阵列基板、显示面板以及显示装置的制作方法

文档序号:36692772发布日期:2024-01-16 11:29阅读:19来源:国知局
阵列基板、显示面板以及显示装置的制作方法

本技术一般涉及显示,具体涉及一种阵列基板、显示面板以及显示装置。


背景技术:

1、对于阵列基板的衬底作为显示面板的出光面,由于位于阵列基板上的薄膜晶体管中的金属层上方没有遮光层遮挡,导致显示面板对环境光的反射率显著增大,使得显示效果变差。


技术实现思路

1、本申请期望提供一种阵列基板、显示面板以及显示装置,至少用以降低阵列基板对环境光的反射,以提高显示效果。

2、第一方面,本实用新型提供一种阵列基板,包括自所述阵列基板出光面顺次层叠设置的栅极层、栅绝缘层和数据线层;还包括层叠设置的第一减反射层和第二减反射层;

3、在所述出光面的正投影中,所述栅极层的栅极图案位于所述第一减反射层的减反射图案内,所述数据线层的数据线图案位于所述第二减反射层的减反射图案内;

4、所述第一减反射层位于所述栅极层靠近所述出光面的一侧,所述第二减反射层位于所述数据线层靠近所述出光面的一侧。

5、作为可实现方式,所述第二减反射层位于所述数据线层与所述栅极层之间。

6、作为可实现方式,所述第一减反射层和所述第二减反射层均位于所述栅极层靠近所述出光面的一侧。

7、作为可实现方式,所述第二减反射层位于所述第一减反射层与所述栅极层之间;或,所述第一减反射层位于所述第二减反射层与所述栅极层之间。

8、作为可实现方式,所述第一减反射层和所述第二减反射层分别为单层结构和复合层结构中的任一种。

9、作为可实现方式,所述复合层结构包括层叠设置的第一子层和第二子层;所述第一子层为moox层、monb层和monbox层中的至少任一种;所述第二子层为sin层、sio2层和sioxny层中的至少任一种。

10、作为可实现方式,所述栅极层为mo/al/mo层或al/mo层。

11、作为可实现方式,所述阵列基板的出光侧设置有减反偏光片。

12、第二方面,本实用新型提供一种显示面板,包括上述的阵列基板。

13、第三方面,本实用新型提供一种显示装置,包括上述的阵列基板或上述的显示面板。

14、上述方案,通过设置第一减反射层和第二减反射层;且,第一减反射层位于栅极层靠近出光面的一侧,第二减反射层位于数据线层靠近出光面的一侧;也即,通过第一减反射层对栅极层进行遮挡,通过第二减反射层对数据线层进行遮挡,使环境光不能照射到栅极层和数据线层,而被栅极层和数据线层反射,因此,降低了阵列基板对环境光的反射,即降低了环境光反射对显示的干扰,故,提高了显示效果。



技术特征:

1.一种阵列基板,包括自所述阵列基板出光面顺次层叠设置的栅极层、栅绝缘层和数据线层;其特征在于,还包括层叠设置的第一减反射层和第二减反射层;

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第二减反射层位于所述数据线层与所述栅极层之间。

3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一减反射层和所述第二减反射层均位于所述栅极层靠近所述出光面的一侧。

4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述第二减反射层位于所述第一减反射层与所述栅极层之间;或,所述第一减反射层位于所述第二减反射层与所述栅极层之间。

5.根据权利要求1-4任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述第一减反射层和所述第二减反射层分别为单层结构和复合层结构中的任一种。

6.根据权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述复合层结构包括层叠设置的第一子层和第二子层;所述第一子层为moox层、monb层和monbox层中的至少任一种;所述第二子层为sin层、sio2层和sioxny层中的至少任一种。

7.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,所述栅极层为mo/al/mo层或al/mo层。

8.根据权利要求1-4任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板的出光侧设置有减反偏光片。

9.一种显示面板,其特征在于,包括权利要求1-8任一项所述的阵列基板。

10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-8任一项所述的阵列基板或权利要求9所述的显示面板。


技术总结
本申请公开了一种阵列基板、显示面板以及显示装置,其中,阵列基板,包括自所述阵列基板出光面顺次层叠设置的栅极层、栅绝缘层和数据线层;还包括层叠设置的第一减反射层和第二减反射层;在所述出光面的正投影中,所述栅极层的栅极图案位于所述第一减反射层的减反射图案内,所述数据线层的数据线图案位于所述第二减反射层的减反射图案内;所述第一减反射层位于所述栅极层靠近所述出光面的一侧,所述第二减反射层位于所述数据线层靠近所述出光面的一侧。上述方案,降低了阵列基板对环境光的反射,提高了显示效果。

技术研发人员:刘亚彬,杨杰,臧远生,许徐飞,邰迎喜,周如,徐德智,王效坤
受保护的技术使用者:合肥京东方光电科技有限公司
技术研发日:20230609
技术公布日:2024/1/15
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