一种电离室膜窗的制作方法及电离室膜窗与流程

本发明涉及电离室辐射，特别是涉及一种电离室膜窗的制作方法及电离室膜窗。

背景技术：

1、质子治疗作为一种先进放射治疗手段，今年在医学领域得到了广泛的应用，在治疗过程中，位于输运线和治疗头的气体电离室能够对患者受照位置和剂量进行监测，从而保证患者安全。治疗头可利用入射电离室实时监测治疗头入口处的质子束的位置，确保治疗过程的精确控制。

2、现有技术中，因位置灵敏区较为复杂，电离室膜窗尚缺少标准制作装配方法，且制作的产品可靠性、良品率都较低。因此，存在待改进之处。

技术实现思路

1、鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种电离室膜窗的制作方法及电离室膜窗，用于解决现有技术中电离室膜窗缺少标准制作装配方法，且制作的产品可靠性、良品率都较低的技术问题。

2、为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供一种电离室膜窗的制作方法，包括：

3、将薄膜覆盖在支撑框上，并进行粘接固定，剔除所述支撑框外侧的薄膜，以形成初始膜窗；

4、在所述初始膜窗上覆盖蓝图，以在所述初始膜窗上形成位置灵敏区，所述蓝图上设有导电通道图案；

5、对所述蓝图上的导电通道图案进喷涂处理，以在所述位置灵敏区上形成导电通道；

6、在所述位置灵敏区背面对应位置进行穿孔导通处理，以形成多个触点，对所有所述触点焊接导线，以形成目标膜窗。

7、于本发明的一实施例中，所述将薄膜覆盖在支撑框上，并进行粘接固定，剔除所述支撑框外侧的薄膜，以形成初始膜窗的步骤包括：

8、对所述薄膜进行清洁，并将所述薄膜拉伸后覆盖在支撑框上；

9、对所述支撑框进行清洁，并将所述薄膜粘接在所述支撑框上；

10、剔除粘接后的所述支撑框外侧的薄膜，以形成初始膜窗。

11、于本发明的一实施例中，所述将薄膜覆盖在支撑框上，并进行粘接固定，剔除所述支撑框外侧的薄膜，以形成初始膜窗的步骤之后包括：

12、将所述初始膜窗置于预设环境内，并将压载物置于所述初始膜窗上，对所述初始膜窗进行静置处理。

13、于本发明的一实施例中，所述薄膜为mylar膜和/或聚乙烯薄膜。

14、于本发明的一实施例中，所述在所述初始膜窗上覆盖蓝图，以在所述初始膜窗上形成位置灵敏区的步骤包括；

15、将预打印的蓝图覆盖在初始膜窗上，并使用绝缘环将所述蓝图的边缘固定在支撑框上，以形成位置灵敏区，所述位置灵敏区的位置与所述蓝图的导电通道图案的位置重合。

16、于本发明的一实施例中，所述对所述蓝图上的导电通道图案进喷涂处理，以在所述位置灵敏区上形成导电通道的步骤包括：

17、剔除所述蓝图上的导电通道图案处的蒙皮，以在所述位置灵敏区上形成涂粉区；

18、在所述涂粉区内喷涂碳粉，以在所述位置灵敏区上形成导电通道，并剔除所述蓝图上的剩余部分的蒙皮。

19、于本发明的一实施例中，所述在所述涂粉区内喷涂碳粉，以在所述位置灵敏区上形成导电通道的步骤包括：

20、按照预设路径，对所述涂粉区进行多次喷涂碳粉，且每一次喷涂在前一次碳粉层干燥后进行。

21、于本发明的一实施例中，形成所述导电通道的碳粉层数为不少于6层。

22、于本发明的一实施例中，所述对所述蓝图上的导电通道图案进喷涂处理，以在所述位置灵敏区上形成导电通道的步骤之后还包括：

23、检测所述导电通道中相邻条带间是否绝缘，以及所述位置灵敏区的正反两面是否绝缘，并在所述导电通道中相邻条带间和所述位置灵敏区的正反两面均绝缘时，判定所述位置灵敏区为合格。

24、本发明还提供一种电离室膜窗，所述电离室膜窗为上述任一项所述电离室膜窗的制作方法所制作的目标膜窗。

25、如上所述，本发明的一种电离室膜窗的制作方法及电离室膜窗，具有以下有益效果：本发明的制作方法还简化了生产工艺，提高了电离室膜窗生产的良品率，通过本发的制作方法，可缩短电离室膜窗的响应时间，同时降低使用中的膜窗破损率。

技术特征：

1.一种电离室膜窗的制作方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的电离室膜窗的制作方法，其特征在于，所述将薄膜覆盖在支撑框上，并进行粘接固定，剔除所述支撑框外侧的薄膜，以形成初始膜窗的步骤包括：

3.根据权利要求1所述的电离室膜窗的制作方法，其特征在于，所述将薄膜覆盖在支撑框上，并进行粘接固定，剔除所述支撑框外侧的薄膜，以形成初始膜窗的步骤之后包括：

4.根据权利要求1所述的电离室膜窗的制作方法，其特征在于，所述薄膜为mylar膜和/或聚乙烯薄膜。

5.根据权利要求1所述的电离室膜窗的制作方法，其特征在于，所述在所述初始膜窗上覆盖蓝图，以在所述初始膜窗上形成位置灵敏区的步骤包括；

6.根据权利要求1所述的电离室膜窗的制作方法，其特征在于，所述对所述蓝图上的导电通道图案进喷涂处理，以在所述位置灵敏区上形成导电通道的步骤包括：

7.根据权利要求6所述的电离室膜窗的制作方法，其特征在于，所述在所述涂粉区内喷涂碳粉，以在所述位置灵敏区上形成导电通道的步骤包括：

8.根据权利要求7所述的电离室膜窗的制作方法，其特征在于，形成所述导电通道的碳粉层数为不少于6层。

9.根据权利要求7所述的电离室膜窗的制作方法，其特征在于，所述对所述蓝图上的导电通道图案进喷涂处理，以在所述位置灵敏区上形成导电通道的步骤之后还包括：

10.一种电离室膜窗，其特征在于，所述电离室膜窗为权利要求1-9任一项所述电离室膜窗的制作方法所制作的目标膜窗。

技术总结
本发明提供一种电离室膜窗的制作方法及电离室膜窗，涉及电离室辐射技术领域，所述制作方法包括：将薄膜覆盖在支撑框上，并进行粘接固定，剔除所述支撑框外侧的薄膜，以形成初始膜窗；在所述初始膜窗上覆盖蓝图，以在所述初始膜窗上形成位置灵敏区，所述蓝图上设有导电通道图案；对所述蓝图上的导电通道图案进喷涂处理，以在所述位置灵敏区上形成导电通道；在所述位置灵敏区背面对应位置进行穿孔导通处理，以形成多个触点，对所有所述触点焊接导线，以形成目标膜窗。本发明的制作方法还简化了生产工艺，提高了电离室膜窗生产的良品率，通过本发的制作方法，可缩短电离室膜窗的响应时间，同时降低使用中的膜窗破损率。

技术研发人员：董赫,常孟飞,徐思,王洪磊,张小虎
受保护的技术使用者：中广核金沃科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2025/3/10