一种独立的晶圆清洗液供给装置的制作方法

本发明涉及晶圆清洗领域，尤其涉及一种独立的晶圆清洗液供给装置。

背景技术：

1、随着市场的不断发展，对于键合设备的产能要求也不断的提高，其内部配套的清洗设备的效率也成了提高产能的瓶颈之一。因此，需要多个清洗机构，才能达到产能要求。

2、现有技术中，清洗液供给装置与清洗机构一一对应，即，一个清洗机构对应一个清洗液供给装置，元器件重复率极高。

3、此外，现有技术中，清洗机构与清洗液供给装置均在一个清洗模块当中，在多个清洗模块同时布置时，空间狭小难以维护，在多个清洗模块同时布置时，元器件重复率极高且清洗供给系统与电气部分在一个模块中会存在安全隐患。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一个能够同时为多个清洗机构提供清洗液体的独立的晶圆清洗液供给装置，从而使得清洗模块整体成本降低，提升清洗机构和清洗液供给装置的可维护性，且安全新能更高。

2、本发明提供了一种独立的晶圆清洗液供给装置，包括：

3、液体供给模块，被配置成提供清洗液体；

4、液体过滤模块，被配置成对所述液体供给模块提供的清洗液体进行过滤；

5、液体控制分流模块，被配置成对过滤后的液体进行分流和流量控制，提供多个分路的液体，其中，每个分路与一清洗机构连接，所述液体控制分流模块进一步被配置成对管道内液体快速排除，并且在机台闲置情况下进行微量泄露；

6、气体供给模块，被配置成为所述液体供给模块、所述液体过滤模块以及所述液体控制分流模块内的阀组提供气体供应，以控制所述阀组的开关。

7、在一个实施例中，所述液体控制分流模块包括：

8、分流块装置，所述分流块装置将过滤后的液体进行分流，形成所述多个分路，其中，每个分路包括依次连接的流量计、带流量控制的气控阀以及带旁路调节的气控阀。

9、在一个实施例中，所述流量计测量液体流量，确保管路中的液体流量在一预设的工艺范围内，否则将会进行报警。

10、在一个实施例中，所述带流量控制的气控阀控制每个分路上的液体开启或关闭，并且独立调节该分路上的液体流量。

11、在一个实施例中，所述带旁路调节的气控阀在所述晶圆清洗液供给装置闲置情况下切换其内部阀体位置以形成液体的微漏。

12、在一个实施例中，所述液体控制分流模块还包括第一气动隔膜阀，所述第一气动隔膜阀的一端连接所述分流块装置，另一端连接一节流阀，所述第一气动隔膜阀用于短时间内的快速关道冲洗，以及维修状态下迅速排掉管道内的残留液体。

13、在一个实施例中，所述液体供给模块包括手动隔膜阀，所述手动隔膜阀用以控制总体液体开启或关闭，并在维修保养时切断液体供给。

14、在一个实施例中，所述液体供给模块还包括与所述手动隔膜阀连接的第二气动隔膜阀，所述第二气动隔膜阀受到程序控制，直接控制液体的通断，用以实现闲时状态下的停机。

15、在一个实施例中，所述液体供给模块还包括与所述第二气动隔膜阀连接的液体调压阀，用以调节液体管路的压力，保证液体压力的稳定。

16、在一个实施例中，所述液体供给模块还包括与所述液体调压阀连接的压力计，用以测量液体的压力，与所述液体调压阀协作控制液体压力。

17、在一个实施例中，所述气体供给模块包括手阀、第二调压阀和阀组。

18、所述手阀用于控制整体气路的开关。

19、所述气体调压阀用于调节厂务过来的气体压力，起到稳压的作用。

20、所述阀组将电磁阀集成在一起，由软件控制所述阀组中部分阀体的开关。

21、在一个实施例中，所述分流块装置由一个或多个超洁净管连接组成。

22、在一个实施例中，所述独立的晶圆清洗液供给装置还包括外框架模块，用于容纳所述液体供给模块、所述液体过滤模块、所述液体控制分流模块以及所述气体供给模块。

23、本发明的独立的晶圆清洗液供给装置能够为多个清洗机构同时提供清洗液体，且其具有独立空间，排除了其余电器部分干扰，空间大，极大地解决了维护不便的问题。本发明的独立的晶圆清洗液供给装置还能够实现管道液体快速排除，并且在机台闲置情况下能够微量泄露，保证液体流动更新，从而保证液体不会因长久的静置而产生的变质颗粒。

技术特征：

1.一种独立的晶圆清洗液供给装置，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的独立的晶圆清洗液供给装置，其特征在于，所述液体控制分流模块包括：

3.如权利要求2所述的独立的晶圆清洗液供给装置，其特征在于：

4.如权利要求1所述的独立的晶圆清洗液供给装置，其特征在于，所述液体控制分流模块还包括第一气动隔膜阀，所述第一气动隔膜阀的一端连接所述分流块装置，另一端连接一节流阀，所述第一气动隔膜阀用于短时间内的快速关道冲洗，以及维修状态下迅速排掉管道内的残留液体。

5.如权利要求1所述的独立的晶圆清洗液供给装置，其特征在于，所述液体供给模块包括手动隔膜阀，所述手动隔膜阀用以控制总体液体开启或关闭，并在维修保养时切断液体供给。

6.如权利要求1所述的独立的晶圆清洗液供给装置，其特征在于，所述液体供给模块还包括与所述手动隔膜阀连接的第二气动隔膜阀，所述第二气动隔膜阀受到程序控制，直接控制液体的通断，用以实现闲时状态下的停机。

7.如权利要求1所述的独立的晶圆清洗液供给装置，其特征在于，所述液体供给模块还包括与所述第二气动隔膜阀连接的液体调压阀，用以调节液体管路的压力，保证液体压力的稳定。

8.如权利要求1所述的独立的晶圆清洗液供给装置，其特征在于，所述液体供给模块还包括与所述液体调压阀连接的压力计，用以测量液体的压力，与所述液体调压阀协作控制液体压力。

9.如权利要求1所述的独立的晶圆清洗液供给装置，其特征在于，所述气体供给模块包括手阀、气体调压阀和阀组；

10.如权利要求2所述的独立的晶圆清洗液供给装置，其特征在于，所述分流块装置由一个或多个超洁净管连接组成。

11.如权利要求1所述的独立的晶圆清洗液供给装置，其特征在于，还包括外框架模块，用于容纳所述液体供给模块、所述液体过滤模块、所述液体控制分流模块以及所述气体供给模块。

技术总结
本发明提供了一种独立的晶圆清洗液供给装置，至少包括：液体供给模块，被配置成提供清洗液体；液体过滤模块，被配置成对所述液体供给模块提供的清洗液体进行过滤；液体控制分流模块，被配置成对过滤后的液体进行分流和流量控制，提供多个分路的液体，其中，每个分路与一清洗机构连接，液体控制分流模块进一步被配置成对管道内液体快速排除，并且在机台闲置情况下进行微量泄露；气体供给模块，被配置成为所述液体供给模块、所述液体过滤模块以及所述液体控制分流模块内的相关阀提供气体供应，以控制所述相关阀的开关。

技术研发人员：沈鑫佳
受保护的技术使用者：拓荆键科（海宁）半导体设备有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/14