背景技术:
技术实现思路
1、系统和方法被描述,用于控制在样本之间引入到剥蚀单元的吹扫气体流来利用具有两个输出部的混合单元去除大气气体,所述两个输出部中的一个随时间推移维持一致的内直径,并且所述两个输出部中的第二者利用阀控制输出流而不使由用于测量样本中的分析物的电感耦合等离子体分析系统使用的等离子体熄灭。系统实施例包括但不限于:喷雾室,所述喷雾室包括喷雾室本体、联接到喷雾室本体并配置为接收来自激光剥蚀样本单元的气体的转移气体入口、联接到喷雾室本体并配置为将气体从喷雾室转移到电感耦合等离子体炬的第一出口管线、以及联接到喷雾室本体的第二出口管线,第二气体出口具有比第一出口管线的内部横截面积更大的内部横截面积;以及与第二出口管线流体联接的阀,所述阀配置为至少在配置为允许转移气体通过第二出口管线的打开配置构造与配置为防止气体通过第二出口管线转移的关闭配置构造之间转换。
2、系统实施例包括但不限于:电感耦合等离子体炬,所述电感耦合等离子体炬配置为使来自激光剥蚀样本单元的气体的至少一部分离子化;与电感耦合等离子体炬流体联接的喷雾室,所述喷雾室包括喷雾室本体、联接到喷雾室本体并配置为接收来自激光剥蚀样本单元的气体的转移气体入口、联接到喷雾室本体并配置为将气体从喷雾室转移到电感耦合等离子体炬的第一出口管线、以及联接到喷雾室本体的第二出口管线,第二气体出口具有比第一出口管线的内部横截面积更大的内部横截面积;以及与第二出口管线流体联接的阀,所述阀配置为至少在配置为允许转移气体通过第二出口管线的打开配置构造与配置为防止气体通过第二出口管线转移的关闭配置构造之间转换,其中,第一出口管线和第二出口管线的相应的内部横截面积的差被配置为允许转移气体中的大部分在阀处于打开配置构造时通过第二出口管线转移而防止电感耦合等离子体炬处的等离子体熄灭。
3、方法实施例包括但不限于:经由转移管线将气体从激光剥蚀样本单元转移到电感耦合等离子体炬,在由激光剥蚀样本单元移取的各单独的样本之间所述转移管线具有未受妨碍的内直径;以及通过流体联接在激光剥蚀样本单元与电感耦合等离子体炬之间的阀的操作,防止气体从激光剥蚀样本单元转移到电感耦合等离子体炬。
4、本概述被提供,以便以简化的形式介绍以下在具体实施方式章节中进一步描述的构思选集。本概述不旨在标识所要求保护的主题的关键特征或基本特征,也不旨在用作确定所要求保护的主题的范围的辅助。
1.一种用于控制来自激光剥蚀单元的气体流的系统,包括:
2.根据权利要求1所述的系统,其中,所述第一出口管线提供用于所述转移气体从喷雾室传送到电感耦合等离子体炬的未受妨碍的内部流路。
3.根据权利要求1所述的系统,其中,所述阀限定内部流路,所述内部流路具有内直径,所述内直径与混合室的第二输出管线的内直径匹配,以防止当阀处于打开配置构造时材料在阀内积聚。
4.根据权利要求1所述的系统,其中,所述喷雾室还包括与所述室本体流体联接的混合端口,所述混合端口配置为接收用于在所述室本体内引入到所述转移气体的雾化器气体。
5.根据权利要求1所述的系统,其中,所述喷雾室还包括与第一出口管线流体联接的气体添加端口,所述气体添加端口配置为接收被配置来在第一出口管线中与转移气体中存在的基质颗粒的至少一部分撞击的气体。
6.根据权利要求5所述的系统,其中,所述气体添加端口相对于第一出口管线成横流取向设置。
7.根据权利要求1所述的系统,还包括在第一出口管线下游与第一出口管线联接的缩减器管线,其中,所述缩减器管线限定在从第一出口管线到电感耦合等离子体炬的向下游的方向上减小的内部横截面积。
8.根据权利要求7所述的系统,其中,在所述缩减器管线下游的流路包括扩大至比缩减器管线的内部横截面积的最小尺寸更大的尺寸的内部横截面积。
9.根据权利要求7所述的系统,其中,所述电感耦合等离子体炬与缩减器管线流体联接,并且其中,通过电感耦合等离子体炬的流路包括比缩减器管线的内部横截面积的最小尺寸更大的内部横截面积。
10.根据权利要求1所述的系统,其中,所述喷雾室、第一出口管线和电感耦合等离子体炬成竖向配置构造布置。
11.一种用于控制来自激光剥蚀单元的气体流的系统,包括:
12.根据权利要求11所述的系统,其中,第一出口管线提供用于所述转移气体从喷雾室传送到电感耦合等离子体炬的未受妨碍的内部流路。
13.根据权利要求11所述的系统,其中,所述阀限定内部流路,所述内部流路具有内直径,所述内直径与混合室的第二输出管线的内直径匹配,以防止当阀处于打开配置构造时材料在阀内积聚。
14.根据权利要求11所述的系统,其中,所述喷雾室还包括与所述室本体流体联接的混合端口,所述混合端口配置为接收用于在所述室本体内引入到所述转移气体的雾化器气体。
15.根据权利要求11所述的系统,其中,所述喷雾室还包括与第一出口管线流体联接的气体添加端口,所述气体添加端口配置为接收被配置来在第一出口管线中与转移气体中存在的基质颗粒的至少一部分撞击的气体。
16.根据权利要求15所述的系统,其中,所述气体添加端口相对于第一出口管线成横流取向设置。
17.根据权利要求11所述的系统,还包括在第一出口管线下游与第一出口管线联接的缩减器管线,其中,所述缩减器管线限定在从第一出口管线到电感耦合等离子体炬的向下游的方向上减小的内部横截面积。
18.根据权利要求17所述的系统,其中,所述缩减器管线下游的流路包括扩大至比缩减器管线的内部横截面积的最小尺寸更大的尺寸的内部横截面积。
19.一种用于控制来自激光剥蚀单元的气体流的方法,包括:
20.根据权利要求19所述的方法,其中,经由在由激光剥蚀样本单元移取的各单独的样本之间随时间推移具有未受妨碍的内直径的转移管线将气体从激光剥蚀样本单元转移到电感耦合等离子体炬包括,将所述气体转移到与阀和电感耦合等离子体炬中的每者流体联接的喷雾室,所述喷雾室包括