本发明涉及电子,尤其涉及一种防静电线路板的制备方法。
背景技术:
1、在电子领域中,电路板是非常重要的元器件,因其连接导通运动的元器件,其表面常常带有电荷,这种电荷的释放往往会击穿电子元器件,传统的办法是将电路板内部加入esd(electro-static discharge,静电释放)导线,然而此种方法导电作用有限,同时,由于电路板越来越细小,其内部的空间往往不够再加入更多的线路,因而就迫切需要有一种新的办法可以解决上述问题。
技术实现思路
1、本发明实施例提供一种防静电线路板的制备方法,能够制造出具有良好防静电性能和物理机械性能的防静电线路板。
2、本发明一实施例提供一种防静电线路板的制备方法,包括:
3、提供一线路板;
4、在所述线路板的表面上沉积si层;
5、在所述si层上沉积dlc层,得到防静电线路板。
6、作为上述方案的改进,在所述在所述线路板的表面上沉积si层之前,还包括步骤:
7、对所述线路板的表面进行清洗。
8、作为上述方案的改进,所述在所述线路板的表面上沉积si层,具体包括:
9、将所述线路板放置在真空镀膜室中;
10、对所述真空镀膜室进行抽真空,使得所述真空镀膜内的真空度至少为0.8×10-3pa;
11、用带正电的氩气轰击所述真空镀膜室中的si靶,使得轰击出的si离子沉积于所述线路板的表面上。
12、作为上述方案的改进,所述用带正电的氩气轰击所述真空镀膜室中的si靶,使得轰击出的si离子沉积于所述线路板的表面上,具体包括:
13、向所述真空镀膜室内通入氩气,使得所述真空镀膜室内的气压控制在0.3-0.8pa;
14、开启所述真空镀膜室中的si靶,并在所述线路板上施加负偏压,使得氩气进行辉光放电形成带正电的氩气;其中,所述si靶的靶电流为1.0-1.5a,负偏压为100-150v,偏压频率为150-200khz;
15、用带正电的氩气轰击所述si靶,使得轰击出的si离子沉积于所述线路板的表面上;其中,沉积时间为5-15分钟。
16、作为上述方案的改进,所述si层的厚度为150-200纳米。
17、作为上述方案的改进,所述在所述si层上沉积dlc层,得到防静电线路板,具体包括:
18、向所述真空镀膜室内通入碳氢气体,使得所述真空镀膜室内的真空度达到2.5-4pa;
19、用离子枪对所述碳氢气体进行电离,产生碳等离子体;
20、通过所述碳等离子体在所述si层上沉积dlc层,得到防静电线路板。
21、作为上述方案的改进,所述离子枪所接通的电源为2000-2500v,电流为0.05-0.15a。
22、作为上述方案的改进,在所述通过所述碳等离子体在所述si层上沉积dlc层的步骤中,所述线路板上施加频率为130-170khz、电压为-120至-150v的偏压,沉积时间为20-30分钟。
23、作为上述方案的改进,所述碳氢气体为ch4、c2h2、c6h6和c4h10中的任意一种。
24、作为上述方案的改进,所述dlc层的厚度为1-500纳米。
25、与现有技术相比,本发明实施例公开的防静电线路板的制备方法,通过在线路板的表面上沉积si层,再在所述si层上沉积dlc层,其中,si层起到粘合作用,同时能够减少动能的冲击,dlc(diamond-like carbon,类金刚石)层起到防静电作用,同时还能提高线路板的耐磨和耐蚀性,由此,能够制造出具有良好防静电性能和物理机械性能的防静电线路板。
1.一种防静电线路板的制备方法,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的防静电线路板的制备方法,其特征在于,在所述在所述线路板的表面上沉积si层之前,还包括步骤:
3.如权利要求1所述的防静电线路板的制备方法,其特征在于,所述在所述线路板的表面上沉积si层,具体包括:
4.如权利要求3所述的防静电线路板的制备方法,其特征在于,所述用带正电的氩气轰击所述真空镀膜室中的si靶,使得轰击出的si离子沉积于所述线路板的表面上,具体包括:
5.如权利要求1所述的防静电线路板的制备方法,其特征在于,所述si层的厚度为150-200纳米。
6.如权利要求3所述的防静电线路板的制备方法,其特征在于,所述在所述si层上沉积dlc层,得到防静电线路板,具体包括:
7.如权利要求6所述的防静电线路板的制备方法,其特征在于,所述离子枪所接通的电源为2000-2500v,电流为0.05-0.15a。
8.如权利要求6所述的防静电线路板的制备方法,其特征在于,在所述通过所述碳等离子体在所述si层上沉积dlc层的步骤中,所述线路板上施加频率为130-170khz、电压为-120至-150v的偏压,沉积时间为20-30分钟。
9.如权利要求6所述的防静电线路板的制备方法,其特征在于,所述碳氢气体为ch4、c2h2、c6h6和c4h10中的任意一种。
10.如权利要求1所述的防静电线路板的制备方法,其特征在于,所述dlc层的厚度为1-500纳米。