本技术涉及半导体设备,具体为一种硅片的冷却输送装置。
背景技术:
1、在半导体行业中,光刻和显影是两个重要的步骤,显影过程在显影机上完成,显影过程就是将曝光后的光刻胶中与紫外光发生化学反应的部分取出或保留下来的过程,显影的基本过程是:对准曝光→曝光后烘→显影→坚膜→显影检测。
2、而匀胶显影机需要对曝光后烘干的硅片进行降温冷却,而目前对曝光后烘干的硅片放置在冷却平台上进行冷却,在这个平台上有个支撑硅片的装置,由三根顶针构成一个承载装置,其中承载装置用于把硅片顶起来脱离冷却平台,或者下降顶针,使得硅片靠近平稳的放置在冷却平台上,这个装置有一个顶针固定平台,下端通过可调节高度的底板与气缸安装在一起,三个陶瓷顶针分别竖立同向安装在顶针固定平台的三个位置上,当需要托举硅片时,通过气缸驱动顶针固定平台升降带动顶针升降,如果顶针上有硅片,就会把硅片放在冷却平台上,进行冷却,或者将硅片移开冷却平台;而将硅片放置于顶针上需要相应的机械手进行夹持控制,待冷却的硅片放置于指定位置,再由机械手将指定位置上的硅片夹持到顶针上,待加工完成后再由机械手夹持至下一工序;因此有效减少多套装置进行配合工作,步骤较多,造成工序繁琐,且通过机械手的夹持和顶针的升降也会造成工作时间长,导致加工效率变低。
技术实现思路
1、本实用新型所要解决的技术问题是:一种硅片的冷却输送装置,该装置能通过气流直接带动硅片进行输送,减少了动力装置的使用,降低成本,同时减少了硅片与冷却板之间的摩擦,提高冷却输送效率。
2、为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案是:一种硅片的冷却输送装置,包括支撑组件,所述支撑组件上设有冷却板,所述冷却板上设有对硅片进行冷却的冷却区域,所述冷却板上纵向开设有若干个倾斜吹气的吹气导向孔,所述冷却板上还设有对硅片进行抽气定位的定位孔,所述冷却板下方分别设有接通吹气导向孔和定位孔的导向通气管和定位通气管,所述冷却板内设有冷却循环水路,所述冷却板上设有与冷却循环水路连接的进水管和出水管,所述冷却板上设有与吹气导向孔配合纵向移动硅片的导向限位结构。
3、作为一种优选的方案,所述冷却板包括下板和承载板,所述下板和承载板密封固定,所述下板安装在支撑组件上,所述吹气导向孔和定位孔开设在承载板上,所述下板上开设有与吹气导向孔和定位孔连通的气路,所述吹气导向孔的气路与导向通气管连通,所述定位孔的气路与定位通气管连通。
4、作为一种优选的方案,所述承载板两端分别为硅片入口和硅片出口,所述硅片入口和硅片出口处均设有同朝向的吹气导向孔,所述下板上设有与硅片入口和硅片出口的吹气导向孔对应连通的气路,所述下板下方设有处于硅片入口和硅片出口处气路连通的入口通气管和出口通气管。
5、作为一种优选的方案,所述冷却循环水路包括开设有在下板上的水槽,所述承载板上开设有若干个导流板,所述进水管和出水管与下板连通。
6、作为一种优选的方案,所述水槽和气路之间设有阻挡板,所述承载板上设有与阻挡板密封配合的密封凸起。
7、作为一种优选的方案,所述导向限位结构包括固定安装在承载板横向两端的导向限位板,所述导向限位板之间的距离与硅片直径相同。
8、作为一种优选的方案,所述支撑组件上设有延时开关,所述延时开关延时控制导向通气管的开闭。
9、采用了上述技术方案后,本实用新型的效果是:由于硅片的冷却输送装置,包括支撑组件,所述支撑组件上设有冷却板,所述冷却板上设有对硅片进行冷却的冷却区域,所述冷却板上纵向开设有若干个倾斜吹气的吹气导向孔,所述冷却板上还设有对硅片进行抽气定位的定位孔,所述冷却板下方分别设有接通吹气导向孔和定位孔的导向通气管和定位通气管,所述冷却板内设有冷却循环水路,所述冷却板上设有与冷却循环水路连接的进水管和出水管,所述冷却板上设有与吹气导向孔配合纵向移动硅片的导向限位结构;首先硅片被输送至冷却板上,接着冷却板上的吹气导向孔进行吹气,硅片进行纵向移动,同时导向限位结构在硅片移动时进行限位,定位孔进行抽气,当硅片经过定位孔,定位孔被堵住,抽气阻力增大,从而可以判断硅片是否移动到位,到位后吹气导向孔就停止吹气,此时吹气导向孔通过导向通气管抽气对硅片进行吸附,使其有效处于冷却板上,接着进水管进水,通过冷却循环水路对冷却板进行冷却,再从出水管出水,使硅片进行有效冷却,待冷却完成后,导向通气管控制吹气导向孔吹气,使硅片继续移动至下一工序上;该装置能通过气流直接带动硅片进行输送,减少了动力装置的使用,降低成本,同时减少了硅片与冷却板之间的摩擦,提高冷却输送效率。
10、又由于所述冷却板包括下板和承载板,所述下板和承载板密封固定,所述下板安装在支撑组件上,所述吹气导向孔和定位孔开设在承载板上,所述下板上开设有与吹气导向孔和定位孔连通的气路,所述吹气导向孔的气路与导向通气管连通,所述定位孔的气路与定位通气管连通;这样通过下板和承载板方便内部气路等结构的加工,也能使定位孔和吹气导向孔各自控制,方便使用。
11、又由于所述承载板两端分别为硅片入口和硅片出口,所述硅片入口和硅片出口处均设有同朝向的吹气导向孔,所述下板上设有与硅片入口和硅片出口的吹气导向孔对应连通的气路,所述下板下方设有处于硅片入口和硅片出口处气路连通的入口通气管和出口通气管;这样保证硅片能在整个承载板上均能被吹气进行移动,保证硅片的运输稳定。
12、又由于所述冷却循环水路包括开设有在下板上的水槽,所述承载板上开设有若干个导流板,所述进水管和出水管与下板连通;这样当循环水进入冷却循环水路内,通过导流板能使循环水依次经过承载板的内部,且能有效减少循环水的冲击,使循环水流动稳定,能均匀带走承载板上的热量。
13、又由于所述水槽和气路之间设有阻挡板,所述承载板上设有与阻挡板密封配合的密封凸起;这样循环水和气流之间不会相互影响,工作准确。
14、又由于所述导向限位结构包括固定安装在承载板横向两端的导向限位板,所述导向限位板之间的距离与硅片直径相同;在硅片移动时限制硅片的位置,防止硅片发生偏移而冷却输送不准确。
15、又由于所述支撑组件上设有延时开关,所述延时开关延时控制导向通气管的开闭;由于硅片接触定位孔后还未处于准确冷却位置,需要吹气导向孔再进行一定时间的吹气,通过延时开关使导向通气管路暂缓停止时间,即能完成硅片的准确移动。
1.一种硅片的冷却输送装置,包括支撑组件,所述支撑组件上设有冷却板,其特征在于:所述冷却板上设有对硅片进行冷却的冷却区域,所述冷却板上纵向开设有若干个倾斜吹气的吹气导向孔,所述冷却板上还设有对硅片进行抽气定位的定位孔,所述冷却板下方分别设有接通吹气导向孔和定位孔的导向通气管和定位通气管,所述冷却板内设有冷却循环水路,所述冷却板上设有与冷却循环水路连接的进水管和出水管,所述冷却板上设有与吹气导向孔配合纵向移动硅片的导向限位结构。
2.如权利要求1中所述的一种硅片的冷却输送装置,其特征在于:所述冷却板包括下板和承载板,所述下板和承载板密封固定,所述下板安装在支撑组件上,所述吹气导向孔和定位孔开设在承载板上,所述下板上开设有与吹气导向孔和定位孔连通的气路,所述吹气导向孔的气路与导向通气管连通,所述定位孔的气路与定位通气管连通。
3.如权利要求2中所述的一种硅片的冷却输送装置,其特征在于:所述承载板两端分别为硅片入口和硅片出口,所述硅片入口和硅片出口处均设有同朝向的吹气导向孔,所述下板上设有与硅片入口和硅片出口的吹气导向孔对应连通的气路,所述下板下方设有处于硅片入口和硅片出口处气路连通的入口通气管和出口通气管。
4.如权利要求3中所述的一种硅片的冷却输送装置,其特征在于:所述冷却循环水路包括开设有在下板上的水槽,所述承载板上开设有若干个导流板,所述进水管和出水管与下板连通。
5.如权利要求4中所述的一种硅片的冷却输送装置,其特征在于:所述水槽和气路之间设有阻挡板,所述承载板上设有与阻挡板密封配合的密封凸起。
6.如权利要求5中所述的一种硅片的冷却输送装置,其特征在于:所述导向限位结构包括固定安装在承载板横向两端的导向限位板,所述导向限位板之间的距离与硅片直径相同。
7.如权利要求1中所述的一种硅片的冷却输送装置,其特征在于:所述支撑组件上设有延时开关,所述延时开关延时控制导向通气管的开闭。