本发明涉及电路板制造技术领域,特别涉及一种镀厚金厚铜板的制作方法。
背景技术:
科技的发展促使线路板向多功能化发展趋势,产品形态多样化,表面处理也呈现多样化,电镀镍金就是其中一种,但类似板的设计铜厚均小于2oz,因为镀镍金板蚀刻后,会出现镍金的“悬边”,经过后工序的油墨印刷的挤压,悬着的镍金会出现脱落成为油墨下镍金丝异物,镍金是导电金属,所以容易引起短路现象。正常蚀刻时线路会侧蚀变小,业内都会做线路的补偿来弥补,比如线宽线距是5/5mil,线路板制作时会加大线路补偿至6/4mil,电镀镍金时,无疑是加大了受镀面积浪费了成本,而浪费的成本就是悬着的镍金丝,又影响了产品的可靠性。
技术实现要素:
本发明提供了一种镀厚金厚铜板的制作方法,以解决至少一个上述技术问题。
为解决上述问题,作为本发明的一个方面,提供了一种镀厚金厚铜板的制作方法,包括:
步骤1,开料:通过开料机将覆铜板9裁切成设计尺寸;
步骤2,钻孔:按照设计资料使用钻孔机钻不同孔径的通孔;
步骤3,沉铜:使用化学沉积的方式将孔壁金属化;
步骤4,整板电镀:使用整板电镀铜的方式将孔铜及覆铜板上的面铜1满足客户要求;
步骤5,外层线路1:将整板镀铜后的板件上贴上一层感光性干膜2,使用菲林或则激光成像进行选择性曝光,形成所需要的第一图形3,该第一图形3不需要进行线路补偿,再通过弱碱性药水进行显影,需要镀镍金的图形裸露出来,不需要镀镍金的图形被干膜覆盖;
步骤6,镀镍金:使用电镀的方式,使镍金层4厚度满足客户要求;
步骤7,退膜:用强碱性溶液将板件上的感光性干膜2退掉,不伤及镍金层和铜层;
步骤8,外层线路2:将退膜后的板件上涂布一层感光性湿膜5,再贴一层感光型干膜7,使用菲林或则激光成像进行选择性曝光,形成所需要的第二图形6,此图形需要进行线路补偿加大,再通过弱碱性药水进行显影,镀镍金的图形被干膜7覆盖,露出需要蚀刻掉的铜层;
步骤9,酸性蚀刻:先通过化学药水咬蚀铜层,药水不与镍金层反应,也不腐蚀干膜,蚀刻完以后将干膜7退掉,露出客户需要的镍金图形4,蚀刻和退膜时连线。
本发明不是用镍金层做抗蚀层,而是采用湿膜+干膜做为抗蚀层,从而使得干膜与湿膜下的铜被蚀刻使干/湿膜形成悬空,但镍金层并未悬空,所以可以将铜厚做到3oz以上。为了避免镍金层悬空,设计的镍金层图形略小于干膜图形,也就是镍金层不需要补偿,节省了贵金属成本。
附图说明
图1示意性地示出了本发明的制作流程示意图。
图中:a表示退膜;b表示线圈图形;c表示蚀刻;d表示退膜。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的实施例进行详细说明,但是本发明可以由权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
本发明中的镀镍金厚铜板制作方法,包括开料—钻孔—沉铜—负片电镀—外层线路—镀镍金—退膜—外层线路2—酸性蚀刻,具体说明如下:
1.开料
通过开料机将覆铜板裁切成设计尺寸。
2.钻孔
按照设计资料使用钻孔机钻不同孔径的通孔。
3.沉铜
使用化学沉积的方式将孔壁金属化,
4.整板电镀
使用整板电镀铜的方式将孔铜及覆铜板上的面铜满足客户要求。
5、外层线路
将整板镀铜后的板件上贴上一层感光性干膜,使用菲林或则激光成像进行选择性曝光,形成所需要的图形,此图形不需要进行线路补偿,再通过弱碱性药水进行显影,需要镀镍金的图形裸露出来,不需要镀镍金的图形被干膜覆盖。
6.镀镍金
使用电镀的方式,使镍金层厚度满足客户要求。
7.退膜
用3-5%的强碱性溶液将板件上的干膜退掉,不伤及镍金层和铜层。
8.外层线路2
将退膜后的板件上涂布一层感光性湿膜,使用菲林或则激光成像进行选择性曝光,形成所需要的图形,此图形需要进行线路补偿加大,再通过弱碱性药水进行显影,镀镍金的图形被干膜覆盖,露出需要蚀刻掉的铜层。
9.酸性蚀刻
先通过化学药水咬蚀铜层,药水不与镍金层反应,也不腐蚀干膜。蚀刻完以后将干膜退掉,露出客户需要的镍金图形。蚀刻和退膜时连线。
在上述技术方案中,本发明中的板件采用4oz厚铜板,然后钻孔、沉铜、整板镀铜将孔铜和面铜满足做到客户要求,再做外层线路图形(线路图形不做补偿),然后电镀镍金,电镀镍金厚先将干膜退掉,然后重新再做外层线路图形,线路图形用负片的方式设计,且进行补偿,曝光显影出来后,镍金层上就覆盖了一层干膜保护起来,做酸性蚀刻退膜即可。
本发明直接采用厚铜板制作,用沉铜、整板电镀铜的方式将孔铜和面铜做到满足客户要求,做外层线路图形时,用于曝光线路的菲林不做补偿,曝光出来的线路图形和原始的图形一致,电镀镍金后,先将干膜退干净,然后将板涂布湿膜,预固化以后再贴一层干膜,用更改后的图形资料曝光,使镍金层上涂布一层湿膜/干膜,镍层和金层的厚度只有4um,湿膜有流动性,可以填充让镍金边缘不留空隙,干膜覆盖并保护孔不被药水咬蚀。设计资料时,将曝光湿膜线路图形的菲林在原基础上加大补偿,也就是干膜完全覆盖镍金层,且较金层线路宽几个mil,调整参数正常走酸性蚀刻线。
与现有技术中采用镍金层做为抗蚀刻层,镍金层下的铜被蚀刻以至于镍金层悬空的方法相比,本发明不是用镍金层做抗蚀层,而是采用湿膜+干膜做为抗蚀层,从而使得干膜与湿膜下的铜被蚀刻使干/湿膜形成悬空,但镍金层并未悬空,所以可以将铜厚做到3oz以上。为了避免镍金层悬空,设计的镍金层图形略小于干膜图形,也就是镍金层不需要补偿,节省了贵金属成本。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。