基板处理装置及基板处理方法与流程

本发明涉及一种对基板进行规定的处理的基板处理装置及基板处理方法。

背景技术：

1、为了对液晶显示装置或有机电致发光(electro luminescence，el)显示装置等中使用的平板显示器(flat panel display，fpd)用基板、半导体基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板或太阳能电池用基板等各种基板进行各种处理，而使用基板处理装置。为了对基板进行清洗，而使用基板清洗装置。

2、日本专利特开2022-51029号公报所记载的基板清洗装置包括上侧保持装置、下侧保持装置及下表面清洗装置。上侧保持装置包含一对下卡盘及一对上卡盘。配置于一对下卡盘之间且一对上卡盘之间的基板被一对下卡盘及一对上卡盘夹入。由此，在一对下卡盘及一对上卡盘与基板的外周端部相接的状态下，对作为清洗对象的基板进行保持。下表面清洗装置对由上侧保持装置保持的基板的下表面中央区域进行清洗。

3、下侧保持装置是所谓的旋转卡盘，在对基板的下表面中央区域进行吸附保持的同时使基板以水平姿势旋转。下表面清洗装置进一步对由下侧保持装置保持的基板的下表面中包围下表面中央区域的区域(以下，称为下表面外侧区域)进行清洗。

4、上侧保持装置及下侧保持装置隔开间隔沿上下方向排列。因此，所述基板清洗装置还包括在上侧保持装置与下侧保持装置之间进行基板的交接的交接装置。交接装置包含多个支撑销及将所述多个销连结的销连结构件。多个支撑销以朝向上方延伸的方式安装于销连结构件。在基板由多个支撑销的上端部支撑的状态下，销连结构件上下移动。由此，在上侧保持装置与下侧保持装置之间搬送基板。

技术实现思路

1、如上所述，交接装置在将基板支撑于多个支撑销上的状态下，使所述基板沿上下方向移动。各支撑销具有比搬送基板的搬送机器人的基板保持部(手)等低的刚性。因此，各支撑销容易受到在使销连结构件上下移动的驱动部产生的振动、或在交接装置附近产生的振动等的影响而振动。在此情况下，在上侧保持装置与下侧保持装置之间搬送基板时，有偏离基板应存在的位置的可能性。另外，所述交接装置通过多个支撑销沿上下方向移动而使基板移动。然而，交接装置不具有使多个支撑销沿水平方向移动的结构。因此，例如若在利用交接装置接收基板时在基板产生水平方向上的位置偏离，则在所述交接装置无法消除所述位置偏离。

2、若在由上侧保持装置保持的基板产生位置偏离，则有无法准确地对本来应清洗的区域(下表面中央区域)进行清洗的可能性。另外，若在由下侧保持装置保持的基板产生位置偏离，则有无法准确地对本来应清洗的区域(下表面外侧区域)进行清洗的可能性。

3、本发明的目的在于提供一种能够抑制因位置偏离而引起的基板的处理不良的产生的基板处理装置及基板处理方法。

4、按照本发明的一方面的基板处理装置包括：处理单元；以及搬送装置，具有对基板进行保持的保持部，且构成为能够通过使所述保持部移动而进行相对于所述处理单元而言的基板的搬入及基板的搬出，所述处理单元包含：腔室，具有开口部且形成包含第一处理位置及第二处理位置的处理空间；第一处理部，对收容于所述腔室内且配置于所述第一处理位置的处理前的基板进行第一处理；以及第二处理部，对收容于所述腔室内且配置于所述第二处理位置的所述第一处理后的基板进行第二处理，所述搬送装置通过使所述保持部经由所述开口部而进入至所述处理空间内，接收配置于所述第一处理位置的基板，将所接收的基板在所述处理空间内搬送并定位于所述第二处理位置。

5、按照本发明的另一方面的基板处理方法包含：通过处理单元对基板进行处理的步骤；以及使用搬送装置搬送基板的步骤，所述处理单元包含：腔室，具有开口部且形成包含第一处理位置及第二处理位置的处理空间；第一处理部，对收容于所述腔室内且配置于所述第一处理位置的处理前的基板进行第一处理；以及第二处理部，对收容于所述腔室内且配置于所述第二处理位置的所述第一处理后的基板进行第二处理，所述搬送装置具有对基板进行保持的保持部，且构成为能够通过使所述保持部移动而进行相对于所述处理单元而言的基板的搬入及基板的搬出，所述对基板进行处理的步骤包含：通过所述第一处理部对所述处理前的基板进行所述第一处理；以及通过所述第二处理部对所述第一处理后的基板进行第二处理，所述搬送步骤包含：通过使所述保持部经由所述开口部而进入至所述处理空间内，接收配置于所述第一处理位置的基板，将所接收的基板在所述处理空间内搬送并定位于所述第二处理位置。

技术特征：

1.一种基板处理装置，包括：

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述搬送装置包含固定装置，所述固定装置在通过所述保持部对基板进行保持的情况下，将基板固定于所述保持部中的预先决定的位置，

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，所述保持部构成为以水平姿势对基板进行保持，

4.根据权利要求1至3中任一项所述的基板处理装置，其中，所述第一处理部及所述第二处理部中的其中一者包含：

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述搬送装置包含位置检测装置，所述位置检测装置在通过所述保持部对基板进行保持的情况下，对基板相对于所述保持部的相对位置进行检测，

6.一种基板处理方法，包含：

7.根据权利要求6所述的基板处理方法，其中，所述搬送基板的步骤包含：

8.根据权利要求6或7所述的基板处理方法，其中，所述保持部构成为以水平姿势对基板进行保持，

9.根据权利要求6至8中任一项所述的基板处理方法，其中，所述第一处理部及所述第二处理部中的其中一者包含：

10.根据权利要求6所述的基板处理方法，其中，所述搬送基板的步骤包含：

技术总结
本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，能够抑制因位置偏离而引起的基板的处理不良的产生。所述基板清洗装置包含腔室、第一处理部及第二处理部。腔室形成包含第一处理位置及第二处理位置的处理空间。第一处理部对在腔室内配置于第一处理位置的基板进行第一处理。第二处理部对在腔室内配置于第二处理位置的基板进行第二处理。主机器人通过使对基板进行保持的手移动而进行相对于基板清洗装置而言的基板的搬入及基板的搬出。另外，主机器人通过使手进入至处理空间内而接收配置于第一处理位置的基板，搬送至第二处理位置并进行定位。

技术研发人员：冲田展彬,中村一树,冈田吉文
受保护的技术使用者：株式会社斯库林集团
技术研发日：
技术公布日：2024/3/27