一种显示器件制备方法、显示器件及显示设备与流程

文档序号:35782520发布日期:2023-10-21 17:17阅读:31来源:国知局
一种显示器件制备方法、显示器件及显示设备与流程

本申请涉及半导体,尤其涉及一种显示器件制备方法、显示器件及显示设备。


背景技术:

1、与液晶显示器件(liquid crystal display,lcd)和有机发光半导体

2、(organic electroluminescence display,oled)显示器件相比,微发光二极管(micro-light emitting diode,micro-led)显示器件具有反应快、高色域、高像素密度、高亮度等诸多优势,被广泛应用于各种显示领域。

3、然而,现有的micro led器件通常会发生漏电问题,影响micro led器件的显示性能。


技术实现思路

1、本申请提供了一种显示器件制备方法、显示器件及显示设备,以降低显示器件的漏电风险。

2、第一方面,本申请提供了一种显示器件制备方法,包括:

3、提供一初始架构,所述初始架构包括衬底及位于所述衬底一侧的多个功能台阶,所述多个功能台阶彼此相间隔;

4、在所述初始架构靠近所述功能台阶的一侧制作钝化层,使相邻两所述功能台阶之间的间隙由所述钝化层填充;

5、在所述钝化层上开设通孔,以暴露所述功能台阶远离所述衬底一侧的至少部分表面;

6、在所述通孔位置连接接触电极。

7、基于以上技术方案,本申请制得的显示器件中,功能台阶之间的间隙可由钝化层填充。从而,可减少其他物质,尤其是后续工艺的金属在间隙中的堆积,降低发生漏电的风险,进而可降低显示器件的功耗,确保显示器件的显示亮度及对比度,改善显示效果。

8、在一些可能的实施方式中,所述在所述初始架构靠近所述功能台阶的一侧制作钝化层,使所述钝化层填充于相邻两所述功能台阶之间的间隙中,包括:

9、使液态的钝化材料覆盖于任意相邻两所述功能台阶之间的间隙以及所述功能台阶远离所述衬底的一侧;

10、固化液态的所述钝化材料,以形成所述钝化层。

11、在一些可能的实施方式中,所述使液态的钝化材料覆盖于任意相邻两所述功能台阶之间的间隙以及所述功能台阶远离所述衬底的一侧,包括:

12、将液态的所述钝化材料注射至所述初始架构靠近所述功能台阶的一侧;

13、静置所述初始架构,使液态的所述钝化材料流平;

14、对所述钝化材料进行旋平。

15、在一些可能的实施方式中,所述固化液态的所述钝化材料,以形成钝化层,包括:

16、在常温以及10pa~100pa的真空环境下,使所述钝化材料固化2min~5min;

17、在80℃~120℃环境下,使所述钝化材料固化5min~10min;

18、在300℃~350℃环境下,使所述钝化材料固化20min~30min。

19、在一些可能的实施方式中,液态的所述钝化材料包括氧化硅、氧化钛以及n-甲基吡咯烷酮。

20、第二方面,本申请还提供了一种显示器件,包括初始架构、钝化层和接触电极;

21、其中,所述初始架构包括衬底及位于所述衬底一侧的多个功能台阶,所述多个功能台阶彼此相间隔;

22、所述钝化层覆盖于任意相邻两所述功能台阶之间的间隙以及所述功能台阶远离所述衬底一侧;

23、所述接触电极与所述功能台阶远离所述衬底的一侧电连接。

24、在一些可能的实施方式中,所述钝化层上开设有通孔,所述功能台阶远离所述衬底一侧表面的至少部分通过所述通孔外露;

25、所述接触电极穿设于所述通孔,并与所述功能台阶接触电连接。

26、在一些可能的实施方式中,所述钝化层有液态的钝化材料固化而成,所述钝化材料包括氧化硅、氧化钛以及n-甲基吡咯烷酮。

27、在一些可能的实施方式中,所述功能台阶包括依次层叠设置的发光台阶、透明导电层和电极层,所述发光台阶位于所述透明导电层靠近所述衬底的一侧;

28、所述接触电极与所述电极层接触电连接。

29、第三方面,本申请还提供了一种显示设备,包括如上各实施方式中提供的所述显示器件。



技术特征:

1.一种显示器件制备方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的显示器件制备方法,其特征在于,所述在所述初始架构靠近所述功能台阶的一侧制作钝化层,使所述钝化层填充于相邻两所述功能台阶之间的间隙中,包括:

3.根据权利要求2所述的显示器件制备方法,其特征在于,所述使液态的钝化材料覆盖于任意相邻两所述功能台阶之间的间隙以及所述功能台阶远离所述衬底的一侧,包括:

4.根据权利要求2所述的显示器件制备方法,其特征在于,所述固化液态的所述钝化材料,以形成钝化层,包括:

5.根据权利要求2至4任一项所述的显示器件制备方法,其特征在于,液态的所述钝化材料包括氧化硅、氧化钛以及n-甲基吡咯烷酮。

6.一种显示器件,其特征在于,包括初始架构、钝化层和接触电极;

7.根据权利要求6所述的显示器件,其特征在于,所述钝化层上开设有通孔,所述功能台阶远离所述衬底一侧表面的至少部分通过所述通孔外露;

8.根据权利要求6或7所述的显示器件,其特征在于,所述钝化层有液态的钝化材料固化而成,所述钝化材料包括氧化硅、氧化钛以及n-甲基吡咯烷酮。

9.根据权利要求6或7所述的显示器件,其特征在于,所述功能台阶包括依次层叠设置的发光台阶、透明导电层和电极层,所述发光台阶位于所述透明导电层靠近所述衬底的一侧;

10.一种显示设备,其特征在于,包括如权利要求7至9任一项所述的显示器件。


技术总结
本申请公开了一种显示器件制备方法、显示器件及显示设备,涉及半导体技术领域。显示器件制备包括:提供一初始架构,所述初始架构包括衬底及位于所述衬底一侧的多个功能台阶,所述多个功能台阶彼此相间隔;在所述初始架构靠近所述功能台阶的一侧制作钝化层,使相邻两所述功能台阶之间的间隙由所述钝化层填充;在所述钝化层上开设通孔,以暴露所述功能台阶远离所述衬底一侧的至少部分表面;在所述通孔位置连接接触电极。本申请制得的显示器件,可减少漏电问题的发生。

技术研发人员:毛学,张珂
受保护的技术使用者:深圳市思坦科技有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/15
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