一种可抑制电磁泄漏的电子设备观察窗口的制作方法

文档序号:21660119发布日期:2020-07-29 03:33阅读:121来源:国知局
一种可抑制电磁泄漏的电子设备观察窗口的制作方法

本实用新型涉及电子器件领域,具体涉及一种可抑制电磁泄漏的电子设备观察窗口。



背景技术:

电子设备观察窗口(显示器件)是军用电子装备系统的终端设备,电磁兼容性作为电子设备的重要技术指标,是电子设备观察窗口(显示器件)设计中不可避免的重要问题。如果设计不好产生电磁辐射或者被易受外界电磁辐射干扰,影响显示质量,导致信息获取错误,将严重影响装备效能的发挥。



技术实现要素:

为解决上述技术问题,本实用新型提供了一种可抑制电磁泄漏的电子设备观察窗口,可保证在复杂电磁环境下观察窗口(显示器件)正确、不受干扰的工作。

为实现上述目的,本实用新型具体通过以下技术方案实现:

一种可抑制电磁泄漏的电子设备观察窗口,该观察窗口采用透明屏蔽材料。

优选地,所述透明屏蔽材料为由两层玻璃以及夹持在两层玻璃之间的金属网构成的透明金属丝网玻璃,该透明金属丝网玻璃的屏蔽效能与金属丝网的目数相关,目数越大,屏蔽效果越高,其优点是在频段10mhz-1ghz屏蔽效能达到40db-60db,在频段1ghz-7ghz屏蔽效能达到30db-40db。

优选地,所述透明屏蔽材料为由玻璃层以及玻璃层上镀的导电层构成的镀膜玻璃,所述镀膜玻璃的屏蔽效能与其表面镀层的电阻率有关,电阻率越小,屏蔽效能越高,透光率可达92%左右,镜面反射率低,为0.4%,漫反射率低,为0.002%。在选择电子观察窗口屏蔽材料时必须根据具体应用情况,兼顾经济性、实用性等方面。

优选地,所述显示器件外包裹有一用于将其与设备的其他电路隔离开的隔离舱,此时要求显示器件本身不产生较强电磁辐射的情况。

本实用新型具有以下有益效果:

可以减小电子设备在使用过程中的电磁泄漏问题,同时减小电子设备相互之间的电磁干扰,从而降低成本开支。

附图说明

通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本实用新型的其它特征、目的将会变得更明显:

图1为本实用新型实施例1的结构示意图。

图2为本实用新型实施例2的结构示意图。

图3为本实用新型实施例3的结构示意图。

图4为本实用新型实施例4的结构示意图。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本实用新型进行详细说明。以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本实用新型,但不以任何形式限制本实用新型。应当指出的是,对本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进。这些都属于本实用新型的保护范围。

实施例1

如图1所示,本实施例中使用了由两层玻璃以及夹持在两层玻璃之间的金属网构成的透明金属丝网玻璃1,其优点是在频段10mhz-1ghz屏蔽效能达到40db-60db,在频段1ghz-7ghz屏蔽效能达到30db-40db。

实施例2

如图2所示,本实施例中使用屏蔽舱2将显示器件与内部的辐射源、敏感源隔离开,从而减小开口的泄露。而将显示器件、操作器件等直接暴露在外部。这种方案的好处是,不影响人机交互。采用这个方案时,需要考虑穿过隔离舱的导线的处理,也就是穿过隔离舱的导线不能把机箱内的骚扰带出来。

实施例3

如图3所示,本实施例是对无屏蔽电表表头孔的处理,该方案是为面板表头的附加屏蔽结构(隔离舱),面板与附件屏蔽体(隔离舱)之间还加入了导电衬垫,以减小缝隙和改善电接触,穿过屏蔽体(隔离舱)的表头引线由装在屏蔽体上的穿心电容引入,使引线所感应的干扰信号被旁路接地。

实施例4

如图4所示,是对有屏蔽电表表头孔的处理,用带着屏蔽壳体的电表在面板上的安装结构,其特点是在电表的表头上再覆盖一层导电玻璃,以获得较为完善的屏蔽。

以上对本实用新型的具体实施例进行了描述。需要理解的是,本实用新型并不局限于上述特定实施方式,本领域技术人员可以在权利要求的范围内做出各种变形或修改,这并不影响本实用新型的实质内容。



技术特征:

1.一种可抑制电磁泄漏的电子设备观察窗口,其特征在于,该观察窗口采用透明屏蔽材料;

所述透明屏蔽材料为由两层玻璃以及夹持在两层玻璃之间的金属网构成的透明金属丝网玻璃。

2.根据权利要求1所述的一种可抑制电磁泄漏的电子设备观察窗口,其特征在于,电子设备观察窗口外包裹有一用于将其与设备的其他电路隔离开的隔离舱。


技术总结
本实用新型提供了一种可抑制电磁泄漏的电子设备观察窗口,该观察窗口采用透明屏蔽材料。所述透明屏蔽材料为由两层玻璃以及夹持在两层玻璃之间的金属网构成的透明金属丝网玻璃,或则为由玻璃层以及玻璃层上镀的导电层构成的镀膜玻璃。本实用新型可以减小电子设备在使用过程中的电磁泄漏问题,同时减小电子设备相互之间的电磁干扰,从而降低成本开支。

技术研发人员:蔡敏;王晓迪
受保护的技术使用者:华东计算技术研究所(中国电子科技集团公司第三十二研究所)
技术研发日:2019.03.07
技术公布日:2020.07.28
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