一种聚酰亚胺基板、其制备方法及柔性显示器的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示器领域，特别涉及一种聚酰亚胺基板、其制备方法及柔性显示器。
【背景技术】
[0002]柔性显示器，称为可弯曲显示器或软性显示器。其是由柔软的材料制成，主要结构包括柔性基板、中间显示介质和封装。
[0003]柔性基板是整个柔性显示器的重要组成部分，其性能对于柔性显示器的品质与寿命均具有重要的影响。目前，可作为柔性基板的材料包括超薄玻璃、金属箔或聚合物薄膜。聚合物薄膜可以为聚对苯二甲酸以二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、环状聚烯烃、聚醚砜以及聚酰亚胺等。其中，聚酰亚胺基板以其优良的耐高温特性、良好的力学性能以及优良的耐化学稳定性而备受关注。
[0004]聚酰亚胺基板以玻璃为衬底，将聚酰亚胺溶液或其前驱体聚酰胺酸溶液涂覆在玻璃衬底上，然后经过固化得到聚酰亚胺薄膜，接着在聚酰亚胺薄膜表面进行显示介质、水氧屏蔽层以及封装层的装配，最后将制备的器件经过激光剥离工艺(LL0)除去玻璃衬底，从而得到以聚酰亚胺薄膜为柔性基板的显示器。
[0005]但是，由于聚酰亚胺基板没有屏蔽激光的作用，密封固化或者采用激光剥离工艺去除剥离衬底的过程中，激光容易直接对显示面板内部的液晶产生影响，影响显示的质量。
【发明内容】
[0006]本发明提供一种聚酰亚胺基板、其制备方法及柔性显示器，所述聚酰亚胺基板可以吸收< 380nm的光，有效防止激光剥离过程中对于基板及面板内部液晶的伤害，确保柔性显示器的品质。
[0007]本发明公开了一种聚酰亚胺基板的制备方法，包括以下步骤:
[0008]将木质素、聚酰亚胺和自由基聚合引发剂溶解于有机溶剂中；
[0009]将溶解后得到的有机溶剂涂覆于玻璃基板上，在氮气气氛中，反应得到聚酰亚胺基板。
[0010]优选的，所述木质素、聚酰亚胺和自由基聚合引发剂的质量比为100:300?1000:2。
[0011]优选的，所述有机溶剂为N-甲基吡咯烷酮(NMP)、四氢呋喃或甲苯。
[0012]优选的，所述自由基聚合引发剂为过氧化苯甲酰、过氧化苯甲酰叔丁酯或过氧化甲乙酮。
[0013]优选的，所述反应的温度为200?400 °C。
[0014]优选的，所述反应的时间为6?24小时。
[0015]本发明公开了一种聚酰亚胺基板，由木质素、聚酰亚胺和自由基引发剂反应制成。
[0016]优选的，所述木质素、聚酰亚胺和自由基聚合引发剂的质量比为100:300?1000:2。
[0017]本发明还公开了一种柔性显示器，包括上述技术方案所述的聚酰亚胺基板或上述技术方案所述方法制备的聚酰亚胺基板。
[0018]与现有技术相比，本发明的聚酰亚胺基板由木质素、聚酰亚胺和自由基引发剂制成。由于木质素含有多种活性基团，如羟基、羧基、芳香基等，将其引入聚酰亚胺聚合物结构中，使得聚合物最大吸收峰从小于等于280纳米红移到小于等于380纳米，从而对于后续激光剥离过程中的光波具有一定的吸收与屏蔽作用，防止激光剥离玻璃衬底过程中对于基板及液晶的伤害，确保柔性显示器的显示品质。另外，本发明的聚酰亚胺基板还具有高透明性和优异的热稳定性。
【附图说明】
[0019]图1为未剥离玻璃衬底的柔性显示器；其中，1为玻璃衬底，2为聚酰亚胺基板；
[0020]图2为本发明聚酰亚胺基板的透光性能图。
【具体实施方式】
[0021]为了进一步理解本发明，下面结合实施例对本发明优选实施方案进行描述，但是应当理解，这些描述只是为进一步说明本发明的特征和优点，而不是对本发明权利要求的限制。
[0022]本发明实施例公开了一种聚酰亚胺基板的制备方法，包括以下步骤:
[0023]将木质素、聚酰亚胺和自由基聚合引发剂溶解于有机溶剂中，涂覆于玻璃基板上，在氮气气氛中，反应得到聚酰亚胺基板。
[0024]木质素中含有大量的活性基团，如羟基、羧基、羰基、芳香基等，这些基团可以影响木质素对于紫外线的吸收。本发明将具有这些基团的木质素引入聚酰亚胺后，形成的聚合物的最大吸收峰由小于等于280nm红移到小于等于380nm。
[0025]在制备柔性显示器的过程中，密封固化的波长为360nm左右，激光剥离过程中的波长为308nm左右。本发明引入木质素后的聚酰亚胺基板的最大吸收峰可达380nm，完全可以吸收密封固化或激光剥离过程中的光波，从而避免其对于基板以及液晶的伤害。
[0026]按照本发明，将木质素、聚酰亚胺和自由基聚合引发剂溶解于有机溶剂中，涂覆于玻璃基板上，在氮气气氛中，反应得到聚酰亚胺基板。所述木质素、聚酰亚胺和自由基聚合引发剂的质量比优选为100:300?1000:2，更优选为100:400?900:2，最优先为100:450 ?650:2o
[0027]所述有机溶剂优选为ΝΜΡ、四氢呋喃或甲苯。所述自由基聚合引发剂优选为过氧化苯甲酰、过氧化苯甲酰叔丁酯或过氧化甲乙酮。
[0028]所述反应的温度优选为200?400 °C，更优选为200?250 °C。
[0029]所述反应的时间优选为6?24小时，更优选为6?8小时。
[0030]本发明还公开了一种聚酰亚胺基板，由木质素、聚酰亚胺和自由基引发剂反应制成。所述木质素、聚酰亚胺和自由基聚合引发剂的质量比优选为100:300?1000:2，更优选为100:400?900:2，最优先为100:450?650:2。所述反应的温度优选为200?400°C，更优选为200?250°C。所述反应的时间优选为6?24小时，更优选为6?8小时。
[0031]本发明还公开了一种柔性显示器，包括上述技术方案所述的聚酰亚胺基板或上述技术方案所述方法制备的聚酰亚胺基板。本发明对于由聚酰亚胺基本制备形成柔性显示器的方法没有特殊限制，按照本领域技术人员熟知的方法制备即可。
[0032]为了进一步理解本发明，下面结合实施例对本发明提供的聚酰亚胺基板、其制备方法及柔性显示器件进行详细说明，本发明的保护范围不受以下实施例的限制。
[0033]本发明的使用的木质素为市售产品。
[0034]实施例1
[0035]将100克木质素、450克聚酰亚胺和2克过氧化甲酰溶于NMP中，待形成均匀的溶液后，通过涂覆设备将所述溶液涂覆在玻璃衬底上，设备中同时通入氮气去除氧气，在200°C反应6小时，得到聚酰亚胺基板。
[0036]对得到的聚酰亚胺基板的光吸收性能以及透明性进行测试，结果参见图2。图2为本发明聚酰亚胺基板的透光性能图。由图2可知，本发明用木质素改性后的聚酰亚胺基板比普通没有任何掺杂的聚酰亚胺基板的最大吸收峰从小于等于280纳米红移到小于等于380纳米。而且具有高透明性，在可见光范围内，透过率达到85%以上。
[0037]实施例2
[0038]将100克木质素、500克聚酰亚胺和2克过氧化甲酰溶于四氢呋喃中，待形成均匀的溶液后，通过涂覆设备将所述溶液涂覆在玻璃衬底上，设备中同时通入氮气去除氧气，在250°C反应8小时，得到聚酰亚胺基板。
[0039]实施例3
[0040]将100克木质素、800克聚酰亚胺和2克过氧化甲酰溶于甲苯中，待形成均匀的溶液后，通过涂覆设备将所述溶液涂覆在玻璃衬底上，设备中同时通入氮气去除氧气，在300°C反应24小时，得到聚酰亚胺基板。
[0041]以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。
[0042]对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
【主权项】
1.一种聚酰亚胺基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤: 将木质素、聚酰亚胺和自由基聚合引发剂溶解于有机溶剂中， 将溶解后得到的有机溶剂涂覆于玻璃基板上，在氮气气氛中，反应得到聚酰亚胺基板。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述木质素、聚酰亚胺和自由基聚合引发剂的质量比为100:300?1000:2o3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述有机溶剂为Ν-甲基吡咯烷酮、四氢呋喃或甲苯。4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述自由基聚合引发剂为过氧化苯甲酰、过氧化苯甲酰叔丁酯或过氧化甲乙酮。5.根据权利要求1?4任意一项所述的制备方法，其特征在于，所述反应的温度为200 ?400。。。6.根据权利要求1?4任意一项所述的制备方法，其特征在于，所述反应的时间为6?24小时。7.—种聚酰亚胺基板，其特征在于，所述聚酰亚胺基板由木质素、聚酰亚胺和自由基引发剂反应制成。8.根据权利要求7所述的聚酰亚胺基板，其特征在于，所述木质素、聚酰亚胺和自由基聚合引发剂的质量比为100:300?1000:2o9.一种柔性显示器，包括权利要求7或8所述的聚酰亚胺基板或权利要求1?6任意一项所述方法制备的聚酰亚胺基板。
【专利摘要】本发明涉及显示器领域。本发明的聚酰亚胺基板由木质素、聚酰亚胺和自由基引发剂反应制成。由于木质素含有多种活性基团，如羟基、羧基、芳香基等，将其引入聚酰亚胺聚合物结构中，使得聚合物最大吸收峰从小于等于280纳米红移到小于等于380纳米，从而对于后续激光剥离过程中的光波具有一定的吸收与屏蔽作用，防止激光剥离玻璃衬底过程中对于基板及液晶的伤害，确保柔性显示器的显示品质。另外，本发明的聚酰亚胺基板还具有高透明性和优异的热稳定性。
【IPC分类】H01L21/02, H01L27/12
【公开号】CN105304469
【申请号】CN201510621996
【发明人】黄华
【申请人】京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2016年2月3日
【申请日】2015年9月25日