一个或多个实施方式涉及显示设备和制造该显示设备的方法,并且更具体地,涉及在其制造工艺中具有减少的缺陷的显示设备、以及制造该显示设备的方法。
背景技术:
1、多个显示设备可以被布置成平铺类型以形成实现一图像的显示设备集或平铺显示设备。在这种平铺显示设备中,期望将多个显示设备之间的非显示区域的面积最小化,从而将多个显示设备的显示区域之间的距离最小化,以改善图像质量。在这种显示设备中,可以通过在衬底的下表面上布置惯常位于非显示区域中的部件并且经由形成在衬底的侧部上的布线将布置在衬底的上表面上的部件电连接到衬底的下表面上的部件,来减小非显示区域的面积。
技术实现思路
1、在显示设备中,在将通常位于非显示区域中的部件布置在衬底的下表面上,并且经由设置在衬底的一侧上的布线将布置在衬底的上表面上的部件电连接到在衬底的下表面上的部件的情况下,在显示设备的制造工艺中可能发生缺陷。
2、一个或多个实施方式包括可在制造工艺中减少缺陷率的显示设备。
3、根据一个或多个实施方式,制造显示设备的方法包括:将能够去除的第一膜附接到衬底的与衬底的侧表面相邻的上表面和下表面中的一个;对衬底的侧表面的第一区域进行亲水处理,其中,侧表面包括第一区域和第二区域;在对侧表面的第一区域进行亲水处理之后,在第一区域上设置有机膜图案;在设置有机膜图案之后,在第一区域和第二区域上设置金属层;以及通过去除有机膜图案和金属层的在第一区域上的部分来形成连接布线。
4、在实施方式中,对侧表面的第一区域进行亲水处理可以包括:对第一区域执行等离子体处理。
5、在实施方式中,对侧表面的第一区域进行亲水处理可以包括:将具有开口的掩模设置在衬底的侧表面上,使得开口与第一区域重叠;以及通过开口将从亲水性气体产生的等离子体排放到第一区域。
6、在实施方式中,对侧表面的第一区域进行亲水处理可以包括:在将排放出口从侧表面的一端移动到侧表面的另一端的同时,将从亲水性气体产生的等离子体从排放出口排放到第一区域。
7、在实施方式中,该方法还可以包括:在对侧表面的第一区域进行亲水处理之后且在设置有机膜图案之前对第二区域进行疏水处理。
8、在实施方式中,该方法还可以包括:将能够去除的第二膜附接到衬底的上表面和下表面中的另一个。
9、在实施方式中,设置有机膜图案可以包括:将有机膜图案的一端设置在第一膜上;以及将有机膜图案的另一端设置在第二膜上。
10、在实施方式中,形成连接布线可以包括:将第一膜和第二膜从衬底剥离。
11、在实施方式中,形成连接布线可以包括:将第一膜从衬底剥离。
12、在实施方式中,形成连接布线可以包括:将衬底的温度升高到预设温度或以上;以及随之去除有机膜图案和金属层的在第一区域上的部分。
13、在实施方式中,第一区域可以具有锯齿形状。
14、在实施方式中,对侧表面的第一区域进行亲水处理可以包括:将具有锯齿形状的开口的掩模设置在衬底的侧表面上,使得开口与第一区域重叠;以及通过具有锯齿形状的开口将从亲水性气体产生的等离子体排放到第一区域。
15、在实施方式中,形成连接布线可以包括:将第一膜从衬底剥离,其中,连接布线具有锯齿形状。
16、根据一个或多个实施方式,制造显示设备的方法包括:将能够去除的第一膜附接到衬底的与衬底的侧表面相邻的上表面和下表面中的一个;对衬底的侧表面的第二区域进行疏水处理,其中,侧表面包括第一区域和第二区域;在对侧表面的第二区域进行疏水处理之后,在第一区域上设置有机膜图案;在设置有机膜图案之后,在第一区域和第二区域上设置金属层;以及通过去除有机膜图案和金属层的在第一区域上的部分来形成连接布线。
17、在实施方式中,对侧表面的第二区域进行疏水处理可以包括:对第二区域执行等离子体处理。
18、在实施方式中,对侧表面的第二区域进行疏水处理可以包括:将具有开口的掩模设置在衬底的侧表面上,使得开口与第二区域重叠;以及通过开口将从疏水性气体产生的等离子体排放到第二区域。
19、在实施方式中,对侧表面的第二区域进行疏水处理可以包括:在将排放出口从侧表面的一端移动到侧表面的另一端的同时,将从疏水性气体产生的等离子体从排放出口排放到第二区域。
20、在实施方式中,该方法还可以包括:将能够去除的第一遮蔽膜附接到衬底的与衬底的侧表面相邻的上表面和下表面中的一个;以及将能够去除的第二遮蔽膜附接到衬底的上表面和下表面中的另一个。
21、根据一个或多个实施方式,显示设备包括:衬底;晶体管层,设置在衬底上;以及连接布线,设置在衬底的上表面、衬底的下表面、以及衬底的将上表面连接到下表面的侧表面,其中,当从垂直于侧表面的方向观察时,连接布线具有锯齿形状,并且连接布线电连接到晶体管层。
22、在实施方式中,侧表面可以包括与上表面相邻的第一倒角表面、与下表面相邻的第二倒角表面、以及在第一倒角表面和第二倒角表面之间的中心表面。
1.制造显示设备的方法,所述方法包括:
2.根据权利要求1所述的方法,其中,对所述侧表面的所述第一区域进行亲水处理包括:对所述第一区域执行等离子体处理。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,对所述侧表面的所述第一区域进行亲水处理包括:
4.根据权利要求1所述的方法,其中,对所述侧表面的所述第一区域进行亲水处理包括:在将排放出口从所述侧表面的一端移动到所述侧表面的另一端的同时,将从亲水性气体产生的等离子体从所述排放出口排放到所述第一区域。
5.根据权利要求1所述的方法,还包括:
6.根据权利要求1所述的方法,还包括:
7.根据权利要求6所述的方法,其中,设置所述有机膜图案包括:
8.根据权利要求7所述的方法,其中,形成所述连接布线包括:将所述第一膜和所述第二膜从所述衬底剥离,以去除所述有机膜图案和所述金属层的在所述第一区域上的所述部分。
9.根据权利要求7所述的方法,其中,形成所述连接布线包括:将所述第一膜从所述衬底剥离,以去除所述有机膜图案和所述金属层的在所述第一区域上的所述部分。
10.根据权利要求1所述的方法,其中,形成所述连接布线包括:
11.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一区域具有锯齿形状。
12.根据权利要求11所述的方法,其中,对所述侧表面的所述第一区域进行亲水处理包括:
13.根据权利要求11所述的方法,其中,形成所述连接布线包括:将所述第一膜从所述衬底剥离,其中,所述连接布线具有所述锯齿形状。
14.制造显示设备的方法,所述方法包括:
15.根据权利要求14所述的方法,其中,对所述侧表面的所述第二区域进行疏水处理包括:对所述第二区域执行等离子体处理。
16.根据权利要求14所述的方法,其中,对所述侧表面的所述第二区域进行疏水处理包括:
17.根据权利要求14所述的方法,其中,对所述侧表面的所述第二区域进行疏水处理包括:在将排放出口从所述侧表面的一端移动到所述侧表面的另一端的同时,将从疏水性气体产生的等离子体从所述排放出口排放到所述第二区域。
18.根据权利要求14所述的方法,还包括:
19.显示设备包括:
20.根据权利要求19所述的显示设备,其中,所述侧表面包括与所述上表面相邻的第一倒角表面、与所述下表面相邻的第二倒角表面、以及在所述第一倒角表面和所述第二倒角表面之间的中心表面。