一种硅片清洗机台的制作方法

本技术涉及硅片加工，具体为一种硅片清洗机台。

背景技术：

1、硅片，是制作集成电路的重要材料，通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成各种半导体器件，硅片在加工时需要对其进行清洗作业，其中申请号为：“cn209266366u”所公开的“硅片清洗装置”，其已经解决了无法清洗硅片表面残液的技术弊端，再经进一步检索发现，其申请号为“cn204216011u”所公开的“硅片清洗装置”，其中通过及具体的技术结构设置，切实解决了对硅片清洗不彻底的缺点，但在实际使用时类似结构的装置还存在诸多缺陷，如，多数是采用喷淋的方式对硅片进行清洗，喷淋的清洗质量不高，同时在使用时因喷淋的冲击会造成硅片表面损坏的情况；同时在对硅片清洗完成后不具备对其表面进行去水烘干的功能，导致后续的设备无法第一时间对硅片进行加工处理，所以需要设计一种硅片清洗机台。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种硅片清洗机台，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种硅片清洗机台，包括台池和安装架，所述台池内部的一侧设置有浸泡腔，且浸泡腔的一侧设置有清洗腔，所述浸泡腔的内部转动安装有第一传送链，且清洗腔的内部转动安装有第二传送链，所述台池的正面与背面固定安装有多组安装座，且安装座的内侧固定安装有超声波振动棒，所述第二传送链的一侧转动安装有第三传送链，所述安装架的内部转动安装有第四传送链，所述台池和安装架的正面固定安装有驱动电机，所述安装架的顶部固定安装有烘干罩，且烘干罩的顶部固定安装有烘干机，所述台池的底部固定安装有控制箱。

3、使用本技术方案的一种硅片清洗机台，台池可以对清洗液进行储存，台池内部的一侧设置有浸泡腔，通过浸泡腔可以对硅片进行预打湿浸泡，浸泡腔的一侧设置有清洗腔，台池的正面与背面固定安装有多组安装座，安装座的内侧固定安装有超声波振动棒，安装座可以对超声波振动棒与外部的电源连接，从而通过超声波振动棒可以对清洗腔内的硅片通过超声波的方式进行清洗，超声波的方式增加了对硅片清洗的质量，同时避免清洗时造成硅片表面损伤的情况；

4、浸泡腔的内部转动安装有第一传送链，第一传送链可以对浸泡腔内浸泡玩抽的硅片传送带到清洗腔内，且清洗腔的内部转动安装有第二传送链，第二传送链通过转动可以对清洗完成后的硅片进行传输移动，第二传送链的一侧转动安装有第三传送链，通过第三传送链可以对清洗完成后的硅片进行沥水处理；

5、安装架固定安装在台池的另一侧，且安装架的内部转动安装有第四传送链，安装架的顶部固定安装有烘干罩，且烘干罩的顶部固定安装有烘干机，通过烘干罩与烘干机配合可以对第四传送链上传输的硅片进行烘干处理，便于后续的设备对硅片进行加工处理，驱动电机可以对第一传送链、第二传送链、第三传送链、第四传送链提供动力。

6、优选的，所述台池底部的另一侧固定安装有排水管，且台池底部的一侧固定安装有加水管，加水管和排水管的底部固定安装有电磁阀。台池底部的另一侧固定安装有排水管，通过排水管可以对台池内部的清洗液进行排出，同时加水管与外部的清洗液管道连接，从而通过加水管可以对台池内加注清洗液，加水管与排水管的底部固定安装有电磁阀，通过电磁阀可以对加水管与排水管的开启与关闭进行控制，从而实现了对台池内自动更换清洗液的功能。

7、优选的，所述控制箱的内部固定安装有plc控制器，且plc控制器的一侧固定安装有变频器。plc控制器可以对清洗台作业进行自动控制，同时变频器可以对驱动电机作业时的转速进行控制。

8、优选的，所述浸泡腔的一侧滑动安装有隔离板，且台池的背部固定安装有电动推杆。隔离板可以对浸泡腔与清洗腔进行隔离处理，同时电动推杆通过伸展可以对隔离板进行抬升，从而便于浸泡腔内的硅片传输到清洗腔内。

9、优选的，所述控制箱的正面活动安装有密封门，且密封门正面的一侧固定安装有安全锁。密封门可以对控制箱的正面进行闭合密封，同时通过安全锁可以对密封门闭合时进行锁定。

10、优选的，所述台池底部的两侧固定安装有支撑架，且支撑架的底部固定安装有脚板。支撑架可以对清洗机台放置使用时的底部进行支撑，同时脚板增加了支撑架底部的受力面积，提高了支撑架对清洗机台支撑时的稳固性。

11、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

12、1、通过设置壳体与浸泡腔、清洗腔、超声波振动棒、第一传送链、第二传送链配合，壳体可以对清洗液进行储存，同时通过浸泡腔可以对硅片进行预打湿浸泡处理，清洗腔通过内部的超声波振动棒可以通过超声的方式对硅片进行清洗，通过超声波清洗的方式增加了对硅片清洗的质量，同时避免清洗时造成硅片表面损伤的情况，第一传送链可以对浸泡腔内的硅片进行传输，第二传输带可以对清洗完成后的硅片进行清洗。

13、2、通过设置加水管与排水管、电磁阀、第三传送链、第四传送链、烘干罩、烘干机配合，加水管可以对清洗台加注清洗液，同时排水管可以对清洗台内的清洗液进行排出，通过电磁阀可以对加水管与排水管的开关进行控制，从而实现了对清洗台进行自动换液的功能，第三传送链可以对清洗完成后的硅片进行沥水处理，烘干罩与烘干机可以对第四传送链上的硅片进行烘干处理，从而便于后续的设备对硅片进行加工作业。

技术特征：

1.一种硅片清洗机台，包括台池(2)和安装架(8)，其特征在于：所述台池(2)内部的一侧设置有浸泡腔(201)，且浸泡腔(201)的一侧设置有清洗腔(202)，所述浸泡腔(201)的内部转动安装有第一传送链(11)，且清洗腔(202)的内部转动安装有第二传送链(12)，所述台池(2)的正面与背面固定安装有多组安装座(701)，且安装座(701)的内侧固定安装有超声波振动棒(7)，所述第二传送链(12)的一侧转动安装有第三传送链(13)，所述安装架(8)的内部转动安装有第四传送链(14)，所述台池(2)和安装架(8)的正面固定安装有驱动电机(3)，所述安装架(8)的顶部固定安装有烘干罩(9)，且烘干罩(9)的顶部固定安装有烘干机(901)，所述台池(2)的底部固定安装有控制箱(4)。

2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机台，其特征在于：所述台池(2)底部的另一侧固定安装有排水管(1501)，且台池(2)底部的一侧固定安装有加水管(15)，加水管(15)和排水管(1501)的底部固定安装有电磁阀(1502)。

3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机台，其特征在于：所述控制箱(4)的内部固定安装有plc控制器(16)，且plc控制器(16)的一侧固定安装有变频器(1601)。

4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机台，其特征在于：所述浸泡腔(201)的一侧滑动安装有隔离板(6)，且台池(2)的背部固定安装有电动推杆(10)。

5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机台，其特征在于：所述控制箱(4)的正面活动安装有密封门(5)，且密封门(5)正面的一侧固定安装有安全锁(501)。

6.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机台，其特征在于：所述台池(2)底部的两侧固定安装有支撑架(1)，且支撑架(1)的底部固定安装有脚板(101)。

技术总结
本技术涉及硅片加工技术领域，尤其涉及一种硅片清洗机台。其技术方案包括：台池和安装架，台池内部的一侧设置有浸泡腔，且浸泡腔的一侧设置有清洗腔，浸泡腔的内部转动安装有第一传送链，且清洗腔的内部转动安装有第二传送链，台池的正面与背面固定安装有多组安装座，且安装座的内侧固定安装有超声波振动棒，第二传送链的一侧转动安装有第三传送链。本技术通过各种结构的组合使得本清洗机台通过超声的方式对硅片进行清洗，超声波清洗的方式增加了对硅片清洗的质量，同时避免清洗时造成硅片表面损伤的情况，且本清洗机台可以对清洗完后的硅片进行烘干处理，从而便于后续的设备对硅片进行加工作业。

技术研发人员：师伟,张翠芸,苏江涛
受保护的技术使用者：西安中晶半导体材料有限公司
技术研发日：20230209
技术公布日：2024/1/12