本技术属于离子注入,具体是一种旋转式离子注入装置。
背景技术:
1、离子注入主要指当离子束射到固体材料以后,受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来,并最终停留在固体材料中的现象。在离子注入的过程中,有一束离子束射向一块固体材料时,离子束把固体材料的原子或分子撞出固体材料表面,从而出现溅射现象,而当离子束射到固体材料时,从固体材料表面弹了回来,或者穿出固体材料而去,会出现散射现象。
2、离子注入技术在材料科学、电子工程、光学、生物医学等领域有着广泛的应用。离子注入技术在不受热力学因素影响的情况下,扩展了材料的原子类型,在掺杂离子的浓度和分布上,较易控制,与其他涂层等表面处理技术不同,离子注入不会改变试样的几何尺寸,并能生成改性层,避免了加载的涂层与基体间分层和基体力学性能改变的问题。
3、现有中国专利文件公开号为cn 219099292u的一种高温辅助离子注入的装置通过测温装置能够精确的测量离子注入工件的表面温度,从而精确控制加热温度,提高注入效果;通过旋转电机带动旋转机构,使得工作靶能够旋转一周,让全部注入面依次完成离子注入,提高了注入效率。
4、现有离子注入辅助装置通过将工件嵌在工作靶的各个面处,当工作靶带动工件转动时,可以支撑工件表面的离子注入工作,而工作靶表面嵌入工件的位置形状一般与工件适配,不利于进行不同尺寸、类型工件的固定工作,不利于进行批次的工件离子注入工作,大大降低了离子注入效率。
技术实现思路
1、为了克服现有离子注入辅助装置通过将工件嵌在工作靶的各个面处,当工作靶带动工件转动时,可以支撑工件表面的离子注入工作,而工作靶表面嵌入工件的位置形状一般与工件适配,不利于进行不同尺寸、类型工件的固定工作,不利于进行批次的工件离子注入工作的不足,本申请实施例提供一种旋转式离子注入装置,通过在工作靶的各个面设置内部带有多个固定片的靶板,多个固定片通过其上的滑柱在靶板上的多个第一斜槽、多个第二斜槽、多个第一直槽和多个第二直槽的内部滑动,调节对应固定片置于靶板表面的各个区域内,可以组合多个固定片固定多个不同尺寸和类型的工件同时进行离子注入工作,有利于进行批量工件的离子注入工作,灵活性高。
2、本申请实施例解决其技术问题所采用的技术方案是:
3、一种旋转式离子注入装置,包括靶板、工作靶和旋转机构,靶板设置有多个,每一个均用于承载工件,并使工件接收离子光束;
4、工作靶设置成多面体,多个所述靶板分别设置于工作靶的多个面处;
5、旋转机构设置于工作靶的正下方;
6、其中,所述旋转机构的底部设置有底座,所述底座的内部设置有驱动旋转机构转动的电机,所述靶板的内部均设置有多个固定片。
7、在一种可能的实现方式中,所述靶板一侧的内部加工有多个第一直槽、多个第二直槽、多个第一斜槽和多个第二斜槽,多个所述第一直槽竖直设置,多个所述第二直槽水平设置,多个所述第一斜槽与多个所述第一直槽的夹角均为四十五度,多个所述第一斜槽与多个所述第二斜槽相互垂直。
8、在一种可能的实现方式中,多个所述第一直槽和多个第二直槽排布成网状,且在靶板的表面处形成多个正方形格子,多个所述第一斜槽和多个第二斜槽位于多个正方形格子的对角线处,且与多个第一直槽和多个第二直槽的内部相连通。
9、在一种可能的实现方式中,多个所述固定片均包括第一板片,所述第一板片的一端一体式成型有滑柱,所述第一板片的另一端设置有第二板片,多个所述固定片上的滑柱分别滑动式连接在多个第一直槽、多个第二直槽、多个第一斜槽和多个第二斜槽的内部。
10、在一种可能的实现方式中,所述第一板片一侧的表面加工有两个收纳槽口,所述第二板片的一端位于收纳槽口的内部,且销接式连接有销轴,所述第一板片的顶部加工有滑道,两个所述收纳槽口分别位于第一板片的两条长边处,销接至第二板片一端内部的销轴中部滑动式连接在滑道的内部。
11、在一种可能的实现方式中,所述第二板片靠近销轴的一端底部加工有两个限位条,两个所述收纳槽口的底部均加工有多个限位槽,当所述第二板片的底部表面与收纳槽口的底部内壁贴合时,两个所述限位条分别扣入两个收纳槽口底部内壁处的限位槽内。
12、在一种可能的实现方式中,所述第二板片的顶部表面与第一板片的顶部表面齐平,所述限位条和限位槽的截面均为等腰三角形,所述限位条与限位槽相适配。
13、在一种可能的实现方式中,所述第二板片远离销轴的一端加工有凸起,该凸起位于第一板片的一侧,且表面与第一板片的底部表面相齐平,所述销轴位于滑道一端时,所述第二板片的一端与收纳槽口一端的内壁相贴合,所述第二板片上的凸起处与第一板片远离滑柱的一端留有间隙。
14、综上所述,本实用新型包括以下至少一种有益技术效果:
15、1.通过在工作靶的各个面设置内部带有多个固定片的靶板,多个固定片通过其上的滑柱在靶板上的多个第一斜槽、多个第二斜槽、多个第一直槽和多个第二直槽的内部滑动,调节对应固定片置于靶板表面的各个区域内,可以组合多个固定片固定多个不同尺寸和类型的工件同时进行离子注入工作,有利于进行批量工件的离子注入工作,效率较高;
16、2.通过控制第二板片绕销轴转动,当销轴在滑道的内部滑动,调整第二板片与第一板片组合后的整体长度,有利于根据多个固定片在靶板上进行不同尺寸工件的夹持工作。
17、附图说明
18、图1为本实用新型的整体结构示意图;
19、图2为本实用新型靶板的结构示意图;
20、图3为本实用新型图2中a部的放大示意图;
21、图4为本实用新型靶板的主视图;
22、图5为本实用新型固定片的结构示意图;
23、图6为本实用新型第二板片翻起状态下的结构示意图。
1.一种旋转式离子注入装置,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的一种旋转式离子注入装置,其特征在于:所述靶板(4)一侧的内部加工有多个第一直槽(7)、多个第二直槽(9)、多个第一斜槽(5)和多个第二斜槽(6);
3.如权利要求2所述的一种旋转式离子注入装置,其特征在于:多个所述第一直槽(7)和多个第二直槽(9)排布成网状,且在靶板(4)的表面处形成多个正方形格子,多个所述第一斜槽(5)和多个第二斜槽(6)位于多个正方形格子的对角线处,且与多个第一直槽(7)和多个第二直槽(9)的内部相连通。
4.如权利要求1所述的一种旋转式离子注入装置,其特征在于:多个所述固定片(8)均包括第一板片(801),所述第一板片(801)的一端一体式成型有滑柱(802),所述第一板片(801)的另一端设置有第二板片(804);
5.如权利要求4所述的一种旋转式离子注入装置,其特征在于:所述第一板片(801)一侧的表面加工有两个收纳槽口(803),所述第二板片(804)的一端位于收纳槽口(803)的内部,且销接式连接有销轴(805),所述第一板片(801)的顶部加工有滑道(808);
6.如权利要求5所述的一种旋转式离子注入装置,其特征在于:所述第二板片(804)靠近销轴(805)的一端底部加工有两个限位条(806),两个所述收纳槽口(803)的底部均加工有多个限位槽(807);
7.如权利要求6所述的一种旋转式离子注入装置,其特征在于:所述第二板片(804)的顶部表面与第一板片(801)的顶部表面齐平,所述限位条(806)和限位槽(807)的截面均为等腰三角形,所述限位条(806)与限位槽(807)相适配。
8.如权利要求5所述的一种旋转式离子注入装置,其特征在于:所述第二板片(804)远离销轴(805)的一端加工有凸起,该凸起位于第一板片(801)的一侧,且表面与第一板片(801)的底部表面相齐平;