一种晶圆处理设备的制作方法

本技术属于晶圆加工，尤其涉及一种晶圆处理设备。

背景技术：

1、晶圆生产过程中需要对其表面进行处理，如清洗、电镀或者蚀刻。常用的一种表面清洗方法是将晶圆固定于清洗槽内，清洗液喷向晶圆。清洗液的喷洒装置不断运动以全面清洗晶圆。电镀或者蚀刻也是同样方法。这种装置虽然能够对晶圆表面进行一定的处理，但晶圆无法旋转，无法保证表面均匀处理。这种表面装置很难实现水平清洗、电镀或蚀刻，即晶圆水平地设置在清洗液、电镀液或蚀刻液上方，清洗液、电镀液或蚀刻液自下而上流动至与晶圆接触以清洗晶圆表面。

2、例如申请号为202122874340.5的中国专利，本实用新型公开了一种晶圆表面处理设备，包括加工箱，所述加工箱内腔固定安装有收集箱，所述加工箱两侧固定安装有夹持机构，所述收集箱上端固定安装有水箱，所述水箱下端设有出水管，所述出水管另一端连接有喷头，所述加工箱上端固定安装有烘干风机，所述烘干风机一端固定连接有排气管，所述排气管另一端固定连接有排气嘴；所述夹持机构包括有安装板，所述安装板一侧固定安装有伺服电缸，所述伺服电缸输出端固定连接有连接板，所述连接板另一侧固定安装有伺服电机，所述伺服电机输出端通过联轴器连接有连接杆，所述连接杆另一端固定连接有夹具，本实用新型具有烘干效果，且在加工时可将晶圆变换角度进行清理。

3、然而现有技术存在一些问题：晶圆加工过程中，需要将水箱内部的水导出对晶圆进行清洗，但是清洗的过程中，水分与电气设备接触，导致短路，从而需要工作人员进行维修，费时费力，因此我们提出一种晶圆处理设备。

技术实现思路

1、针对上述技术存在的问题，本实用新型提供了一种晶圆处理设备，本实用新型通过设置的第一防护板与第二防护板，对电机和电动伸缩杆进行保护，避免在对晶圆清洗的过程中水分飘落至电机和电动伸缩杆外表面，从而有效避免造成短路的问题，解决了晶圆加工过程中，需要将水箱内部的水导出对晶圆进行清洗，但是清洗的过程中，水分与电气设备接触，导致短路，从而需要工作人员进行维修，费时费力的问题。

2、本实用新型是这样实现的，一种晶圆处理设备，包括箱体，所述箱体前侧外壁连接有箱门和控制器，所述箱体左右两侧设有通风网板，所述箱体内部连接有导水箱，所述导水箱上端对称连接有横截面呈凹字形布置的第一防护板和第二防护板，所述第一防护板与第二防护板内部分别连接有电机和电动伸缩杆，所述电机与电动伸缩杆相对应的一端均连接有输出端，所述输出端分别贯穿第一防护板和第二防护板，所述输出端贯穿第一防护板或第二防护板的一端均连接有夹持座，所述箱体上端连接有储水箱、烘干风机和加热箱，所述储水箱下端连接有出水管，所述出水管延伸至箱体内部，所述烘干风机外壁连接有导风管，所述导风管延伸至箱体内部，所述加热箱外壁连接有导热管，所述导热管与导风管连通。

3、作为本实用新型优选的，所述导水箱上端连接有滤网。

4、作为本实用新型优选的，所述导水箱左侧连接有排水管，所述排水管贯穿箱体内部延伸至外部。

5、作为本实用新型优选的，所述输出端之间相对应的一端面均设有定位孔。

6、作为本实用新型优选的，所述输出端内壁设有圆形槽，所述圆形槽与定位孔连通，且所述圆形槽的直径大于定位孔的直径。

7、作为本实用新型优选的，所述夹持座直径相反的一端面均连接有与定位孔连接的螺纹轴。

8、作为本实用新型优选的，所述螺纹轴外壁连接有多个伸缩机构，所述伸缩机构包括设置在螺纹轴外壁的台阶孔，所述台阶孔内部连接有伸缩块，所述伸缩块位于台阶孔内部的一端连接有伸缩弹簧，所述伸缩块伸入至台阶孔的一端延伸至圆形槽内部。

9、作为本实用新型优选的，所述夹持座上端的内侧外壁一体成型有内翻，所述夹持座与内翻横截面呈l形布置，所述内翻下端面设有调节槽，所述调节槽内壁连接有固定轴，所述固定轴外壁套设有滑套，所述滑套的外壁连接有第一弹簧，所述第一弹簧另一端与调节槽内壁连接，所述第一弹簧套设在固定轴外壁。

10、作为本实用新型优选的，所述滑套延伸至调节槽外部的一端连接有夹持块，所述夹持块靠近夹持座的一端面连接有多个第二弹簧，所述第二弹簧另一端与夹持座外壁连接。

11、与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

12、1、本实用新型通过设置的第一防护板与第二防护板，对电机和电动伸缩杆进行保护，避免在对晶圆清洗的过程中水分飘落至电机和电动伸缩杆外表面，从而有效避免造成短路的问题；

13、2、本实用新型通过设置的滤网，在对晶圆清洗的过程中，便于过滤残渣，方便后续清理，且利用设置的排水管，便于将导水箱内部的水排出，配合烘干风机与加热箱，便于对箱体内部进行快速烘干；

14、3、本实用新型通过螺纹轴与定位孔连接，便于夹持座与输出端固定连接，且通过伸缩块伸入至圆形槽内部，提高连接的稳固性，从而便于夹持座拆卸安装，方便进行更换维护，或者清理；

15、4、本实用新型通过晶圆伸入至夹持块内部，夹持块受力的影响下带动滑套在固定轴上移动，对第一弹簧收缩，同时带动第二弹簧收缩，配合电动伸缩杆输出，便于对晶圆进行夹持固定，同时便于根据晶圆的大小进行夹持，且利用电机运作，便于带动夹持座转动，从而带动夹持的晶圆转动，便于清理晶圆外表面。

技术特征：

1.一种晶圆处理设备，包括箱体(1)，其特征在于：所述箱体(1)前侧外壁连接有箱门(11)和控制器(12)，所述箱体(1)左右两侧设有通风网板(13)，所述箱体(1)内部连接有导水箱(2)，所述导水箱(2)上端对称连接有横截面呈凹字形布置的第一防护板(23)和第二防护板(24)，所述第一防护板(23)与第二防护板(24)内部分别连接有电机(4)和电动伸缩杆(3)，所述电机(4)与电动伸缩杆(3)相对应的一端均连接有输出端(32)，所述输出端(32)分别贯穿第一防护板(23)和第二防护板(24)，所述输出端(32)贯穿第一防护板(23)或第二防护板(24)的一端均连接有夹持座(31)，所述箱体(1)上端连接有储水箱(14)、烘干风机(15)和加热箱(16)，所述储水箱(14)下端连接有出水管(141)，所述出水管(141)延伸至箱体(1)内部，所述烘干风机(15)外壁连接有导风管(151)，所述导风管(151)延伸至箱体(1)内部，所述加热箱(16)外壁连接有导热管(161)，所述导热管(161)与导风管(151)连通。

2.如权利要求1所述的一种晶圆处理设备，其特征在于：所述导水箱(2)上端连接有滤网(22)。

3.如权利要求2所述的一种晶圆处理设备，其特征在于：所述导水箱(2)左侧连接有排水管(21)，所述排水管(21)贯穿箱体(1)内部延伸至外部。

4.如权利要求1所述的一种晶圆处理设备，其特征在于：所述输出端(32)之间相对应的一端面均设有定位孔(321)。

5.如权利要求4所述的一种晶圆处理设备，其特征在于：所述输出端(32)内壁设有圆形槽(322)，所述圆形槽(322)与定位孔(321)连通，且所述圆形槽(322)的直径大于定位孔(321)的直径。

6.如权利要求1所述的一种晶圆处理设备，其特征在于：所述夹持座(31)直径相反的一端面均连接有与定位孔(321)连接的螺纹轴(311)。

7.如权利要求6所述的一种晶圆处理设备，其特征在于：所述螺纹轴(311)外壁连接有多个伸缩机构(5)，所述伸缩机构(5)包括设置在螺纹轴(311)外壁的台阶孔(51)，所述台阶孔(51)内部连接有伸缩块(53)，所述伸缩块(53)位于台阶孔(51)内部的一端连接有伸缩弹簧(52)，所述伸缩块(53)伸入至台阶孔(51)的一端延伸至圆形槽(322)内部。

8.如权利要求6所述的一种晶圆处理设备，其特征在于：所述夹持座(31)上端的内侧外壁一体成型有内翻(318)，所述夹持座(31)与内翻(318)横截面呈l形布置，所述内翻(318)下端面设有调节槽(312)，所述调节槽(312)内壁连接有固定轴(313)，所述固定轴(313)外壁套设有滑套(315)，所述滑套(315)的外壁连接有第一弹簧(314)，所述第一弹簧(314)另一端与调节槽(312)内壁连接，所述第一弹簧(314)套设在固定轴(313)外壁。

9.如权利要求8所述的一种晶圆处理设备，其特征在于：所述滑套(315)延伸至调节槽(312)外部的一端连接有夹持块(316)，所述夹持块(316)靠近夹持座(31)的一端面连接有多个第二弹簧(317)，所述第二弹簧(317)另一端与夹持座(31)外壁连接。

技术总结
本技术公开了一种晶圆处理设备，包括箱体，所述箱体前侧外壁连接有箱门和控制器，所述箱体内部连接有导水箱，所述导水箱上端对称连接有横截面呈凹字形布置的第一防护板和第二防护板，所述第一防护板与第二防护板内部分别连接有电机和电动伸缩杆，所述电机与电动伸缩杆相对应的一端均连接有输出端，所述输出端分别贯穿第一防护板和第二防护板，所述输出端贯穿第一防护板或第二防护板的一端均连接有夹持座，所述箱体上端连接有储水箱、烘干风机和加热箱。本技术通过设置的第一防护板与第二防护板，对电机和电动伸缩杆进行保护，避免在对晶圆清洗的过程中水分飘落至电机和电动伸缩杆外表面，从而有效避免造成短路的问题。

技术研发人员：胡建军
受保护的技术使用者：苏州英尔捷半导体有限公司
技术研发日：20230818
技术公布日：2024/3/27