本申请涉及半导体,尤其涉及一种ausn背金的led芯片及其制备方法、照明设备。
背景技术:
1、目前行业内大功率照明产品有ausn背金和sn膏共金焊的需求,行业内常用的切割方式为刀片切割和激光切割。
2、基于ausn背金和sn膏共金的工艺要求,ausn背金需要至少3um的厚度,这种厚度的ausn背金采用刀片切割的方式进行切割时,容易产生崩边,发生掉ausn背金等问题,且刀片切割3um厚的ausn背金,寿命比常规的要短;采用激光切割的方式可以有效解决切割崩边的问题,但是由于激光焊,切割后的ausn背金的边缘会产生残渣,影响下游工序的sn膏共金。
3、那么,如何优化ausn背金的切割工艺,以提高led芯片中ausn背金和sn膏的共金效果,是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
1、鉴于上述问题,本申请提供了一种ausn背金的led芯片及其制备方法、照明设备,在激光切割ausn背金后,再蒸镀金属层,以覆盖切割后的ausn背金边缘的残渣,提高led芯片中ausn背金和sn膏的共金效果。具体方案如下:
2、本申请第一方面提供一种ausn背金的led芯片的制备方法,所述ausn背金的led芯片的制备方法包括:
3、制备led芯片的外延片结构;
4、在所述外延片结构中目标衬底的一侧制备ausn背金;
5、对所述ausn背金进行激光切割处理,形成切割道;
6、蒸镀金属层,所述金属层至少覆盖所述ausn背金相邻所述切割道的边缘区域。
7、优选的,在上述ausn背金的led芯片的制备方法中,所述ausn背金的led芯片的制备方法还包括:
8、去除所述切割道内的部分所述金属层。
9、优选的,在上述ausn背金的led芯片的制备方法中,所述ausn背金的led芯片的制备方法还包括:
10、基于所述切割道进行裂片处理,形成多个独立的led芯片。
11、优选的,在上述ausn背金的led芯片的制备方法中,所述金属层的材料为au材料、tiau材料或ptau材料。
12、优选的,在上述ausn背金的led芯片的制备方法中,所述金属层的层数为至少一层;
13、当所述金属层的层数大于或等于两层时,至少两层所述金属层的材料不同。
14、优选的,在上述ausn背金的led芯片的制备方法中,所述金属层完全覆盖所述ausn背金背离所述目标衬底一侧的表面。
15、优选的,在上述ausn背金的led芯片的制备方法中,所述外延片结构包括:
16、位于所述目标衬底背离所述ausn背金一侧,且依次层叠设置的p型限制层、mqw层以及n型限制层;
17、位于所述目标衬底和所述p型限制层之间的金属镜面层。
18、优选的,在上述ausn背金的led芯片的制备方法中,所述n型限制层背离所述目标衬底一侧的部分表面为粗化面。
19、本申请第二方面提供一种ausn背金的led芯片,所述ausn背金的led芯片是通过上述任一项所述的ausn背金的led芯片的制备方法所获得的。
20、本申请第三方面提供一种照明设备,所述照明设备包括上述所述的ausn背金的led芯片。
21、借由上述技术方案,本申请提供了一种ausn背金的led芯片及其制备方法、照明设备。在激光切割ausn背金后,再蒸镀金属层,通过该金属层覆盖切割后的ausn背金边缘的残渣,以提高ausn背金表面的平整度,进而提高led芯片中ausn背金和sn膏的共金效果。
1.一种ausn背金的led芯片的制备方法,其特征在于,所述ausn背金的led芯片的制备方法包括:
2.根据权利要求1所述的ausn背金的led芯片的制备方法,其特征在于,所述ausn背金的led芯片的制备方法还包括:
3.根据权利要求2所述的ausn背金的led芯片的制备方法,其特征在于,所述ausn背金的led芯片的制备方法还包括:
4.根据权利要求1-3任一项所述的ausn背金的led芯片的制备方法,其特征在于,所述金属层的材料为au材料、tiau材料或ptau材料。
5.根据权利要求4所述的ausn背金的led芯片的制备方法,其特征在于,所述金属层的层数为至少一层;
6.根据权利要求1所述的ausn背金的led芯片的制备方法,其特征在于,所述金属层完全覆盖所述ausn背金背离所述目标衬底一侧的表面。
7.根据权利要求1所述的ausn背金的led芯片的制备方法,其特征在于,所述外延片结构包括:
8.根据权利要求7所述的ausn背金的led芯片的制备方法,其特征在于,所述n型限制层背离所述目标衬底一侧的部分表面为粗化面。
9.一种ausn背金的led芯片,其特征在于,所述ausn背金的led芯片是通过权利要求1-8任一项所述的ausn背金的led芯片的制备方法所获得的。
10.一种照明设备,其特征在于,所述照明设备包括权利要求9所述的ausn背金的led芯片。