外延片清洗机的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及半导体外延生长设备领域,具体地说是一种外延片清洗机。
【背景技术】
[0002]外延是半导体工艺当中的一种。硅片最底层是衬底硅(有的加点埋层),然后在衬底上生长一层单晶硅,这层单晶硅称为外延层,再后来在外延层上注入基区、发射区等等。外延片就是在衬底上做好外延层的硅片。因有些制造商只做外延之后的工艺生产,所以购买做好外延工艺的外延片来接着做后续工艺。
[0003]在清洗机清洗外延片的过程中,清洗工艺中其中一步为稀释的氢氟酸清洗外延片的背面,需要有支撑柱将外延片支撑和顶出,期间会造成回溅含有氢氟酸的液体落在支撑柱上。由于支撑柱表面液体无法及时流走,且在清洗结束后会直接跟外延片背面接触,支撑柱上残留的积液会腐蚀外延片背面的二氧化硅,导致外延片报废。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的之一是为了克服现有技术的不足,提供一种清洗效果更好的外延片清洗机。
[0005]为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案实现:
[0006]外延片清洗机,包括驱动装置和清洗盒,所述的清洗盒内设有支撑架,所述的支撑架能够在清洗盒内上升和下降,所述的驱动装置驱动支撑架上升和下降,所述的支撑架上端设有若干支撑柱,所述的支撑柱上端面用于支撑外延片,所述的支撑柱上端面为圆弧面,使液体无法停留在支撑柱上端面。
[0007]在上述的外延片清洗机中,所述的支撑柱上端面设有销子,所述的销子与外延片下端面接触。
[0008]在上述的外延片清洗机中,所述的支撑架还包括连接柱,所述的支撑柱安装在连接柱上端,所述的连接柱下端安装在清洗盒内,所述的驱动装置驱动连接柱上升和下降。
[0009]在上述的外延片清洗机中,所述的连接柱包括可拆卸连接的连接部和安装部,所述的连接部与支撑柱连接,所述的安装部与清洗盒连接。
[0010]在上述的外延片清洗机中,所述的支撑柱至少有三根,所述的支撑柱一端与支撑架连接且呈放射状。
[0011]在上述的外延片清洗机中,所述的支撑柱上端面设有销子,所述的销子和外延片下端面接触,所述的销子位于支撑柱远离支撑架端。
[0012]在上述的外延片清洗机中,所述的支撑柱呈圆柱状。
[0013]本实用新型支撑架在清洗盒内上升和下降,支撑硅片在清洗盒内清洗;支撑柱端面为圆弧面,清洗结束后清洗液无法停留在支撑柱上端面,不会使硅片发生腐蚀。
[0014]本实用新型的支撑柱上端的销子支撑硅片,使硅片不易滑动。
【附图说明】
[0015]图1为本实用新型的结构示意图。
[0016]图2为本实用新型支撑架结构示意图。
[0017]图中标号说明:
[0018]1、清洗盒;2、支撑架;3、支撑柱;4、连接柱;5、连接部;6、安装部;7、销子。
【具体实施方式】
[0019]下面结合附图对本实用新型进行详细的描述。
[0020]如图1-2所示,一种外延片清洗机,包括驱动装置(图中未标出)和清洗盒1,所述的清洗盒I内设有支撑架2,所述的支撑架2能够在清洗盒I内上升和下降,所述的驱动装置驱动支撑架2上升和下降,所述的支撑架2上端设有若干支撑柱3,所述的支撑柱3上端面用于支撑外延片,支撑柱3呈圆柱状,支撑柱3上端面为圆弧面,使液体无法停留在支撑柱3上端面。
[0021]本实用新型支撑架2在清洗盒I内上升和下降,支撑硅片在清洗盒I内清洗;支撑柱3上端面为圆弧面,当清洗液留在支撑柱3上端面时,由于上端面为圆弧面,因此清洗液张力容易被破坏,从而使清洗液不容易聚集在支撑柱3上端面上,而清洗结束后清洗液无法停留在支撑柱3上端面,就不会使硅片发生腐蚀。
[0022]支撑架2还包括连接柱4,连接柱4包括可拆卸连接的连接部5和安装部6,连接部5和安装部6采用螺纹连接,便于拆卸,连接柱4上端为连接部5,下端为安装部6,所述的连接部5与支撑柱3连接,所述的安装部6与清洗盒I连接,所述的驱动装置驱动连接柱4上升和下降,本实施例中,驱动装置是电机。
[0023]支撑柱3至少有三根,所述的支撑柱3 —端与支撑架2连接且呈放射状,支撑柱3长短大小相同,支撑柱3上端面设有销子7,销子7位于支撑柱3放射状的靠近最外端的位置,所述的销子7和外延片下端面接触,销子7支撑硅片,对硅片起支撑和定位作用,使硅片不易滑动,同时销子7上端面采用圆弧面且面积很小,清洗液无法停留在销子7上端面,也不会导致硅片腐蚀。
[0024]本实用新型中的实施例仅用于对本实用新型进行说明,并不构成对权利要求范围的限制,本领域内技术人员可以想到的其他实质上等同的替代,均在本实用新型保护范围内。
【主权项】
1.外延片清洗机,包括驱动装置和清洗盒,其特征在于,所述的清洗盒内设有支撑架,所述的支撑架能够在清洗盒内上升和下降,所述的驱动装置驱动支撑架上升和下降,所述的支撑架上端设有若干支撑柱,所述的支撑柱上端面用于支撑外延片,所述的支撑柱上端面为圆弧面,使液体无法停留在支撑柱上端面。
2.根据权利要求1所述的外延片清洗机,其特征在于,所述的支撑柱上端面设有销子,所述的销子与外延片下端面接触。
3.根据权利要求1所述的外延片清洗机,其特征在于,所述的支撑架还包括连接柱,所述的支撑柱安装在连接柱上端,所述的连接柱下端安装在清洗盒内,所述的驱动装置驱动连接柱上升和下降。
4.根据权利要求3所述的外延片清洗机,其特征在于,所述的连接柱包括可拆卸连接的连接部和安装部,所述的连接部与支撑柱连接,所述的安装部与清洗盒连接。
5.根据权利要求1所述的外延片清洗机,其特征在于,所述的支撑柱至少有三根,所述的支撑柱一端与支撑架连接且呈放射状。
6.根据权利要求5所述的外延片清洗机,其特征在于,所述的支撑柱上端面设有销子,所述的销子和外延片下端面接触,所述的销子位于支撑柱远离支撑架端。
7.根据权利要求1或5所述的外延片清洗机,其特征在于,所述的支撑柱呈圆柱状。
【专利摘要】本实用新型公开了一种外延片清洗机,包括驱动装置和清洗盒,所述的清洗盒内设有支撑架,所述的支撑架能够在清洗盒内上升和下降,所述的驱动装置驱动支撑架上升和下降,所述的支撑架上端设有若干支撑柱,所述的支撑柱上端面用于支撑外延片,所述的支撑柱上端面为圆弧面,使液体无法停留在支撑柱上端面。本实用新型支撑架在清洗盒内上升和下降,支撑硅片在清洗盒内清洗;支撑柱端面为圆弧面,清洗结束后清洗液无法停留在支撑柱上端面,不会使硅片发生腐蚀。
【IPC分类】H01L21-67, H01L21-683
【公开号】CN204596759
【申请号】CN201520204927
【发明人】吴勇
【申请人】上海晶盟硅材料有限公司
【公开日】2015年8月26日
【申请日】2015年4月3日