基板载置台、基板处理装置以及基板处理方法与流程

本公开涉及基板载置台、基板处理装置以及基板处理方法。

背景技术：

1、在专利文献1中公开有一种基板载置台，其中，在对基板进行等离子体处理时，抑制了载置台主体的与升降销的贯穿孔相对应的位置处的处理的不均匀性。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2007-273685号公报

技术实现思路

1、发明要解决的问题

2、本公开提供一种抑制基板处理在与升降销相对应的位置处变得不均匀的基板载置台、基板处理装置以及基板处理方法。

3、用于解决问题的方案

4、根据本公开的一技术方案，提供一种基板载置台，其具有载置基板的载置面，其中，该基板载置台具备：基材，其位于所述载置面的下方，由导体构成；升降销，其由导体构成，相对于所述载置面升降；以及销孔，其具有在所述载置面开口的开口部，该销孔形成于所述基材的内部，供所述升降销突出没入，所述升降销包括能够与所述基板接触的上部和与所述上部的下侧连接的下部，在所述上部具有空腔部。

5、发明的效果

6、本公开提供一种抑制基板处理在与升降销相对应的位置处变得不均匀的基板载置台、基板处理装置和基板处理方法。

技术特征：

1.一种基板载置台，其具有载置基板的载置面，其中，

2.根据权利要求1所述的基板载置台，其中，

3.一种基板处理装置，其在处理容器的内部处理基板，其中，

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，

5.一种基板处理方法，其是在基板处理装置的处理容器的内部处理基板的基板处理方法，其中，

技术总结
本公开提供一种抑制基板处理在与升降销相对应的位置处变得不均匀的基板载置台、基板处理装置以及基板处理方法。一种基板载置台，其具有载置基板的载置面，其中，该基板载置台具备：基材，其位于所述载置面的下方，由导体构成；升降销，其由导体构成，相对于所述载置面升降；以及销孔，其具有在所述载置面开口的开口部，该销孔形成于所述基材的内部，供所述升降销突出没入，所述升降销包括能够与所述基板接触的上部和与所述上部的下侧连接的下部，在所述上部具有空腔部。

技术研发人员：深泽润一,边见笃,大上胜行
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15