一种超表面的制作方法

文档序号:36633153发布日期:2024-01-06 23:21阅读:29来源:国知局
一种超表面的制作方法

本申请涉及超表面,具体而言,涉及一种超表面。


背景技术:

1、超表面是一种由亚波长尺寸的人工纳米结构按照一定排列方式组成的二维薄膜结构。超表面的透过率是决定超表面能否大规模推广应用的关键因素。目前超表面可以根据纳米结构的类型分为正结构超表面和负结构超表面。这两种类型的超表面都存在透过率低的技术缺陷,难以满足光学产品中的光学元件的透过率需求。现有技术公开了很多种提高正结构超表面透过率的方式,但暂未发现提高负结构超表面透过率的解决方法。因此,如何提高负结构超表面的透过率亟待解决。


技术实现思路

1、为解决现有存在的技术问题,本申请实施例提供了一种超表面。

2、本申请实施例提供了一种超表面,增透膜覆盖于所述超表面之上,所述超表面包括基底,所述基底的一侧表面的不同位置设置有多个负纳米结构,所述多个负纳米结构的深度小于所述基底的厚度;

3、所述增透膜覆盖于所述基底的所述一侧表面的未设置所述多个负纳米结构的区域的上方。

4、本申请实施例提供的超表面通过在负结构超表面的表面设置增透膜,能够在实现原有超表面功能的同时,提高对工作波段内电磁波的透过率,从而提高使用该超表面的光学系统的光学效率。



技术特征:

1.一种超表面(1),其特征在于,增透膜(30)覆盖于所述超表面(1)之上,其中,

2.根据权利要求1所述的超表面,其特征在于,当所述超表面的工作波段为中红外波段时,所述增透膜(30)被配置为光经过所述增透膜(30)的等效光程大于或等于0.55um且小于或等于2.52um。

3.根据权利要求2所述的超表面,其特征在于,所述增透膜(30)被配置为光经过所述增透膜(30)的等效光程大于或等于0.8um且小于或等于2.4um。

4.根据权利要求1所述的超表面,其特征在于,当所述超表面的工作波段为远红外波段时,所述增透膜(30)被配置为光经过所述增透膜(30)的等效光程大于或等于0.99um且小于或等于3.36um。

5.根据权利要求4所述的超表面,其特征在于,所述增透膜(30)被配置为光经过所述增透膜(30)的等效光程大于或等于1.44um且小于或等于3.2um。

6.根据权利要求1所述的超表面,其特征在于,所述增透膜(30)为单层膜。

7.根据权利要求1所述的超表面,其特征在于,所述增透膜(30)为多层膜,所述多层膜的各层互不相同或所述多层膜中的部分层互不相同。

8.根据权利要求1所述的超表面,其特征在于,所述多个负纳米结构(20)所呈现的空间为圆柱空间、椭圆柱空间、矩形柱空间、方柱空间、十字柱空间中的任一种或多种的组合。

9.根据权利要求8所述的超表面,其特征在于,所述多个负纳米结构(20)中的每一个的内部包括套内纳米结构(201),所述套内纳米结构(201)自其所在的负纳米结构(20)的底部延伸至与所述基底(10)的所述一侧表面(101)平齐,所述套内纳米结构(201)的形状为圆柱、椭圆柱、矩形柱、方柱、十字柱中的任一种或多种的组合。


技术总结
本申请提供了一种超表面,其中所述超表面包括基底,所述基底的一侧表面的不同位置设置有多个负纳米结构,所述多个负纳米结构的深度小于所述基底的厚度。所述超表面上设置有增透膜,所述增透膜覆盖于所述基底的所述一侧表面的未设置所述负纳米结构的区域的上方。本申请所提供的设置有增透膜的超表面能够在实现原有超表面功能的同时,提高对工作波段内电磁波的透过率,从而提高使用所述超表面的光学系统的光学效率。

技术研发人员:韩雨希,郝成龙,谭凤泽,朱健
受保护的技术使用者:深圳迈塔兰斯科技有限公司
技术研发日:20230804
技术公布日:2024/1/15
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