基板处理装置的制作方法

本公开涉及一种基板处理装置。

背景技术：

1、已知一种在具有包括同心地配置的内筒和外筒的处理容器的基板处理装置中在内筒与外筒之间设置有板状的整流板的结构(例如，参照专利文献1)。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2016-178136号公报

技术实现思路

1、发明要解决的问题

2、本公开提供一种能够抑制处理容器内的气体的流动不均的技术。

3、用于解决问题的方案

4、本公开的一个方式的基板处理装置具备：内筒，其内部形成有用于收容基板的第一区域；外筒，其隔着第二区域地设置于所述内筒的外侧，所述外筒的侧壁的端部具有排气端口；喷嘴，其向所述第一区域喷出气体；以及气体流调整部，其在从所述第一区域到所述排气端口的所述气体的流路内包括从所述气体的流通方向的上游侧朝向下游侧设置的多个狭缝。

5、发明的效果

6、根据本公开，能够抑制处理容器内的气体的流动不均。

技术特征：

1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

6.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，

9.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，

10.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

技术总结
本发明提供一种基板处理装置，能够抑制处理容器内的气体的流动不均。本公开的一个方式的基板处理装置具备：内筒，其内部形成有用于收容基板的第一区域；外筒，其隔着第二区域地设置于所述内筒的外侧，所述外筒的侧壁的端部具有排气端口；喷嘴，其向所述第一区域喷出气体；以及气体流调整部，其在从所述第一区域到所述排气端口的所述气体的流路内包括从所述气体的流通方向的上游侧朝向下游侧设置的多个狭缝。

技术研发人员：坂下训康,城俊彦
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15