改善光晕现象的结构及其制备方法与流程

本申请涉及电学领域，特别是涉及改善光晕现象的结构及改善光晕现象的结构的制备方法。

背景技术：

1、次毫米发光二极管(mini led)显示器及微发光二极管(micro led)显示器相较于有机发光二极管(organic light emitting diode,缩写为oled)显示器或需要背光模块的液晶显示器(liquid crystal display,缩写为lcd)，虽然次毫米发光二极管显示器及微发光二极管显示器的生产成本相对较高，但是在发光效率或亮度等方面都有更佳的表现，并且还具有低功耗及产品寿命较长等多项优点，因此目前次毫米发光二极管显示器及微发光二极管显示器均已应用在许多显示器产品中，例如穿戴式显示器、头戴式显示器、车用显示器、智能型手机或平板计算机等，涉及民众生活的方方面面，而未来若能克服部分工艺技术瓶颈，例如巨量转移及巨量修补等导致成本难以降低的问题，则有望发展出更庞大的市场。

2、不过当前在次毫米发光二极管显示器及微发光二极管显示器的生产上还有面临其他问题，以下以当前在次毫米发光二极管显示器及微发光二极管显示器的制备流程举例说明，并且为了简单叙述，本段中将毫米发光二极管及微发光二极管简称为发光二极管。在制备流程中首先会利用巨量转移工艺将发光二极管转移至印刷电路板上，接着再铺设荧光粉层，荧光粉层会覆盖各个发光二极管，并充填在各个发光二极管之间，最后再在荧光粉层上铺设黑色矩阵，但是由于前述的制备流程中各个发光二极管之间存在荧光粉，因此当发光二极管发射光线时，光线便会激发周围的荧光粉，而被激发的荧光粉也包括相邻的发光二极管之间的荧光粉，因此相邻的发光二极管之间的荧光粉会同时被多个发光二极管所激发，导致最后形成的光线彼此相互干扰，从而导致光晕现象，影响显示器的显示效果。

技术实现思路

1、本申请的目的在于解决相关技术所述的问题，因此本申请的目的旨在改善当前在次毫米发光二极管显示器及微发光二极管显示器的产品中会因为荧光粉被多个方向上次毫米发光二极管或微发光二极管的光线激发，而导致出现光晕现象并影响显示效果的问题。

2、基于本申请的一目的，本申请提供一种改善光晕现象的结构，包括电路基板，电路基板上设置多个发光单元，各个发光单元之间充填有遮光单元，而各个发光单元的上表面分别设置荧光单元。

3、在本申请的一实施例中，遮光单元的上表面高于发光单元的上表面。

4、在本申请的一实施例中，荧光单元的上表面与遮光单元的上表面齐平。

5、基于本申请的目的，本申请还提供一种改善光晕现象的结构的制备方法。一种改善光晕现象的结构的制备方法，步骤如下所述，首先将多个发光单元设置在电路基板上，再来铺设遮光层，使遮光层覆盖各个发光单元及各个发光单元之间的间隙，接着在遮光层上开孔，以暴露各个发光单元的上表面，残余的遮光层则作为遮光单元，遮光单元围绕各个发光单元，并且遮光单元也充填在各个发光单元之间，再来铺设荧光粉层，使荧光粉层覆盖各个发光单元的上表面，最后削平荧光粉层，使各个发光单元的上表面上分别形成荧光单元。

6、在本申请的一实施例中，在遮光层上开孔的方法为镭射钻孔法、机械钻孔法或蚀刻法。

7、在本申请的一实施例中，电路基板为印刷电路板或柔性电路板。

8、在本申请的一实施例中，发光单元为次毫米发光二极管或微发光二极管。

9、在本申请的一实施例中，发光单元为蓝光发光二极管、紫光发光二极管或紫外光发光二极管。

10、在本申请的一实施例中，遮光单元为黑色矩阵。

11、在本申请的一实施例中，荧光单元为由荧光粉所组成。

12、在本申请的一实施例中，荧光单元为由黄色荧光粉、红色荧光粉、绿色荧光粉或蓝色荧光粉中的任一者所组成。

13、在本申请的一实施例中，荧光单元为由红色荧光粉及绿色荧光粉所组成。

14、在本申请的一实施例中，荧光单元为由红色荧光粉、绿色荧光粉及蓝色荧光粉所组成。

15、综上所述，本申请所提供的改善光晕现象的结构及其制备方法可以避免相关技术容易导致光晕现象产生的问题。

技术特征：

1.一种改善光晕现象的结构，其特征在于，包括电路基板，所述电路基板上设置多个发光单元，各所述发光单元之间充填有遮光单元，而各所述发光单元的上表面分别设置荧光单元。

2.如权利要求1所述的改善光晕现象的结构，其特征在于，所述遮光单元的上表面高于所述发光单元的所述上表面。

3.如权利要求1所述的改善光晕现象的结构，其特征在于，所述荧光单元的上表面与所述遮光单元的上表面齐平。

4.如权利要求1所述的改善光晕现象的结构，其特征在于，所述遮光单元为黑色矩阵。

5.如权利要求1所述的改善光晕现象的结构，其特征在于，所述荧光单元由荧光粉所组成。

6.如权利要求1所述的改善光晕现象的结构，其特征在于，所述发光单元为次毫米发光二极管或微发光二极管。

7.一种改善光晕现象的结构的制备方法，其特征在于，包括：

8.如权利要求7所述的改善光晕现象的结构的制备方法，其特征在于，所述荧光单元的上表面与所述遮光单元的上表面齐平。

9.如权利要求7所述的改善光晕现象的结构的制备方法，其特征在于，在所述遮光层上开孔的方法为镭射钻孔法、机械钻孔法或蚀刻法。

10.如权利要求7所述的改善光晕现象的结构的制备方法，其特征在于，所述发光单元为次毫米发光二极管或微发光二极管。

技术总结
本申请涉及电学领域，提供一种改善光晕现象的结构及其制备方法。改善光晕现象的结构的制备方法，步骤如下所述，首先将多个发光单元设置在电路基板上，再来铺设遮光层，使遮光层覆盖各个发光单元及各个发光单元之间的间隙，接着在遮光层上开孔，以暴露各个发光单元的上表面，并在各个发光单元周边形成遮光单元，再来铺设荧光粉层，使荧光粉层覆盖各个发光单元的上表面，最后削平荧光粉层，使各个发光单元的上表面上分别形成荧光单元，以获得改善光晕现象的结构。本申请可以避免相关技术容易导致光晕现象产生的问题。

技术研发人员：李炫运
受保护的技术使用者：业成光电（深圳）有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/4/29