显示装置的制作方法

文档序号:33737896发布日期:2023-04-06 08:42阅读:33来源:国知局
显示装置的制作方法

实施例总体上涉及一种显示装置。更具体地,实施例涉及一种提供视觉信息的显示装置。


背景技术:

1、由于诸如重量轻和薄的特性,平板显示装置被用作替代阴极射线管显示装置的显示装置。这种平板显示装置的代表性示例是液晶显示装置(“lcd”)和有机发光显示装置(“oled”)。

2、显示装置可以包括其中设置功能模块的模块对应区域以及围绕模块对应区域并且其中设置发射结构的显示区域。这里,功能模块可以设置在显示装置中包括的基板的下表面上。已经开发出能够通过在模块对应区域中布置发射结构来显示图像的显示装置。


技术实现思路

1、实施例提供一种具有提高的显示质量的显示装置。

2、一种显示装置的实施例包括:基板,包括(功能)模块对应区域、与模块对应区域相邻的显示区域和在显示区域的一侧的像素电路区域;无机绝缘层,在基板上、在显示区域中;(光)相位补偿层,在基板上、在模块对应区域中,并且与无机绝缘层包括相同的材料;信号线,在相位补偿层上、在模块对应区域中,并且从模块对应区域延伸到像素电路区域;以及有机绝缘层,在无机绝缘层上并且从显示区域延伸到模块对应区域以覆盖信号线和相位补偿层。

3、在实施例中,显示装置可以进一步包括:蚀刻停止层,在模块对应区域中,在基板与相位补偿层之间,并且包括透明材料。

4、在实施例中,蚀刻停止层的蚀刻速率可以小于相位补偿层的蚀刻速率。

5、在实施例中,蚀刻停止层可以包括氧化铟镓锌(“igzo”)或非晶硅。

6、在实施例中,蚀刻停止层可以在整个模块对应区域中。

7、在实施例中,蚀刻停止层可以是与相位补偿层和信号线中的每一个重叠的图案。

8、在实施例中,信号线可以包括导电金属氧化物或透明导电材料。

9、在实施例中,透明导电材料可以包括氧化铟锡(“ito”)、氧化铟锌(“izo”)或氧化铟镓(“igo”)。

10、在实施例中,无机绝缘层可以包括氧化硅或氮化硅。

11、在实施例中,有机绝缘层的折射率可以大于相位补偿层的折射率并且小于信号线的折射率。

12、在实施例中,信号线的折射率可以是大约1.9或更大。

13、在实施例中,显示装置可以在基板的下表面上进一步包括模块对应区域中的功能模块。

14、在实施例中,功能模块可以包括摄像头模块、面部识别传感器模块、瞳孔识别传感器模块、加速度传感器模块、接近传感器模块、红外传感器模块或照度传感器模块。

15、在实施例中,显示装置可以进一步包括:像素电路结构,在基板上、在像素电路区域中,并且包括半导体元件;以及发射结构,在基板上、在模块对应区域中。

16、在实施例中,信号线可以电连接像素电路结构和发射结构。

17、一种显示装置的实施例包括:基板,包括模块对应区域、与模块对应区域相邻的显示区域和在显示区域的一侧的像素电路区域;第一无机绝缘层,在基板上、在显示区域和模块对应区域上;第二无机绝缘层,在第一无机绝缘层上、在显示区域中;相位补偿层,在基板上、在模块对应区域中,并且与第二无机绝缘层包括相同的材料;信号线,在相位补偿层上、在模块对应区域中,并且从模块对应区域延伸到像素电路区域;以及有机绝缘层,在第二无机绝缘层上并且从显示区域延伸到模块对应区域以覆盖信号线和相位补偿层。

18、在实施例中,显示装置可以进一步包括:蚀刻停止层,在第一无机绝缘层上、在模块对应区域中,并且包括透明材料。

19、在实施例中,蚀刻停止层的蚀刻速率可以小于相位补偿层的蚀刻速率。

20、在实施例中,蚀刻停止层可以包括氧化铟镓锌或非晶硅。

21、在实施例中,第一无机绝缘层和第二无机绝缘层中的每一个可以包括氧化硅或氮化硅。

22、在显示装置的一个或多个实施例中,由于包括无机绝缘材料的光相位补偿层在功能模块区域中,因此可以减少光斑现象的发生。

23、另外,由于包括透明材料的蚀刻停止层在基板与相位补偿层之间的功能模块区域中,因此可以改善大面积显示装置中的相位补偿层的厚度的不均匀性。



技术特征:

1.一种显示装置,包括:

2.根据权利要求1所述的显示装置,进一步包括:

3.根据权利要求2所述的显示装置,其中,

4.根据权利要求2所述的显示装置,其中,所述蚀刻停止层包括氧化铟镓锌或非晶硅。

5.根据权利要求4所述的显示装置,其中,所述蚀刻停止层在整个所述功能模块区域中。

6.根据权利要求4所述的显示装置,其中,所述功能模块区域中的所述蚀刻停止层限定与所述光相位补偿层和所述信号线中的每一个重叠的蚀刻停止图案。

7.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述信号线包括导电金属氧化物或透明导电材料。

8.根据权利要求7所述的显示装置,其中,所述透明导电材料包括氧化铟锡、氧化铟锌或氧化铟镓。

9.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述无机绝缘层包括氧化硅或氮化硅。

10.根据权利要求1所述的显示装置,其中,在所述功能模块区域内,

11.根据权利要求10所述的显示装置,其中,所述信号线的所述折射率是1.9或更大。

12.根据权利要求1所述的显示装置,在所述功能模块区域内,进一步包括:

13.根据权利要求12所述的显示装置,其中,所述功能模块包括摄像头模块、面部识别传感器模块、瞳孔识别传感器模块、加速度传感器模块、接近传感器模块、红外传感器模块或照度传感器模块。

14.根据权利要求1-13中任一项所述的显示装置,进一步包括:

15.根据权利要求14所述的显示装置,其中,所述信号线将所述像素电路区域的所述像素电路结构电连接到所述功能模块区域的所述发射结构。

16.一种显示装置,包括:

17.根据权利要求16所述的显示装置,进一步包括:

18.根据权利要求17所述的显示装置,其中,

19.根据权利要求17所述的显示装置,其中,所述蚀刻停止层包括氧化铟镓锌或非晶硅。

20.根据权利要求16-19中任一项所述的显示装置,其中,所述无机绝缘层包括氧化硅或氮化硅。


技术总结
显示装置包括显示区域、与显示区域相邻的像素电路区域以及在显示区域与像素电路区域之间的功能模块区域。无机绝缘层在显示区域中。光相位补偿层在功能模块区域中并且与无机绝缘层包括相同的材料。信号线设置在光相位补偿层上、在功能模块区域中,并且从功能模块区域延伸到像素电路区域。有机绝缘层在无机绝缘层上,并且从显示区域延伸到功能模块区域以覆盖信号线和光相位补偿层。

技术研发人员:金大洙,崔大元,吕伦钟
受保护的技术使用者:三星显示有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/12
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