引线框架蚀刻生产线的烘干、清洗、蚀刻一体式设备的制作方法

本发明涉及引线框架蚀刻，尤其涉及引线框架蚀刻生产线的烘干、清洗、蚀刻一体式设备。

背景技术：

1、集成电路是各类电子产品的核心，主要由半导体芯片和引线框架等封装而成，其中引线框架主要起芯片和外面的连接作用，是集成电路制造的关键构件。随着电子信息产品向小型化、薄型化、轻量化、多功能化及智能化方向的发展，集成电路向大规模集成电路和超大规模集成电路方向发展，其铜基引线框架随之向高精密化、引线间距微细化、多脚化的方向发展。

2、蚀刻法是一种无应力的加工手段，首先通过一种感光抗蚀剂将工件部分保护起来，再用一种强氧化剂将其他部分蚀刻掉，最后得到需要的元件。蚀刻型引线框架与传统的冲压引线框架不同，是利用光刻腐蚀的方法来制作引线框架的。与印制电路板的腐蚀加工类似，其基本原理是：利用化学感光材料的光敏特性，在金属基片上形成抗蚀图形掩膜，通过腐蚀剂腐蚀部分金属，得到所需产品。采用蚀刻方式，可很好实现高密度和多脚引线框架的生产，已成为高精密引线框架制造的主流。

3、现有的蚀刻工艺中需要采用喷头喷射蚀刻液体进行加工，大部分的喷头都是无法移动，通过移动引线框架来进行喷射到指定位置，提高喷射的均匀性，药水能够较为均匀地与引线框架发生反应，而一些引线框架为连续不断的长条带，因此无法对引线框架进行移动，会影响到蚀刻的效果。

技术实现思路

1、本发明的目的在于针对现有技术的不足提供引线框架蚀刻生产线的烘干、清洗、蚀刻一体式设备。

2、为实现上述目的，本发明的技术方案如下：

3、引线框架蚀刻生产线的烘干、清洗、蚀刻一体式设备，包括烘干机构、清洗机构以及蚀刻机构。

4、烘干机构包括烘干室，烘干室设置有对引线框架递进输送的烘干通道以及供引线框架通过的进出口，烘干通道沿途设置有对引线框架进行干燥的烘干组件，烘干组件包括多个沿烘干通道长度方向间隔布置的烘干箱，烘干箱成型有朝向于引线框架的出风口，烘干通道沿其长度方向布置有安装件，烘干箱安装有与安装件转动连接的转动调节件；

5、清洗机构连接有退膜缸机构，退膜缸机构包括可转动的退膜缸组件，退膜缸组件包括滚筒以及驱动滚筒转动的转动驱动件，滚筒的筒壁为网状结构，滚筒的一端成型有进液口，另一端同轴成型有出料口，进液口和出料口之间形成供脱膜液通过的离心通道，离心通道的直径由进液口到出料口的不断增加；

6、蚀刻机构包括蚀刻箱，蚀刻箱设置有供引线框架进出的通过口以及对引线框架前进输送的蚀刻通道，蚀刻通道沿途布置有对经过引线框架喷射液体的蚀刻组件，蚀刻组件包括支撑件以及带动支撑件往复移动的移动驱动件，支撑件安装有多个可朝向于引线框架喷射液体的喷射头。

7、本发明的有益效果：需要烘干的引线框架经进出口进入到烘干室，并沿着输送通道前进，烘干箱的出风口对经过的引线框架吹出热风实现烘干，需要对烘干箱的出风口角度调节时，通过转动调节件与安装件的转动配合，使得出风口的朝向发生变化，可变为倾斜吹风，利于热风扩散，且无需对烘干箱进行更换即可完成角度的调节；

8、清洗机构对脱膜后的废液通过进液口进入到滚筒，滚筒不断转动，产生离心力，脱膜液中的将膜和液体分离，使得液体能够循环利用；由于离心通道的直径由进液口到出料口的不断增加，因此废液经过的区域离心力不断增加，使得废液中的液体能够逐渐地被外甩，杂质则通过出料口进行排出，分离效果逐渐增加，分离后的液体能够二次加工后循环利用；

9、需要蚀刻的引线框架经通过口进入到蚀刻箱，蚀刻通道对引线框架前进输送，蚀刻组件工作，安装有多个喷射头的支撑件对经过引线框架喷射药水进行蚀刻，且通过该移动驱动件带动支撑件往复移动，使得喷射头喷出的药水能够较为均匀地与引线框架发生反应，无需移动引线框架，保证蚀刻工艺的稳定性。

技术特征：

1.引线框架蚀刻生产线的烘干、清洗、蚀刻一体式设备，包括烘干机构、清洗机构以及蚀刻机构，其特征在于：

2.根据权利要求1所述的引线框架蚀刻生产线的烘干、清洗、蚀刻一体式设备，其特征在于：所述烘干通道包括沿烘干室长度方向布置的烘干输送板，烘干输送板安装有多个间隔布置地对引线框架支撑输送的烘干输送辊；烘干组件分别布置于烘干通道的上方和下方；安装件包括可调节高度的侧支撑条、纵向安装在烘干通道的第一调节杆，侧支撑条穿设有第二调节杆，第一调节杆和第二调节杆分别连接有调节柱；调节柱一端与另一个烘干组件的侧支撑条连接，调节柱顶部成型有调节座以及与第一调节杆配合的第一调节孔，调节座成型有与第二调节杆配合的第二调节孔。

3.根据权利要求2所述的引线框架蚀刻生产线的烘干、清洗、蚀刻一体式设备，其特征在于：所述转动调节件包括成型在烘干箱侧部的连接块，连接块嵌套有转动轴，转动轴一端安装在侧支撑条，侧支撑条设置有对转动轴松紧安装的紧固件；紧固件包括顶部压合块，顶部压合块以及侧支撑条的贴合面分别成型有供转动轴插入的半圆槽，其中顶部压合块穿设有与侧支撑条连接的松紧螺杆；连接块的截面为椭圆或多边形，转动轴一端成型有与连接块的截面形状相适配的嵌合槽。

4.根据权利要求1所述的引线框架蚀刻生产线的烘干、清洗、蚀刻一体式设备，其特征在于：所述退膜缸组件还包括用于安装滚筒的支撑支架，支撑支架底部安装有与滚筒滚动配合的支撑导轮，滚筒安装有与支撑导轮配合的外环套；外环套分别嵌套在滚筒两端，滚筒还嵌套有多个位于两个外环套之间的固定套，外环套以及固定套的内环壁分别与滚筒的外环壁一体成型连接。

5.根据权利要求4所述的引线框架蚀刻生产线的烘干、清洗、蚀刻一体式设备，其特征在于：所述外环套与固定套的外径均相同，两个外环套之间安装有分别穿过固定套的连接柱；支撑支架底部安装有相互横向对齐的导轮支撑座，导轮支撑座安装有供支撑导轮转动的转动轴；其中位于靠近于出料口的支撑导轮两端面分别同轴安装有限位盘，限位盘的外径大于支撑导轮外径，靠近于出料口的外环套与安装有限位盘的支撑导轮滚动配合。

6.根据权利要求5所述的引线框架蚀刻生产线的烘干、清洗、蚀刻一体式设备，其特征在于：所述转动驱动件包括固定地嵌套在滚筒的齿轮环，齿轮环同轴安装在靠近于进液口的外环套上，支撑支架安装有驱动电机，驱动电机的驱动端安装有与齿轮环啮合传动的驱动齿轮；支撑支架安装有过滤罩，过滤罩底部安装有过滤箱，过滤罩底部成型有与过滤箱连通的过滤通道；支撑支架沿滚筒轴向布置有喷洗组件，喷洗组件包括喷洗管道，喷洗管道沿长度方向布置有多个冲洗喷头；退膜缸机构还包括布置于退膜缸组件旁侧的收废缸，滚筒的固体经出料口排入至收废缸。

7.根据权利要求1所述的引线框架蚀刻生产线的烘干、清洗、蚀刻一体式设备，其特征在于：所述支撑件包括支撑架以及供支撑架滑动的导向板，支撑架上布置有多个底部喷射管，每个底部喷射管安装有多个所述喷射头；导向板垂直于引线框架的前进方向布置，导向板沿其长度方向开设有滑动通道，支撑架安装有与滑动通道滚动配合的导向滚动轮。

8.根据权利要求7所述的引线框架蚀刻生产线的烘干、清洗、蚀刻一体式设备，其特征在于：所述移动驱动件包括可转动的驱动轴，驱动轴安装有偏心轮，偏心轮嵌套有曲柄件，曲柄件一端与支撑架连接；偏心轮开设有供驱动轴插入的偏心孔，曲柄件包括曲柄块，曲柄块成型有用于安装偏心轮的驱动槽，偏心轮与驱动槽滚动配合；驱动槽的内环壁安装有多个与偏心轮滚动配合的凸轮滚珠，驱动槽顶部安装有将凸轮滚珠折叠的遮挡盖，曲柄块一端安装有连接轴，连接轴一端可转动地安装在支撑架上。

9.根据权利要求8所述的引线框架蚀刻生产线的烘干、清洗、蚀刻一体式设备，其特征在于：所述蚀刻组件的支撑件分别布置于蚀刻通道上方和下方，支撑架还安装有多个顶部通液管，顶部通液管垂直于底部喷射管布置，顶部通液管与底部喷射管连通；蚀刻通道包括沿蚀刻箱长度方向布置的蚀刻输送板，蚀刻输送板沿其长度方向间隔地设置有安装结构，安装结构可拆卸地布置有蚀刻输送辊，至少一个以上的安装结构安装有两个对引线框架进行辊压输送的蚀刻输送辊。

10.根据权利要求1所述的引线框架蚀刻生产线的烘干、清洗、蚀刻一体式设备，其特征在于：所述烘干通道和蚀刻通道在引线框架的前进方向对齐，清洗机构设置于烘干机构和蚀刻机构之间。

技术总结
本发明涉及引线框架蚀刻技术领域，尤其涉及引线框架蚀刻生产线的烘干、清洗、蚀刻一体式设备，包括烘干机构、清洗机构以及蚀刻机构，烘干机构包括烘干室，烘干室设置有烘干通道以及烘干进出口；清洗机构包括冲洗室，冲洗室设置有进出口以及冲洗通道；清洗机构连接有将废水进行固液分离的退膜缸机构，蚀刻机构包括蚀刻箱，蚀刻箱设置有通过口以及蚀刻通道；烘干机构的烘干室、清洗机构的清洗箱、蚀刻机构的蚀刻箱相互对齐；其中烘干进出口、清洗进出口以及通过口同轴对齐且接驳，烘干通道与冲洗通道以及蚀刻通道相互接驳形成长条的输送线，使得引线框架能够无缝地从烘干室进入到清洗箱再从清洗箱无缝地进入到蚀刻箱内，减少了引线框架外露的情况。

技术研发人员：苏骞,孟敏,林郁贤
受保护的技术使用者：东莞奥美特科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13