一种用于离子注入机的晶片缺口定位结构的制作方法

本发明属于半导体制造领域，涉及离子注入机技术，具体为一种用于离子注入机的晶片缺口定位结构。

背景技术：

1、离子注入机是集成电路制造前工序中的关键设备，离子注入是对半导体表面附近区域进行掺杂的技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型，广泛用于掺杂工艺，可以满足浅结、低温和精确控制等要求，已成为集成电路制造工艺中必不可少的关键装备。

2、在200mm或更大尺寸的晶片的工艺中，90nm及其更高的65nm制程的离子注入工艺中，针对注入时晶片圆周方向角度变化工艺种类：工艺要求倾斜角度“magic”7°，靶台旋转角度22°～45°，必须重点研究离子束注入晶片内沟道时的角度的精确度；在三阱隔离掺杂注入工艺中，围绕沟道轴的小角度变化要求解决的注入重复性问题；在四方位注入中，靶台上待注人的晶片自转45°注入一次，依据晶片传送和定向系统的设计要求，定向旋转由直流编码电机驱动晶片托盘旋转，使晶片的缺口经过光强传感器下方时，接收红外光的光强在瞬间突变迅速判断缺口位置，完成快速且准确定向。

3、而在使用离子注入机对晶片进行加工的过程中，各种晶片的大小有所不同，但在对晶片进行旋转加工的过程中，晶片顶部受不到压制，若边缘处受到碰撞等时，都可能导致晶片从支撑装置上掉落，影响对晶片的加工，同时可能导致晶片损坏。

4、因此我们提出一种用于离子注入机的晶片缺口定位结构，来解决上述中遇到的问题。

技术实现思路

1、针对现有技术存在的不足，本发明提供一种用于离子注入机的晶片缺口定位结构，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、本发明的目的可以通过以下技术方案实现：包括离子注入机本体，所述离子注入机本体一侧的底部设置有驱动装置，所述驱动装置的中间设置有第一电机，所述第一电机前后两侧的底部均固定连接有连接件，两个所述连接件与所述驱动装置螺纹连接，所述第一电机输出轴的一端通过联轴器固定连接有第一转轴，所述第一转轴的顶端固定连接有放置组件，所述第一转轴表面的底部转动连接有第一支撑板，所述第一支撑板顶部的一端固定连接有第一支撑杆，所述第一支撑杆的顶端转动连接有放置盘，所述第一支撑板顶部的中间固定连接有第二支撑杆，所述第二支撑杆的顶端固定连接有第二支撑板，所述第二支撑板的一端固定连接有调整组件，所述调整组件与所述放置组件之间转动连接，所述第二支撑板的另一端固定连接有下压组件，所述下压组件与所述调整组件之间通过皮带传动连接。

3、作为优选的，所述第一电机的一侧转动安装有第一伸缩杆，所述第一伸缩杆的顶端与所述第一支撑板的底部接触。

4、作为优选的，所述放置组件包括圆板，所述圆板顶部的边缘均匀开设有矩形槽，所述圆板的侧面开设有连通槽，所述连通槽与多个所述矩形槽之间连通，所述圆板的顶部且位于所述矩形槽的一侧开设有第一环形槽，所述第一环形槽内壁的底部与所述连通槽之间连通。

5、作为优选的，所述调整组件包括第二电机，所述第二电机输出轴的一端通过联轴器固定连接有第二转轴，所述第二转轴的底端与所述圆板顶部的中间转动连接，所述第二转轴的一侧固定连接有支架，所述支架的底端通过所述第一环形槽且延伸至所述连通槽的内部，所述第二转轴的表面固定连接有第一皮带轮。

6、作为优选的，所述支架的底端固定连接有圆环，所述圆环位于所述连通槽的内部，所述圆环外表面的四周均转动连接有隔板，所述隔板与所述圆环之间设置有弹簧。

7、作为优选的，所述下压组件包括第二伸缩杆和两个弧形板，第二伸缩杆固定安装与所述第二支撑板顶部的一端，所述第二伸缩杆的底端贯穿所述第二支撑板且延伸至所述第二支撑板的底部，所述第二伸缩杆的底端转动连接有连接杆，所述连接杆的表面均匀开设有滑槽，所述连接杆的底端固定连接有压板。

8、作为优选的，两个所述弧形板与所述第二支撑板的底部固定连接，两个所述弧形板位于所述连接杆的左右两侧，所述连接杆的表面套设有第二皮带轮，所述第二皮带轮内部的四周均固定连接有滑块，多个所述滑块均延伸至所述滑槽的内部，所述第二皮带轮的顶端开设有第二环形槽，两个所述弧形板的底端均延伸至所述第二环形槽的内部。

9、作为优选的，所述皮带与所述第一皮带轮和所述第二皮带轮之间传动连接，所述皮带位于两个所述第二支撑杆的中间。

10、作为优选的，所述离子注入机本体顶部的一侧固定安装有第三伸缩杆，所述第三伸缩杆的底端固定安装有第一连接板，所述第一连接板的一端固定连接有矩形框。

11、作为优选的，所述矩形框的一侧转动连接有第二连接板，所述矩形框和所述第二连接板底部的一侧均开设有凹槽，所述矩形框的一侧和所述第二连接板正面的上方均设置有磁板。

12、与现有技术相比，本发明的有益效果：

13、通过在离子注入机本体一侧设置第一电机，第一电机通过第一转轴对放置组件进行转动，而第一转轴通过第一支撑板对放置盘、调整组件和下压组件进行支撑，放置组件与调整组件配合，放置盘和下压组件配合，且两者通过皮带进行传动，便可稳定的对晶片进行支撑，避免在对晶片缺口定位时由于晃动等情况导致位置发生偏斜，影响对晶片的加工；

14、通过在第一电机上设置一个第一伸缩杆，在第一伸缩杆的作用下便可调整第一支撑板的角度，从而改变放置组件和放置盘的方向，两者位置改变方便，可对不同大小的晶片进行加工，满足不同的使用需求；

15、通过在离子注入机本体一侧设置驱动装置，第一电机通过连接件在驱动装置上左右移动，可改变放置组件或是放置盘距离离子注入机本体的距离，方便对不同大小的晶片进行加工处理；

16、通过在离子注入机本体上固定一个第三伸缩杆，其底端固定一个矩形框，便可对离子注入机本体台面处进行遮光，避免周围光线过强，影响离子注入机本体对晶片进行加工处理，而在矩形框一侧转动连接一个第二连接板，将第二连接板处掀开后，便可留下一个方向进行补光，可对离子注入机本体台面处进行光线调整。

技术特征：

1.一种用于离子注入机的晶片缺口定位结构，包括离子注入机本体(1)，所述离子注入机本体(1)一侧的底部设置有驱动装置(2)，所述驱动装置(2)的中间设置有第一电机(3)，所述第一电机(3)前后两侧的底部均固定连接有连接件(4)，两个所述连接件(4)与所述驱动装置(2)螺纹连接，所述第一电机(3)输出轴的一端通过联轴器固定连接有第一转轴(5)，其特征在于，所述第一转轴(5)的顶端固定连接有放置组件(6)，所述第一转轴(5)表面的底部转动连接有第一支撑板(7)，所述第一支撑板(7)顶部的一端固定连接有第一支撑杆(8)，所述第一支撑杆(8)的顶端转动连接有放置盘(9)，所述第一支撑板(7)顶部的中间固定连接有第二支撑杆(10)，所述第二支撑杆(10)的顶端固定连接有第二支撑板(11)，所述第二支撑板(11)的一端固定连接有调整组件(12)，所述调整组件(12)与所述放置组件(6)之间转动连接，所述第二支撑板(11)的另一端固定连接有下压组件(13)，所述下压组件(13)与所述调整组件(12)之间通过皮带(14)传动连接。

2.根据权利要求1所述的一种用于离子注入机的晶片缺口定位结构，其特征在于，所述第一电机(3)的一侧转动安装有第一伸缩杆(15)，所述第一伸缩杆(15)的顶端与所述第一支撑板(7)的底部接触。

3.根据权利要求1所述的一种用于离子注入机的晶片缺口定位结构，其特征在于，所述放置组件(6)包括圆板(61)，所述圆板(61)顶部的边缘均匀开设有矩形槽(62)，所述圆板(61)的侧面开设有连通槽(63)，所述连通槽(63)与多个所述矩形槽(62)之间连通，所述圆板(61)的顶部且位于所述矩形槽(62)的一侧开设有第一环形槽(64)，所述第一环形槽(64)内壁的底部与所述连通槽(63)之间连通。

4.根据权利要求3所述的一种用于离子注入机的晶片缺口定位结构，其特征在于，所述调整组件(12)包括第二电机(121)，所述第二电机(121)输出轴的一端通过联轴器固定连接有第二转轴(122)，所述第二转轴(122)的底端与所述圆板(61)顶部的中间转动连接，所述第二转轴(122)的一侧固定连接有支架(123)，所述支架(123)的底端通过所述第一环形槽(64)且延伸至所述连通槽(63)的内部，所述第二转轴(122)的表面固定连接有第一皮带轮(127)。

5.根据权利要求4所述的一种用于离子注入机的晶片缺口定位结构，其特征在于，所述支架(123)的底端固定连接有圆环(124)，所述圆环(124)位于所述连通槽(63)的内部，所述圆环(124)外表面的四周均转动连接有隔板(125)，所述隔板(125)与所述圆环(124)之间设置有弹簧(126)。

6.根据权利要求5所述的一种用于离子注入机的晶片缺口定位结构，其特征在于，所述下压组件(13)包括第二伸缩杆(131)和两个弧形板(132)，第二伸缩杆(131)固定安装与所述第二支撑板(11)顶部的一端，所述第二伸缩杆(131)的底端贯穿所述第二支撑板(11)且延伸至所述第二支撑板(11)的底部，所述第二伸缩杆(131)的底端转动连接有连接杆(138)，所述连接杆(138)的表面均匀开设有滑槽(133)，所述连接杆(138)的底端固定连接有压板(134)。

7.根据权利要求6所述的一种用于离子注入机的晶片缺口定位结构，其特征在于，两个所述弧形板(132)与所述第二支撑板(11)的底部固定连接，两个所述弧形板(132)位于所述连接杆(138)的左右两侧，所述连接杆(138)的表面套设有第二皮带轮(135)，所述第二皮带轮(135)内部的四周均固定连接有滑块(136)，多个所述滑块(136)均延伸至所述滑槽(133)的内部，所述第二皮带轮(135)的顶端开设有第二环形槽(137)，两个所述弧形板(132)的底端均延伸至所述第二环形槽(137)的内部。

8.根据权利要求7所述的一种用于离子注入机的晶片缺口定位结构，其特征在于，所述皮带(14)与所述第一皮带轮(127)和所述第二皮带轮(135)之间传动连接，所述皮带(14)位于两个所述第二支撑杆(10)的中间。

9.根据权利要求5所述的一种用于离子注入机的晶片缺口定位结构，其特征在于，所述离子注入机本体(1)顶部的一侧固定安装有第三伸缩杆(21)，所述第三伸缩杆(21)的底端固定安装有第一连接板(16)，所述第一连接板(16)的一端固定连接有矩形框(17)。

10.根据权利要求9所述的一种用于离子注入机的晶片缺口定位结构，其特征在于，所述矩形框(17)的一侧转动连接有第二连接板(18)，所述矩形框(17)和所述第二连接板(18)底部的一侧均开设有凹槽(19)，所述矩形框(17)的一侧和所述第二连接板(18)正面的上方均设置有磁板(20)。

技术总结
本发明提供一种用于离子注入机的晶片缺口定位结构，属于半导体制造领域，包括离子注入机本体，所述离子注入机本体一侧的底部设置有驱动装置，所述驱动装置的中间设置有第一电机，所述第一电机前后两侧的底部均固定连接有连接件，两个所述连接件与所述驱动装置螺纹连接。通过在离子注入机本体一侧设置第一电机，第一电机通过第一转轴对放置组件进行转动，而第一转轴通过第一支撑板对放置盘、调整组件和下压组件进行支撑，放置组件与调整组件配合，放置盘和下压组件配合，且两者通过皮带进行传动，便可稳定的对晶片进行支撑，避免在对晶片缺口定位时由于晃动等情况导致位置发生偏斜，影响对晶片的加工。

技术研发人员：孙小冬,王维,宋振海
受保护的技术使用者：无锡翔域半导体有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13