半导体制程真空腔的静电吸盘快速排气结构的制作方法

本技术关于一种半导体制程真空腔的静电吸盘快速排气结构，尤指一种应用于半导体制程设备的优化结构所属。

背景技术：

1、目前已知半导体制程加工装置如图6所示，其包括一真空室本体10、一静电吸盘组20及一惰性气体供给模块30构成，该真空室本体10设有一真空腔11、一密封盖12及一真空抽气机13，而该真空腔11与密封盖12枢接，于真空腔11以密封盖12密封后，以真空抽气机13将真空腔11内抽为真空状态，该静电吸盘组20贯通设有数通气口21，而该静电吸盘组20下方设有微细的数沟槽23，且该通气口21与数沟槽23导通，该惰性气体供给模块30设有相互连接的一惰性气体控制槽31及一连接管32，其静电吸盘组20设于该真空室本体10内，该惰性气体供给模块30的连接管32，与静电吸盘组20所设通气口21导通连接，借由将至少一晶圆片体50置于静电吸盘组20上进行静电吸附，该静电吸盘组20设有温控装置，将热经由静电吸盘组20传导至吸附的晶圆片体50，为使晶圆片体50导热更加均匀，进一步将惰性气体(氩气)由通气口21均匀导入数沟槽23，因静电吸盘组20静电吸附晶圆片体50，该数沟槽23内流动的惰性气体(氩气)，于晶圆片体50顶、底侧产生气体压差，避免晶圆片体50顶、底侧因压力不均匀产生跳动或浮动，以提升制程的均匀性与稳定性，使晶圆片体50上的温度在半导体制程反应时，呈现所期望设定值的均匀温度，然制程结束时惰性气体仍残留于惰性气体供给模块30的连接管32，同时也残留在晶圆片体50底侧与数沟槽23间，因此要解除静电吸盘组20的静电吸附，使晶圆片体50压差平衡产生浮动或跳动以取出晶圆片体50，需排除连接管32与数沟槽23内的惰性气体，使真空状态真空室本体10内的晶圆片体50顶、底侧达到压差平衡，其排除残留惰性气体所需的时间长，造成制程时间效率及生产成本的提升；若加大静电吸盘组20的数沟槽23，则会导致原本只是用来均温的惰性气体大量在制程中流入真空室本体10的真空腔11中，使真空腔11的真空度无法达到制程反应所需低压，影响整体的生产制程，造成加工便利性及加工效率性不佳的问题，故有改良的必要者。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种半导体制程真空腔的静电吸盘快速排气结构，其加工便利性及加工效率性较佳。

2、本实用新型的主要目的，在于提供一种半导体制程真空腔的静电吸盘快速排气结构，包括一真空室本体、一静电吸盘组及一惰性气体供给模块，该真空室本体设有一真空腔、一密封盖及一真空抽气机，而该真空腔与密封盖枢接，于真空腔以密封盖密封后，以真空抽气机将真空腔内抽为真空状态，该静电吸盘组贯通设有数通气口，而该静电吸盘组的底侧设有一进气管，且该进气管与通气口导通，该静电吸盘组顶面设有数沟槽，且该数沟槽与通气口连通，该惰性气体供给模块设有相互连接的一惰性气体控制槽及一连接管，其静电吸盘组设于该真空室本体内，该惰性气体供给模块的连接管与静电吸盘组所设进气管导通连接；其特征在于：进一步设有一辅助抽气装置组，该辅助抽气装置组设有一第一气动阀，而该第一气动阀设有一抽气端及一回气端，其中该抽气端与静电吸盘组所设该进气管导通连接，而该回气端与惰性气体供给模块所设连接管导通连接。

3、在一较佳实施例中，该真空室本体的真空腔侧边近底缘设有一抽气导口，而该辅助抽气装置组设有一第一气动阀、一第二气动阀、一连接管及一三通接头，且该第一气动阀设有一抽气端及一回气端，该第二气动阀设有一抽气端及一回气端，其中该真空腔的抽气导口，与第二气动阀所设抽气端导通连接，该第二气动阀的回气端与该连接管一端连接，而该连接管另端与第一气动阀的抽气端导通连接，且该第一气动阀的回气端与三通接头一侧连接，该三通接头的另外二侧分别与静电吸盘组的进气管及惰性气体供给模块的连接管导通连接，借由惰性气体供给模块的连接管制程中供气至静电吸盘组时，该辅助抽气装置组的第一气动阀及第二气动阀为关闭状态，未启动辅助抽气装置组作动抽气，该惰性气体供给模块正常作动供气至静电吸盘组，当惰性气体供给模块关闭未供气制程中止，则连动第一气动阀及第二气动阀作动，进行辅助抽气装置组的辅助抽气作动，将真空室本体的真空腔及静电吸盘组的进气管中残留的惰性气体，进行回抽至惰性气体供给模块，使静电吸盘组上的晶圆片体加工完成后可快速进行取片，以增加本实用新型的多重实用性。

4、在一较佳实施例中，该辅助抽气装置组的第一气动阀所设抽气端进一步结合设有一手动阀，而该第二气动阀所设抽气端进一步结合设有一手动阀，其手动阀能够依制程设计或其他应用需求进行开启或关闭，使装置运作更为灵活，以增加本实用新型的多重实用性。

5、借由一真空室本体、一静电吸盘组、一惰性气体供给模块及辅助抽气装置组配合，其用于至少一晶圆片体的加工，该静电吸盘组设于真空室本体内，以进行晶圆片体的静电吸附，而该惰性气体供给模块连接静电吸盘组进行加工制程中的惰性气体供气，提供制程所需控温的传导作用，且该辅助抽气装置组连接真空室本体及静电吸盘组，当加工制程结束辅助将残留的惰性气体快速抽出，使静电吸盘组上的晶圆片体加工完成后可快速进行取片，有效缩点加工制程的时间，且使加工制程更为顺畅，以达加工稳定性及便利性佳的功效。

6、本实用新型的有益效果：其加工便利性及加工效率较佳。

技术特征：

1.一种半导体制程真空腔的静电吸盘快速排气结构，包括一真空室本体、一静电吸盘组及一惰性气体供给模块，该真空室本体设有一真空腔、一密封盖及一真空抽气机，而该真空腔与密封盖枢接，于真空腔以密封盖密封后，以真空抽气机将真空腔内抽为真空状态，该静电吸盘组贯通设有数通气口，而该静电吸盘组的底侧设有一进气管，且该进气管与通气口导通，该静电吸盘组顶面设有数沟槽，且该数沟槽与通气口连通，该惰性气体供给模块设有相互连接的一惰性气体控制槽及一连接管，其静电吸盘组设于该真空室本体内，该惰性气体供给模块的连接管与静电吸盘组所设进气管导通连接；其特征在于：半导体制程真空腔的静电吸盘快速排气结构：进一步设有一辅助抽气装置组，该辅助抽气装置组设有一第一气动阀，而该第一气动阀设有一抽气端及一回气端，其中该抽气端与静电吸盘组所设该进气管导通连接，而该回气端与惰性气体供给模块所设连接管导通连接。

2.如权利要求1所述的半导体制程真空腔的静电吸盘快速排气结构，其特征在于：该辅助抽气装置组的第一气动阀所设抽气端进一步结合设有一手动阀，其手动阀能够依制程设计或其他应用需求进行开启或关闭。

3.如权利要求1或2所述的半导体制程真空腔的静电吸盘快速排气结构，其特征在于：该静电吸盘组设于真空室本体内，以进一步与一晶圆片体进行静电吸附与加工，而该惰性气体供给模块连接静电吸盘组进行加工制程中的惰性气体供气，提供制程所需控温的传导作用，且该辅助抽气装置组连接真空室本体及静电吸盘组，当加工制程结束辅助将残留的惰性气体快速抽出，使静电吸盘组上的晶圆片体加工完成后可快速进行取片。

4.一种半导体制程真空腔的静电吸盘快速排气结构，包括一真空室本体、一静电吸盘组及一惰性气体供给模块，该真空室本体设有一真空腔、一密封盖及一真空抽气机，而该真空腔与密封盖枢接，于真空腔以密封盖密封后，以真空抽气机将真空腔内抽为真空状态，该静电吸盘组贯通设有数通气口，而该静电吸盘组的底侧设有一进气管，且该进气管与通气口导通，该静电吸盘组顶面设有数沟槽，且该数沟槽与通气口连通，该惰性气体供给模块设有相互连接的一惰性气体控制槽及一连接管，其静电吸盘组设于该真空室本体内，该惰性气体供给模块的连接管与静电吸盘组所设进气管导通连接；其特征在于：半导体制程真空腔的静电吸盘快速排气结构：进一步设有一辅助抽气装置组，该辅助抽气装置组设有一第一气动阀、一第二气动阀、一连接管及一三通接头，且该第一气动阀设有一抽气端及一回气端，该第二气动阀设有一抽气端及一回气端，其中该真空腔的抽气导口与第二气动阀所设抽气端导通连接，该第二气动阀的回气端与该连接管一端连接，而该连接管另端与第一气动阀的抽气端导通连接，且该第一气动阀的回气端与三通接头一侧连接，该三通接头的另外二侧分别与静电吸盘组的进气管及惰性气体供给模块的连接管导通连接。

5.如权利要求4所述的半导体制程真空腔的静电吸盘快速排气结构，其特征在于：该辅助抽气装置组的第一气动阀所设抽气端进一步结合设有一手动阀，而该第二气动阀所设抽气端进一步结合设有一手动阀，其手动阀能够依制程设计或其他应用需求进行开启或关闭。

技术总结
本技术公开了一种半导体制程真空腔的静电吸盘快速排气结构，其包括一真空室本体、一静电吸盘组、一惰性气体供给模块及辅助抽气装置组，其用于至少一晶圆片体的加工，该静电吸盘组设于真空室本体内，以进行晶圆片体的静电吸附，而该惰性气体供给模块连接静电吸盘组进行加工制程中的惰性气体供气，提供制程所需控温的传导作用，且该辅助抽气装置组连接真空室本体及静电吸盘组，当加工制程结束辅助将残留的惰性气体快速抽出，使静电吸盘组上的晶圆片体加工完成后可快速进行取片，有效缩点加工制程的时间，且使加工制程更为顺畅，以达加工稳定性及便利性佳之功效。

技术研发人员：刘华炜
受保护的技术使用者：刘华炜
技术研发日：20230515
技术公布日：2024/1/15