摄像装置的制作方法

文档序号:40164332发布日期:2024-11-29 15:55阅读:24来源:国知局
摄像装置的制作方法

本公开涉及电子设备。


背景技术:

1、在专利文献1中公开了一种摄像装置,通过在像素部设置电容元件,能够进行高动态范围摄影。

2、在先技术文献

3、专利文献

4、专利文献1:日本特开2016-76921号公报


技术实现思路

1、本发明所要解决的课题

2、在专利文献1所记载的摄像装置中,电容元件的电容越大,则能够实现越高的动态范围。像这样,在具备电容元件的电子设备中,期待电容进一步增大。为了使电容元件的电容增大,例如增大电极的面积即可。但是,由于电极的面积增大,存在电子设备大型化的问题。

3、于是,本公开提供具备大电容的电容元件的小型的电子设备。

4、用于解决课题的手段

5、本公开的非限定性的例示的一个方式所涉及的摄像装置,具备:光电转换部,被形成于半导体基板,通过光电转换而生成信号电荷;第1扩散区域,保持从所述光电转换部转送的所述信号电荷;电容元件,保持由所述光电转换部生成的信号电荷;第1接触插塞,与所述第1扩散区域连接;以及第1布线,与所述第1接触插塞连接,包括所述第1布线的布线层被设置在所述半导体基板与所述电容元件之间。

6、本公开的非限定性的例示的一个方式所涉及的电子设备具备:电容元件、绝缘层、被设置于所述绝缘层的至少1个沟槽、以及至少一部分被所述绝缘层包围的第1导电插塞。所述电容元件包含:第1下部电极,沿着所述至少1个沟槽的内壁设置;介电体层,被设置在所述第1下部电极上;以及上部电极,被设置在所述介电体层上。所述第1导电插塞的至少一部分位于所述绝缘层的上表面与所述至少1个沟槽的最下部之间。

7、发明效果

8、根据本公开,能够提供具备大电容的电容元件的小型的电子设备。



技术特征:

1.一种摄像装置,具备:

2.如权利要求1所述的摄像装置,还具备:

3.如权利要求1所述的摄像装置,

4.如权利要求3所述的摄像装置,

5.如权利要求1所述的摄像装置,

6.如权利要求5所述的摄像装置,

7.如权利要求5所述的摄像装置,

8.如权利要求1至7中任一项所述的摄像装置,

9.如权利要求8所述的摄像装置,

10.如权利要求1至7中任一项所述的摄像装置,

11.如权利要求10所述的摄像装置,


技术总结
本公开的一个方式所涉及的摄像装置具备:光电转换部,被形成于半导体基板,通过光电转换而生成信号电荷;第1扩散区域,保持从所述光电转换部转送的所述信号电荷;电容元件,保持由所述光电转换部生成的信号电荷;第1接触插塞,与所述第1扩散区域连接;以及第1布线,与所述第1接触插塞连接。包括所述第1布线的布线层被设置在所述半导体基板与所述电容元件之间。

技术研发人员:高濑雅之,矶野俊介,留河优子
受保护的技术使用者:松下知识产权经营株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/11/28
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