一种导电膜的制造方法及其导电膜、电子设备与流程

本发明涉及导电膜，特别是涉及一种导电膜的制造方法及其导电膜、电子设备。

背景技术：

1、触摸屏是可接收触摸等输入信号的感应式装置。当接触屏幕上的图形按钮时，触摸幕上的触觉反馈系统可根据预先编程的程式驱动各种连结装置，可用以取代机械式的按钮面板，并借由液晶显示画面制造出生动的影音效果。触摸屏赋予了信息交互崭新的面貌，是极富吸引力的全新信息交互设备。

2、导电膜是触摸屏中至关重要的组成部分，一般是压印技术(如纳米压印)在光学胶层压制出预设图案的凹槽，通过使用刮填工具将导电浆料填充至凹槽内，经加热固化使导电浆料形成导电结构，进而形成导电膜。

3、但是，因为浆料中纳米颗粒和凹槽结构在微观尺寸下的表面张力效应，以及浆料中的溶剂挥发，使得凹槽内导电材料填充无法一次填满，通常需要刮刀刮涂填充三次才行，不仅生产效率低，而且增加了多次刮涂过程中的外观不良率，如刮刀线、刮划伤等。

技术实现思路

1、有鉴于此，本发明的目的在于提供一种导电膜的制造方法，通过引入第二光学胶层层叠设置于用于生成导电功能层的第一光学胶层之上，提高单次导电浆料刮填达到的凹槽的填充率，从而可减少导电浆料的刮填次数。

2、本发明提供一种导电膜的制作方法，该方法包括：

3、提供基底；

4、以所述基底的第一表面为承载面，在所述承载面上制作一导电功能层；

5、其中，所述在所述承载面上制作一导电功能层，包括：

6、在所述承载面上设置第一光学胶层；

7、在所述第一光学胶层的远离所述承载面的表面上设置第二光学胶层；

8、在所述第二光学胶层上压印具有预设图案的凹槽，所述凹槽贯通所述第二光学胶层并深入至所述第一光学胶层中；

9、将导电浆料刮填至所述凹槽中，并固化；

10、去除所述第二光学胶层，形成所述导电功能层。

11、具体地，所述第一光学胶层的厚度为：0.4n+m，所述第二光学胶层的厚度为0.6n，其中，n为所述凹槽的宽度，m的取值为1um-10um。

12、具体地，所述第一光学胶层的厚度为1.4um-22um。

13、具体地，所述第二光学胶层的厚度为0.6um-18um。

14、具体地，所述第一光学胶层为热固型压印胶或紫外光固化型压印胶。

15、具体地，所述第二光学胶层为热塑型压印胶。

16、具体地，所述在所述第一光学胶层的远离所述承载面的表面上设置第二光学胶层之前，还包括：

17、对所述第一光学胶层的远离所述承载面的表面进行离型处理，以增加该表面的离型力。

18、具体地，还包括：以所述基底的第二表面为承载面，在该承载面上制作一导电功能层，所述第二表面为所述基底的第一表面的相对面。

19、具体地，还包括：以第三表面为承载面，在该承载面上制作一导电功能层，所述第三表面为以所述第一表面为承载面制作的导电功能层的远离所述基底的表面。

20、本发明还提供一种导电膜，所述导电膜由如上任一项所述的方法制作而成。

21、本发明还提供一种电子设备，包括如上所述的导电膜。

22、综上所述，本发明实施例在制作导电膜的导电功能层的过程中，通过引入第二光学胶层层叠设置于用于生成导电功能层的第一光学胶层之上，并在刮填导电浆料至凹槽中并固化形成导电线路后去除第二光学胶层，可减小单次刮填后导电浆料的上表面与第一光学胶层上表面之间的高度差，提高单次导电浆料刮填达到的凹槽的填充率，从而可减少刮填次数。

技术特征：

1.一种导电膜的制作方法，其特征在于，该方法包括：

2.如权利要求1所述的导电膜的制作方法，其特征在于，所述第一光学胶层的厚度为：0.4n+m，所述第二光学胶层的厚度为0.6n，其中，n为所述凹槽的宽度，m的取值为1um-10um。

3.如权利要求1所述的导电膜的制作方法，其特征在于，所述第一光学胶层的厚度为1.4um-22um。

4.如权利要求1所述的导电膜的制作方法，其特征在于，所述第二光学胶层的厚度为0.6um-18um。

5.如权利要求1所述的导电膜的制作方法，其特征在于，所述第一光学胶层为热固型压印胶或紫外光固化型压印胶。

6.如权利要求1所述的导电膜的制作方法，其特征在于，所述第二光学胶层为热塑型压印胶。

7.如权利要求1所述的导电膜的制作方法，其特征在于，所述在所述第一光学胶层的远离所述承载面的表面上设置第二光学胶层之前，还包括：

8.如权利要求1-7任一所述的导电膜的制作方法，其特征在于，还包括：

9.如权利要求1-7任一所述的导电膜的制作方法，其特征在于，还包括：

10.一种导电膜，其特征在于，所述导电膜由如权利要求1-9中的任一项所述的方法制作而成。

11.一种电子设备，其特征在于，包括如权利要求10所述的导电膜。

技术总结
本发明提供一种导电膜的制作方法及其导电膜、电子设备，该方法包括：提供基底；以所述基底的第一表面为承载面，在所述承载面上制作一导电功能层；其中，所述在所述承载面上制作一导电功能层，包括：在所述承载面上设置第一光学胶层；在所述第一光学胶层的远离所述承载面的表面上设置第二光学胶层第一光学胶层第二光学胶层；在所述第二光学胶层上压印具有预设图案的凹槽，所述凹槽贯通所述第二光学胶层并深入至所述第一光学胶层中；将导电浆料刮填至所述凹槽中，并固化；去除所述第二光学胶层，形成所述导电功能层。该导电膜的制造方法能够减少刮填导电浆料的次数，从而降低由于多次刮填造成的外观不良率，提高生产效率。

技术研发人员：基亮亮,周小红
受保护的技术使用者：维业达科技（江苏）有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/12/17