发生损耗的部分，由比上述第一纯度高的第二纯度的上述材料形成。

技术研发人员：茂山和基,长山将之,三浦卫
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/2/19