显示设备以及显示设备的制造方法与流程

文档序号:35580972发布日期:2023-09-27 05:40阅读:52来源:国知局
显示设备以及显示设备的制造方法与流程

本发明的一个方式涉及一种显示装置。本发明的一个方式涉及一种显示装置的制造方法。注意,本发明的一个方式不局限于上述。作为本说明书等所公开的本发明的一个方式的的例子,可以举出半导体装置、显示装置、发光装置、蓄电装置、存储装置、电子设备、照明装置、输入装置、输入输出装置、这些装置的驱动方法或这些装置的制造方法。半导体装置是指能够通过利用半导体特性而工作的所有装置。


背景技术:

1、近年来,显示装置被用于智能手机、平板终端、笔记本型pc(个人计算机)等信息终端设备、电视装置、显示器装置等各种设备。此外,被要求一种显示装置,即不仅能够显示图像而且具有各种功能,诸如作为触摸传感器的功能、拍摄指纹以进行识别的功能等的显示装置。

2、作为显示装置,例如已开发了包括发光元件(也称为发光器件)的发光装置。尤其是,利用电致发光(el:electroluminescence)现象的发光元件(也称为“el元件”或“el器件”)具有容易实现薄型轻量化;能够高速地响应输入信号;以及能够使用直流稳压电源等而驱动等特征,并且上述发光元件已被应用于显示装置。例如,专利文献1公开了使用有机el元件(也称为有机el器件)的具有柔性的发光装置。

3、[先行技术文献]

4、[专利文献]

5、[专利文献1]日本专利申请公开第2014-197522号公报


技术实现思路

1、发明所要解决的技术问题

2、本发明的一个方式是提供一种具有检测出接触或接近显示部的物体的功能的显示装置及其制造方法。本发明的一个方式是提供一种具有进行识别的功能的显示装置及其制造方法。本发明的一个方式是提供一种开口率高的显示装置及其制造方法。本发明的一个方式是提供一种小型显示装置及其制造方法。本发明的一个方式是提供一种可靠性高的显示装置及其制造方法。本发明的一个方式是提供一种新颖显示装置及其制造方法。

3、注意,这些目的的记载不妨碍其他目的的存在。注意,本发明的一个方式并不需要实现所有上述目的。另外,可以从说明书、附图、权利要求书等的记载抽出上述以外的目的。

4、解决技术问题的手段

5、本发明的一个方式是一种显示装置,该显示装置包括发光元件及受光元件,发光元件包括第一像素电极、第一功能层、发光层、公共层及公共电极,受光元件包括第二像素电极、第二功能层、受光层、公共层及公共电极,第一功能层包括空穴注入层和电子注入层中的一个,第二功能层包括空穴传输层和电子传输层中的一个,在发光元件中公共层被用作空穴注入层和电子注入层中的另一个。

6、另外,在上述方式中,第一功能层和第二功能层也可以彼此分离。

7、另外,在上述方式中,也可以还包括第一晶体管及第二晶体管,第一晶体管的源极和漏极中的一个也可以与第一像素电极电连接,第二晶体管的源极和漏极中的一个也可以与第二像素电极电连接,第一晶体管及第二晶体管也可以在沟道形成区域中含有硅或金属氧化物。

8、另外,本发明的一个方式是一种显示装置的制造方法,包括如下步骤:形成第一像素电极、第二像素电极及连接电极的第一工序;在第一像素电极上及第二像素电极上沉积发光膜的第二工序;在发光膜上及连接电极上形成第一牺牲膜的第三工序;对第一牺牲膜及发光膜进行蚀刻而使第二像素电极露出,且在第一像素电极上形成发光层和发光层上及连接电极上的第一牺牲层的第四工序;在发光层上及第二像素电极上沉积受光膜的第五工序;在受光膜上及连接电极上形成第二牺牲膜的第六工序;对第二牺牲膜及受光膜进行蚀刻,形成第二像素电极上的受光层和受光层上及连接电极上的第二牺牲层的第七工序;去除第一牺牲层及第二牺牲层的第八工序;在发光层上及受光层上形成公共层的第九工序;以及以具有与公共层及连接电极接触的区域的方式形成公共电极的第十工序。

9、另外,在上述方式中,公共层在包括第一像素电极、发光层、公共层及公共电极的发光元件中也可以被用作空穴注入层和电子注入层中的一个。

10、另外,在上述方式中,在第一工序与第二工序之间也可以包括在第一像素电极上及第二像素电极上沉积第一功能膜的第十一工序,在第四工序中也可以对第一功能膜进行蚀刻,形成第一像素电极上的第一功能层,在第四工序与第五工序之间也可以包括在第一牺牲层上及第二像素电极上沉积第二功能膜的第十二工序,在第七工序中也可以对第二功能膜进行蚀刻,形成第二像素电极上的第二功能层,第一功能层也可以包括空穴注入层和电子注入层中的另一个,第二功能层也可以包括空穴传输层和电子传输层中的一个。

11、另外,在上述方式中,发光膜、受光膜及公共层也可以通过使用遮蔽掩模的蒸镀法形成。

12、另外,在上述方式中,第一牺牲膜和第二牺牲膜也可以包括相同的金属膜、合金膜、金属氧化物膜、半导体膜或无机绝缘膜,在第四工序中发光膜也可以通过使用不包含氧作为主要成分的蚀刻气体的干蚀刻被蚀刻,在第八工序中第一牺牲层及第二牺牲层也可以通过使用四甲基氢氧化铵水溶液、稀氢氟酸、草酸、磷酸、乙酸、硝酸或它们的混合液体的湿蚀刻被去除。

13、另外,在上述方式中,第一牺牲膜及第二牺牲膜也可以包含氧化铝。

14、另外,在上述方式中,也可以还包括第十工序之后的在公共电极上形成保护层的第十四工序。

15、发明效果

16、根据本发明的一个方式可以提供一种具有检测出接触或接近显示部的物体的功能的显示装置及其制造方法。根据本发明的一个方式可以提供一种具有进行识别的功能的显示装置及其制造方法。根据本发明的一个方式可以提供一种开口率高的显示装置及其制造方法。根据本发明的一个方式可以提供一种小型显示装置及其制造方法。根据本发明的一个方式可以提供一种可靠性高的显示装置及其制造方法。根据本发明的一个方式可以提供一种新颖显示装置及其制造方法。

17、注意,这些效果的记载不妨碍其他效果的存在。此外,本发明的一个方式并不需要具有所有上述效果。另外,可以从说明书、附图、权利要求书等的记载抽出上述以外的效果。



技术特征:

1.一种显示装置,包括:

2.根据权利要求1所述的显示装置,

3.根据权利要求1或2所述的显示装置,还包括:

4.根据权利要求1或2所述的显示装置,还包括:

5.一种显示装置的制造方法,包括如下步骤:

6.根据权利要求5所述的显示装置的制造方法,

7.根据权利要求6所述的显示装置的制造方法,

8.根据权利要求5至7中任一项所述的显示装置的制造方法,

9.根据权利要求5至8中任一项所述的显示装置的制造方法,

10.根据权利要求9所述的显示装置的制造方法,

11.根据权利要求5至10中任一项所述的显示装置的制造方法,


技术总结
提供一种具有检测出接触或靠近显示部的物体的功能的显示装置。显示装置包括发光元件及受光元件。发光元件包括第一像素电极、第一功能层、发光层、公共层及公共电极,受光元件包括第二像素电极、第二功能层、受光层、公共层及公共电极。第一功能层包括空穴注入层和电子注入层中的一个,第二功能层包括空穴传输层和电子传输层中的一个。在发光元件中公共层被用作空穴注入层和电子注入层中的另一个,在受光元件中被用作空穴传输层和电子传输层中的另一个。

技术研发人员:久保田大介,初见亮,新仓泰裕,山崎舜平
受保护的技术使用者:株式会社半导体能源研究所
技术研发日:
技术公布日:2024/1/15
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