一种气体分配器的制作方法

本技术涉及电介质刻蚀机设备的，具体为一种气体分配器。

背景技术：

1、气体分布装置中的核心部件气体分配器用于向等刻蚀硅片传送气相化学物质，以便通过化学气相沉积原子层沉积或类似方法，在硅片表面沉积均匀的薄膜或薄层，原子层沉积是半导体工艺中制备薄膜器件的关键步骤。

2、根据公开号为：cn212542349u的中国专利，一种电介质刻蚀机气体分配器结构，包括分配板，分配板的顶部开设有分配腔，分配腔的底壁均匀开设有第一分配孔，第一分配孔的底部轴心处开设有第二分配孔，第一分配孔的底部周向开设有第三分配孔。

3、上述方案仍存在如下缺点：此气体分配器在使用中，将工艺气体通过五组进气孔流动至分配腔内部，经第一分配孔、第二分配孔和第三分配孔的导向流向至刻蚀腔内，对待加工的晶片表面进行刻蚀或沉积，然而，工艺气体激发时产生的等离子体进行冲击形成污染物会残留在第一分配孔、第二分配孔和第三分配孔内，不便于拆卸，导致工作人员难以对内部的污染物进行清理，从而会影响分配板的后续使用，为此我们提出了一种气体分配器。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是为了提供一种气体分配器，以解决工艺气体激发时产生的等离子体进行冲击形成污染物会残留在第一分配孔、第二分配孔和第三分配孔内，不便于拆卸，导致工作人员难以对内部的污染物进行清理，从而会影响分配板的后续使用的问题。

2、为了实现上述实用新型目的，本实用新型采用了以下技术方案：一种气体分配器，包括分配板，所述分配板的顶面开设有分配腔，所述分配腔的内部底面开设有若干个分配孔，若干个所述分配孔的内部分别设有若干个导流块，所述导流块的外壁开设有若干个分流槽，所述导流块的底面开设有放置槽，所述放置槽的内部设有两个定位柱，所述放置槽的左侧内壁、右侧内壁分别开设有活动孔，所述分配孔的左侧内壁、右侧内壁分别开设有定位槽，两个所述定位柱分别贯穿左侧活动孔、右侧活动孔，并分别延伸至两个定位槽内。

3、优选的，两个所述定位柱相靠近的一端分别固定有挤压板，两个所述挤压板相远离的一侧分别固定有第一弹簧，两个所述第一弹簧分别环绕在两个定位柱上，两个所述第一弹簧相远离的一端分别与放置槽的左侧内壁、右侧内壁固定连接。

4、优选的，所述放置槽的内部顶面开设有滑槽，所述挤压板的顶面固定与滑动块，所述滑动块滑动设置在滑槽内。

5、优选的，所述分配腔的内壁开设有安装槽，所述安装槽的内部底面固定有密封条，所述密封条的顶面设有盖板，所述盖板的顶面开设有若干个进气孔。

6、优选的，所述盖板的左侧、右侧分别开设有限位槽，所述分配板的左侧、右侧分别开设有导向孔，所述分配板的左侧、右侧分别固定有安装块，两个所述安装块的一侧分别开设有连接孔，两个所述连接孔的内部分别滑动插设有限位柱，两个所述限位柱分别贯穿两个导向孔，并分别延伸至两个限位槽内。

7、优选的，两个所述限位柱的外壁分别固定有固定环，两个所述固定环相远离的一端分别固定有第二弹簧，两个所述第二弹簧相远离的一端分别与两个安装块的一侧固定连接，两个所述限位柱相远离的一端分别固定有拉动柱。

8、与现有技术相比，采用了上述技术方案的一种气体分配器，具有如下有益效果：

9、一、在使用中，通过分配孔、导流块、分流槽对分配腔内部的工艺气体进行分配，通过分流槽可以达到对部分工艺气体改变气流的流动方向，当工作人员需要对分配孔内部工艺气体激发时产生的等离子体进行冲击形成的污染物进行清理时，工作人员可以先移动两个定位柱，使得两个定位柱分别远离两个定位槽后，即可将导流块进行拆卸，便于工作人员对分配孔、导流块上的污染物进行清理，反之，当需要安装时，先将两个定位柱相互靠近，接着将导流块放入分配孔内，然后将两个定位柱相互远离，使得两个定位柱分别滑动插设在两个定位槽内，完成安装，通过定位柱、放置槽、活动孔、定位槽便于工作人员对导流块进行拆卸，利于工作人员对分配孔、导流块上的污染物进行清理；

10、二、在使用中，当工作人员移动两个定位柱相互靠近时，可以通过移动两个挤压板利于工作人员对两个定位柱进行移动，此时，两个第一弹簧处于挤压状态，当松开两个挤压板后，通过两个第一弹簧的回弹力，利于两个挤压板、两个定位柱进行自动复位，当工作人员挤压两个挤压板时，此时，通过滑动块、滑槽可以对挤压板进行限位，从而可以防止挤压板偏移，利于增加挤压板移动时的稳定性；

11、三、在使用中，工艺气体可以通过进气孔流动至分配腔内，对工艺气体进行初步分配均匀的目的，此时，通过密封条可以增加密封性，有效地防止工艺气体漏出，起到密封作用，当工作人员需要对分配腔内部工艺气体激发时产生的等离子体进行冲击形成的污染物进行清理时，可以先移动两个限位柱，使得两个限位柱相远离，导向孔具有导向作用，当限位柱远离限位槽后，即可将盖板进行拆卸，从而便于工作人员对分配腔内部的污染物进行清理，当工作人员拉动限位柱时，此时，第二弹簧处于挤压状态，当松开限位柱后，通过第二弹簧的回弹力，利于限位柱可以进行自动复位。

技术特征：

1.一种气体分配器，包括分配板(1)，其特征在于，所述分配板(1)的顶面开设有分配腔(2)，所述分配腔(2)的内部底面开设有若干个分配孔(3)，若干个所述分配孔(3)的内部分别设有若干个导流块(4)，所述导流块(4)的外壁开设有若干个分流槽(5)，所述导流块(4)的底面开设有放置槽(6)，所述放置槽(6)的内部设有两个定位柱(7)，所述放置槽(6)的左侧内壁、右侧内壁分别开设有活动孔(8)，所述分配孔(3)的左侧内壁、右侧内壁分别开设有定位槽(9)，两个所述定位柱(7)分别贯穿左侧活动孔(8)、右侧活动孔(8)，并分别延伸至两个定位槽(9)内。

2.根据权利要求1所述的一种气体分配器，其特征在于：两个所述定位柱(7)相靠近的一端分别固定有挤压板(10)，两个所述挤压板(10)相远离的一侧分别固定有第一弹簧(11)，两个所述第一弹簧(11)分别环绕在两个定位柱(7)上，两个所述第一弹簧(11)相远离的一端分别与放置槽(6)的左侧内壁、右侧内壁固定连接。

3.根据权利要求2所述的一种气体分配器，其特征在于：所述放置槽(6)的内部顶面开设有滑槽(12)，所述挤压板(10)的顶面固定与滑动块(13)，所述滑动块(13)滑动设置在滑槽(12)内。

4.根据权利要求1所述的一种气体分配器，其特征在于：所述分配腔(2)的内壁开设有安装槽(14)，所述安装槽(14)的内部底面固定有密封条(15)，所述密封条(15)的顶面设有盖板(16)，所述盖板(16)的顶面开设有若干个进气孔(17)。

5.根据权利要求4所述的一种气体分配器，其特征在于：所述盖板(16)的左侧、右侧分别开设有限位槽(18)，所述分配板(1)的左侧、右侧分别开设有导向孔(19)，所述分配板(1)的左侧、右侧分别固定有安装块(20)，两个所述安装块(20)的一侧分别开设有连接孔(21)，两个所述连接孔(21)的内部分别滑动插设有限位柱(22)，两个所述限位柱(22)分别贯穿两个导向孔(19)，并分别延伸至两个限位槽(18)内。

6.根据权利要求5所述的一种气体分配器，其特征在于：两个所述限位柱(22)的外壁分别固定有固定环(23)，两个所述固定环(23)相远离的一端分别固定有第二弹簧(24)，两个所述第二弹簧(24)相远离的一端分别与两个安装块(20)的一侧固定连接，两个所述限位柱(22)相远离的一端分别固定有拉动柱(25)。

技术总结
本技术涉及电介质刻蚀机设备的领域，公开了一种气体分配器，包括分配板，所述分配板的顶面开设有分配腔，所述分配腔的内部底面开设有若干个分配孔，若干个所述分配孔的内部分别设有若干个导流块，所述导流块的外壁开设有若干个分流槽，所述导流块的底面开设有放置槽，所述放置槽的内部设有两个定位柱，所述放置槽的左侧内壁、右侧内壁分别开设有活动孔，所述分配孔的左侧内壁、右侧内壁分别开设有定位槽，两个所述定位柱分别贯穿左侧活动孔、右侧活动孔，并分别延伸至两个定位槽内。在本技术中，通过定位柱、放置槽、活动孔、定位槽便于工作人员对导流块进行拆卸，利于工作人员对分配孔、导流块上的污染物进行清理。

技术研发人员：苏竑森,管士亚
受保护的技术使用者：嘉芯闳扬半导体设备科技（浙江）有限公司
技术研发日：20230807
技术公布日：2024/2/8