一种硅片自动化清洗装置及其控制系统的制作方法

本说明书涉及硅片加工，特别涉及一种硅片自动化清洗装置及其控制系统。

背景技术：

1、中国光伏市场装机量需求增长迅猛，而随着人工成本不断攀升，导致太阳能厂商对自动化设备需求提升，以降低生产成本、提高产品良率。由于硅片经过不同工序加工后，其表面已受到严重沾污，目前对硅片进行清洗时，要保证清洗效果，会进行很多操作，反复夹取易损坏硅片。此外，由于硅片表面沾污类型不同(如有机杂质沾污、颗粒沾污、金属离子沾污)，为了提高清洗效果，需要对不同沾污类型采用不同的清洗方式。

2、基于此，有必要提供一种硅片自动化清洗装置及其控制系统，以提高清洗效果、降低硅片损伤概率、提高产品良品率并降低生产成本。

技术实现思路

1、本说明书一个或多个实施例提供一种自动化清洗装置控制系统，所述控制系统包括硅片自动化清洗装置与处理器，所述硅片自动化清洗装置包括自动配液模块、喷淋模块、清洗腔体、废液回收模块、旋转转架、动力模块、图像采集模块；所述自动喷液模块、所述喷淋模块、所述废液回收模块、所述动力模块、所述图像采集模块均与所述处理器通信连接；所述自动配液模块包括用于盛装目标试剂的混合腔体，所述自动配液模块被配置为基于预设配液参数进行配液；所述喷淋模块包括多个喷淋头、多个连通管道以及多个水泵，所述喷淋头通过所述连通管道与所述混合腔体连通，所述水泵设置于所述连通管道与所述混合腔体的连接处，所述水泵被配置为控制所述喷淋头的喷淋速度；所述废液回收模块包括传感元件，所述传感元件被配置为采集废液检测数据。所述处理器被配置为：生成配液指令发送至所述自动配液模块，控制自动配液模块执行初始配液操作；生成采集指令发送至所述图像采集模块，控制所述图像采集模块获取待清洗硅片的初始图像；基于所述初始图像，确定当前除污子步骤的目标喷淋参数，所述目标喷淋参数包括目标喷淋速度；基于所述目标喷淋参数，生成所述当前除污子步骤的喷淋控制指令并发送至所述喷淋模块，控制所述喷淋模块执行喷淋操作。

2、本说明书一个或多个实施例提供一种自动化清洗装置，所述装置包括自动配液模块、喷淋模块、清洗腔体、废液回收模块、旋转转架、动力模块、图像采集模块；所述自动配液模块包括用于盛装目标试剂的混合腔体，所述自动配液模块被配置为基于预设配液参数进行配液，所述预设配液参数包括多个除污子步骤以及每个所述除污子步骤所需的除污试剂类型；所述喷淋模块包括多个喷淋头、多个连通管道以及多个水泵，所述喷淋头通过所述连通管道与所述混合腔体连通，所述水泵设置于所述连通管道与所述混合腔体的连接处，所述水泵被配置为控制所述喷淋头的喷淋速度；所述废液回收模块包括传感元件，所述传感元件被配置为采集废液检测数据，所述传感元件包括离子传感器与ph传感器中的至少一种。

技术特征：

1.一种硅片自动化清洗装置控制系统，其特征在于，包括硅片自动化清洗装置与处理器，所述硅片自动化清洗装置包括自动配液模块、喷淋模块、清洗腔体、废液回收模块、旋转转架、动力模块、图像采集模块；所述自动喷液模块、所述喷淋模块、所述废液回收模块、所述动力模块、所述图像采集模块均与所述处理器通信连接；

2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述连通管道为弹性管道；所述喷淋模块还包括多个移动组件，所述移动组件与所述喷淋头连接，所述移动组件被配置为调整所述喷淋头的位置。

3.如权利要求2所述的系统，其特征在于，所述目标喷淋参数还包括目标喷淋位置，所述喷淋控制指令包括第一控制指令与第二控制指令，所述处理器进一步被配置为：

4.如权利要求3所述的系统，其特征在于，所述处理器进一步被配置为：

5.如权利要求3所述的系统，其特征在于，所述处理器还被配置为：

6.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述硅片自动化清洗装置还包括烘干模块，所述烘干模块包括气体加热组件与多个气体输送通道，所述多个气体输送通道均布于所述清洗腔体内；

7.如权利要求6所述的系统，其特征在于，所述处理器进一步被配置为：

8.一种硅片自动化清洗装置，其特征在于，包括自动配液模块、喷淋模块、清洗腔体、废液回收模块、旋转转架、动力模块、图像采集模块；

9.如权利要求8所述的装置，其特征在于，所述连通管道为弹性管道；所述喷淋模块还包括多个移动组件，所述移动组件与所述喷淋头连接，所述移动组件被配置为调整所述喷淋头的位置。

10.如权利要求9所述的装置，其特征在于，还包括烘干模块，所述烘干模块包括气体加热组件与多个气体输送通道，所述多个气体输送通道均布于所述清洗腔体内。

技术总结
本说明书实施例提供一种硅片自动化清洗装置及其控制系统，该装置包括自动配液模块、喷淋模块、清洗腔体、废液回收模块、旋转转架、动力模块、图像采集模块。其中，自动配液模块包括用于盛装目标试剂的混合腔体，自动配液模块被配置为基于预设配液参数进行配液；喷淋模块包括多个喷淋头、多个连通管道以及多个水泵，喷淋头通过连通管道与混合腔体连通，水泵设置于连通管道与混合腔体的连接处，水泵被配置为控制喷淋头的喷淋速度；废液回收模块包括传感元件，传感元件被配置为采集废液检测数据。硅片自动化清洗装置控制系统包括硅片自动化清洗装置和处理器，处理器与硅片自动化清洗装置通信连接。

技术研发人员：张淋,袁成
受保护的技术使用者：苏州普伊特自动化系统有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/5/27