一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法
【专利摘要】本发明公开了一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法，包括晶片(1)、静电吸盘(2)、供电导线(3)、产生电流的电源(4)、控制电源的控制线(5)、控制器(6)。
【专利说明】
一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法
技术领域
[0001]本发明涉及一种半导体器件制造晶片注入控制系统，尤其涉及到离子注入机离子注入子系统对静电吸盘的保护和靶室传片子系统的对晶片的保护。
【背景技术】
[0002]随着离子注入机的发展，自动化成了必然的趋势，离子注入机是一种在真空系统下，完成将离子注入到晶片的设备。该设备具备离子注入子系统和靶室传片子系统。由传片子系统将晶片送上靶台，靶台借助静电吸盘吸附晶片，将其送到注入子系统中进行离子注入。此流程有时会出现异常，那就是晶片可能没送上靶台。一旦出现此问题，将导致静电吸盘被注入，而损坏；如果晶片送上来靶台，但没有吸附住，会导致晶片送人注入系统时，晶片从靶台滑落，碎片而造成经济损失。为此，必须判别晶片是否在靶台上，而且，晶片已经完全吸附住。
[0003]鉴于晶片是否存在在靶台上的重要性，一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法是离子注入机自动化控制传片和注片急需解决的问题。
【发明内容】
[0004]本发明时针对离子注入机的晶片安全和静电吸盘安全，直接影响生产的安全，而开发出一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法
[0005]本发明通过以下技术方案实现:
[0006]1.一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法，如图1所示，是通靶台本身自带的静电吸盘的电流值，来判别晶片是否存在，不再增加其它硬件设施来判别晶片的存在与否，降低了靶台的费用。
[0007]2.一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法，通过静电吸盘的电流范围，结合传片系统的晶片送靶台的动作，就能判别出静电吸盘或电源是否损坏。这有效地排除了静电吸盘被离子注入的可能。
[0008]3.一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法，在判别晶片存在前，主动保存电源给静电吸盘供电的状态，在判断完成后，还原供电状态，实现了不再借助其它硬件设施，单纯依靠静电吸盘判别晶片存在。使得传片系统更简单。
[0009]4.当静电吸盘的电流值不论是否存在晶片，在异常范围波动时，进行报警，由人工干预，进一步确保了晶片和静电吸盘的安全。
[0010]本发明具有如下显著优点:
[0011]1.以更少的硬件装置，判别晶片的存在；
[0012]2.判别静电吸盘的电流异常，阻止晶片的滑落可能和静电吸盘被注入的可能；
【附图说明】
[0013]图1离子注入机的靶台识别晶片是否存在的模块关系图。
【具体实施方式】
[0014]下面结合附图1对本发明作进一步的介绍，但不作为对本发明的限定。
[0015]如图1所示，在传片系统将晶片⑴传送到靶台，置于静电吸盘⑵上后，通过控制器(6)经由控制线(5)向电源(4)发出获取当前电源状态指令。电源⑷经控制线(5)返回电源状态。控制器(6)保存当前电源⑷的状态。控制器(6)向电源⑷发送供电指令，电源⑷经由导线(3)给静电吸盘⑵供电。由此，产生的电流，通过电源⑷反馈给控制器(6)。控制器(6)读取电流值，判别电流值是否一定范围。该范围值落在晶片(I)存在于静电吸盘(2)时的范围值时，判定晶片(I)存在。否则，要么是晶片(I)存在或静电吸盘(2)损坏。通过警示，让人工干预。另外，在判别完成后，控制器(6)再恢复之前记录的电源(4)的状态。
[0016]本发明专利的特定实施例已对本发明专利的内容做了详尽说明。对本领域一般技术人员而言，在不背离本发明专利精神的前提下对它所做的任何显而易见的改动，都构成对本发明专利的侵犯，将承担相应的法律责任。
【主权项】
1.一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法，包括晶片(I)、静电吸盘(2)、供电导线(3)、产生电流的电源(4)、控制电源的控制线(5)、控制器(6)。2.一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法，其特征在于不再利用其它硬件设施，凭借靶台直立晶片时的静电吸盘来判别晶片是否在靶台上，降低了费用。3.一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法，其特征在于通过简单地给静电吸盘加电和放电就能识别晶片的存在，简单易行。4.一种离子注入机的靶台识别晶片是否存在的方法，其特征在于即使静电吸盘上的电流异常无法判别，也能阻止靶台直立晶片而导致晶片脱落破碎，操作更安全。
【文档编号】H01J37/317GK105895485SQ201410788946
【公开日】2016年8月24日
【申请日】2014年12月18日
【发明人】钟武
【申请人】北京中科信电子装备有限公司