本申请涉及电子元器件,更具体地,涉及一种倒装led芯片结构以及一种倒装led芯片结构的制备方法。
背景技术:
1、芯片倒装焊接是把面朝下的硅芯片用焊料与基板互连在一起,形成稳定可靠的机械连接与电气连接。由于芯片倒装焊接的焊盘在基板上阵列排布,因此芯片的安装密度高;另外倒转led芯片结构具有更优越的高频、低延迟、低串扰的电路特性,能够适用于高频高速的电子产品中。
2、对于倒装led芯片结构,影响led芯片与基板之间的电性连接稳定通过与焊料的涂覆有关,焊料层涂覆过薄或涂覆不良会容易导致电性连接不稳定,焊料层涂覆过后则会导致器件整体体积较大,且导致器件性能差,能耗高。
技术实现思路
1、本申请实施例所要解决的技术问题是现有的倒装led芯片结构存在焊料层涂覆不良导致的器件性能差、能耗高且器件体积较大。
2、为了解决上述技术问题,本申请实施例提供一种倒装led芯片结构,采用了如下所述的技术方案:
3、一种倒装led芯片结构,包括基板、焊盘、焊料层以及led芯片;
4、所述基板上设有至少一个焊接槽;
5、所述焊盘装设于所述焊接槽内,所述焊盘的形状与所述焊接槽的形状匹配,且所述焊盘的顶面开口与所述基板的表面平齐;
6、所述焊料层填充于所述焊盘内;
7、所述led芯片通过所述焊料层倒装焊接于所述基板上,其中,所述led芯片位于所述焊接槽,且至少部分包裹于所述焊料层内。
8、进一步的,所述焊料层的顶面高于所述基板的表面,所述焊料层的顶面与所述基板的表面的距离为5μm~20μm。
9、进一步的,所述倒装led芯片结构还包括固化层,所述固化层覆盖于所述基板与所述焊料层上;
10、其中,所述固化层的厚度为8μm~10μm。
11、进一步的,所述倒装led芯片结构还包括散热层,所述散热层至少部分覆盖于所述固化层上;
12、其中,所述散热层的厚度为8μm~10μm,所述固化层的边缘与所述散热层的边缘呈阶梯状设置。
13、进一步的,所述倒装led芯片结构还包括反射层,所述反射层覆盖于所述固化层、所述散热层以及led芯片上;
14、其中,所述反射层的厚度为8μm~10μm。
15、进一步的,所述倒装led芯片结构还包括封装层,所述封装层覆盖于所述基板与所述反射层上;
16、其中,所述封装层的厚度为300μm~320μm。
17、为了解决上述技术问题,本申请实施例还提供一种倒装led芯片结构的制备方法,采用了如下所述的技术方案:
18、一种倒装led芯片结构的制备方法,用于制备如上所述的倒装led芯片结构,包括以下步骤:
19、提供基板,其中,所述基板上具有至少一个焊接槽;
20、将焊盘设置在所述焊接槽内;
21、向所述焊盘内填充焊料,并进行第一过炉处理,形成焊料层,其中,所述焊料层的顶面高度高于所述基板的表面;
22、将led芯片倒装固晶于所述焊料层上,并进行第二过炉处理,硬化后得到所述倒装led芯片结构,其中,所述led芯片至少部分包裹于所述焊料层内。
23、进一步的,所述向所述焊盘内填充焊料,并进行第一过炉处理,形成焊料层的步骤,具体包括以下步骤:
24、向所述焊盘内填充焊料,进行第一过炉处理,硬化后,形成第一焊料层,其中,所述第一焊料层的厚度小于所述焊盘的深度;
25、在所述第一焊料层再次填充焊料,形成第二焊料层,得到所述焊料层。
26、进一步的,所述将led芯片倒装固晶于所述焊料层上,并进行第二过炉处理,硬化后得到所述倒装led芯片结构的步骤,具体包括以下步骤:
27、将led芯片倒装固晶于所述第二焊料层上;
28、对所述第二焊料层进行第二过炉处理,使所述第一焊料层与所述第二焊料层熔合,硬化后,得到所述倒装led芯片结构。
29、进一步的,所述将led芯片倒装固晶于所述焊料层上,经过第二过炉处理的步骤之后,还包括以下步骤:
30、在所述基板上形成固化层;
31、在所述固化层上形成散热层;
32、对所述固化层与所述散热层进行刻蚀处理,其中,所述固化层的边缘与所述散热层的边缘呈阶梯状设置;
33、在所述基板上形成反射层,其中,所述反射层覆盖于所述固化层、所述散热层以及所述led芯片上;
34、在所述基板上形成封装层,得到所述倒装led芯片结构,其中,所述封装层覆盖于所述基板与所述反射层上。
35、与现有技术相比,本申请实施例主要有以下有益效果:
36、本申请实施例的焊盘的形状与焊接槽的形状匹配,以提高焊盘与基板之间的安装适配性,以确保焊盘与基板之间的电性连接的稳定;同时,焊料层填充于呈凹槽状的焊盘内,且led芯片位于所述焊接槽,并至少包裹于所述焊料层内的设置,提高led芯片与焊料层之间的接触面积,大大降低了led芯片与焊料层之间的内部空洞占比,以确保led芯片与焊料层之间的电性连接稳定,从而实现确保led芯片与基板之间的电性稳定;此外,由于焊料层填充于呈凹槽状的焊盘内,因此基板表面无需涂覆焊料层,能够起到降低倒装led芯片结构的厚度的作用,从而起到降低倒装led芯片结构的整体体积的作用。
1.一种倒装led芯片结构,其特征在于,包括基板、焊盘、焊料层以及led芯片;
2.根据权利要求1所述的倒装led芯片结构,其特征在于,所述焊料层的顶面高于所述基板的表面,所述焊料层的顶面与所述基板的表面的距离为5μm~20μm。
3.根据权利要求1所述的倒装led芯片结构,其特征在于,所述倒装led芯片结构还包括固化层,所述固化层覆盖于所述基板与所述焊料层上;
4.根据权利要求3所述的倒装led芯片结构,其特征在于,所述倒装led芯片结构还包括散热层,所述散热层至少部分覆盖于所述固化层上;
5.根据权利要求4所述的倒装led芯片结构,其特征在于,所述倒装led芯片结构还包括反射层,所述反射层覆盖于所述固化层、所述散热层以及led芯片上;
6.根据权利要求5所述的倒装led芯片结构,其特征在于,所述倒装led芯片结构还包括封装层,所述封装层覆盖于所述基板与所述反射层上;
7.一种倒装led芯片结构的制备方法,用于制备如权利要求1~6任一项所述的倒装led芯片结构,其特征在于,包括以下步骤:
8.根据权利要求7所述的倒装led芯片结构的制备方法,其特征在于,所述向所述焊盘内填充焊料,并进行第一过炉处理,形成焊料层的步骤,具体包括以下步骤:
9.根据权利要求8所述的倒装led芯片结构的制备方法,其特征在于,所述将led芯片倒装固晶于所述焊料层上,并进行第二过炉处理,硬化后得到所述倒装led芯片结构的步骤,具体包括以下步骤:
10.根据权利要求7~9任一项所述的倒装led芯片结构的制备方法,其特征在于,所述将led芯片倒装固晶于所述焊料层上,经过第二过炉处理的步骤之后,还包括以下步骤: